一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备的制作方法

技术特征：

1.一种制备腔室，其特征在于，所述制备腔室为密闭腔室，所述制备腔室包括主腔室和副腔室，所述主腔室的出口端和副腔室的进口端连通，所述制备腔室的部分底面向下凹陷形成液体气密池，且主腔室出口端和副腔室的进口端均位于液体气密池的液位以下；

所述副腔室的出口端设置有弹性气密组件。

2.根据权利要求1所述的制备腔室，其特征在于，所述液体气密池包括相互套接刻蚀槽和清洗槽；

所述清洗槽为制备腔室部分底面向下凹陷形成的结构；

所述制备腔室内设置有隔板，该隔板将制备腔室分割成主腔室和副腔室；

隔板其中一侧与清洗槽的侧壁构成主腔室的出口端，其另一侧与清洗槽的侧壁构成副腔室的进口端；

隔板的下端插接在刻蚀槽中，且隔板下端位于刻蚀槽液位以下。

3.根据权利要求2所述的制备腔室，其特征在于，所述刻蚀槽内设置有刻蚀剂，所述清洗槽内设置有去离子水；

所述刻蚀槽的内表面，以及隔板的下端设置有防腐层。

4.根据权利要求2所述的制备腔室，其特征在于，所述刻蚀槽内设置有超声波发生器。

5.根据权利要求1所述的制备腔室，其特征在于，所述副腔室的出口端与弹性气密件闭连接的；

所述弹性气密件上设置有传送带组件上设置有供传送带组件穿过的通道；

所述弹性气密组件还包括加紧部，所述加紧部向弹性气密件施加压力，以控制通道与传送带组件之间的间距。

6.根据权利要求5所述的制备腔室，其特征在于，所述弹性气密件包括从从上到下依次设置的第一垫板、第二垫板、第三垫板和第四垫板；

第二垫板和第三垫板之间，以及第三垫板和第四垫板之间设置有传送带组件通道。

7.根据权利要求6所述的制备腔室，其特征在于，所述加紧部包括拉杆和拖杆支架；

所述第二垫板、第三垫板和第四垫板上均插接有拖杆支架；

所述拉杆固定在副腔室的出口端，并且拉杆上设置有多个调节组件，每个拖杆支架均对应一个调节组件；

调节组件包括一对螺母，以及设置在两螺母之间的弹簧，调节组件与垫板配合时，垫板套设在拉杆上并且垫板被夹持在弹簧和螺母之间。

8.根据权利要求7所述的制备腔室，其特征在于，所述加紧部还包括紧密螺栓，第一垫板通过紧密螺栓设置在副腔室的出口端。

9.根据权利要求1所述的制备腔室，其特征在于，所述副腔室出口端朝向弹性气密件一侧具有压花结构。

10.一种cvd沉积石墨烯的规模化制备设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任意一项所述的制备腔室。

技术总结
本发明涉及石墨烯制取设备技术领域，尤其是涉及一种制备腔室及CVD沉积石墨烯的规模化制备设备。制备腔室为密闭腔室，所述制备腔室包括主腔室和副腔室，所述主腔室的出口端和副腔室的进口端连通，所述制备腔室的部分底面向下凹陷形成液体气密池，且主腔室出口端和副腔室的进口端均位于液体气密池的液位以下；所述副腔室的出口端设置有弹性气密组件。通过去液体气密池够对制备腔室形成第一道密封，通过弹性气密组件能够对制备腔室形成第二道密封。通过弹性气密组件进行二次密封的作用，防止在制备腔室抽真空时，因去离子水和刻蚀液的液位发生变化导致的第一道密封失效。

技术研发人员：孙华
受保护的技术使用者：孙华
技术研发日：2021.01.28
技术公布日：2021.05.11