一种含温敏和可降解链段三嵌段共聚物、制备方法及纳米薄膜与流程

文档序号:12151615阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种含温敏和可降解链段三嵌段共聚物,其特征在于,第一链段为PLA,具有可降解性;第二链段为PNIPAM,具有温敏性;第三嵌段为PS,具有疏水性和机械强度。

2.一种含温敏和可降解链段三嵌段共聚物的制备方法,其特征在于,以苯甲醇为引发剂,辛酸亚锡为催化剂,在甲苯溶剂中引发丙交酯的开环聚合,得到端羟基的聚乳酸PLA(PLA-OH);在草酰氯的作用下,在二氯甲烷溶剂中,将PLA-OH与酰氯化的DMP反应得到大分子链转移剂PLA-TC;然后以AIBN为引发剂,PLA-TC为链转移剂,分别将NIPAM和St单体进行RAFT聚合得到PLA-PNIPAM-PS。

3.可选的根据权利要求2所述的制备方法,所述聚乳酸为聚(D,L-乳酸)、聚(D-乳酸)或者聚(L-乳酸)中的任意一种或多种。

4.一种纳米薄膜的制备方法,其特征在于,将权利要求1中所述的含温敏和可降解链段三嵌段共聚物溶于氯苯中,滴在硅晶片上,旋涂成膜,将制得的薄膜在热场或溶剂场中退火。

5.一种纳米薄膜的制备方法,其特征在于,将权利要求4所述的纳米薄膜中的链段PLA蚀刻掉,得到孔壁挂有PNIPAM链段的PS纳米多孔膜。

6.根据权利要求5所述的纳米薄膜的制备方法,通过温度控制调节膜孔径。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1