一种基于分散染料改性的抗紫外处理剂及其制备方法与流程

技术特征：

1.一种基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法的工艺步骤和条件如下：

(1)将八聚倍半硅氧烷和分散染料分别研磨成粒径为0.5～1μm的粉末，将0.6～3份八聚倍半硅氧烷与0.3～3.2份分散染料混合均匀，在氮气氛围下，连同0.15～0.45份催化剂一起加入60～500份有机溶剂Ⅰ中搅拌直至充分溶解，然后升温回流反应18～30小时；

(2)将混合液冷却至5℃以下，然后加入0.3～1.9份有机溶剂Ⅱ中搅拌均匀，减压过滤，滤液减压蒸馏去除溶剂得到抗紫外处理剂粗产物；

(3)将抗紫外处理剂粗产物加入130～790份萃取剂中，回流萃取18～30小时，再进行减压过滤，最后对滤液进行减压蒸馏即可得到精制的抗紫外处理剂，

以上所用物料的份数均为重量份。

2.根据权利要求1所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的八聚倍半硅氧烷具体为八乙烯基倍半硅氧烷、八丙烯基倍半硅氧烷和八丁烯基倍半硅氧烷中的至少一种，其结构式如下：

式中R为-CH＝CH₂、-CH₂CH＝CH₂和-CH₂CH₂CH＝CH₂中的至少一种。

3.根据权利要求1或2所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的分散染料为分散红60或分散黄42。

4.根据权利要求1或2所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的有机溶剂Ⅰ为四氯化碳、二硫化碳和苯中的至少一种；所用的有机溶剂Ⅱ为三乙胺、二乙胺和二氯甲烷中的至少一种。

5.根据权利要求3所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的有机溶剂Ⅰ为四氯化碳、二硫化碳和苯中的至少一种；所用的有机溶剂Ⅱ为三乙胺、二乙胺和二氯甲烷中的至少一种。

6.根据权利要求1或2所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的催化剂为无水氯化铁、无水氯化镁和无水氯化铝中的至少一种；所用的萃取剂为三氯甲烷、二氯甲烷和甲苯中的至少一种。

7.根据权利要求3所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的催化剂为无水氯化铁、无水氯化镁和无水氯化铝中的至少一种；所用的萃取剂为三氯甲烷、二氯甲烷和甲苯中的至少一种。

8.根据权利要求5所述的基于分散染料改性的抗紫外处理剂的制备方法，其特征在于该方法中所用的催化剂为无水氯化铁、无水氯化镁和无水氯化铝中的至少一种；所用的萃取剂为三氯甲烷、二氯甲烷和甲苯中的至少一种。

9.一种由权利要求1所述方法制备的基于分散染料改性的抗紫外处理剂，该处理剂的结构通式如下：

式中：R为-CH＝CH₂、-CH₂CH＝CH₂和-CH₂CH₂CH＝CH₂中的至少一种，数量为7至0个或R’为-CH₂-CH₂-、-CH₂CH₂-CH₂-或-CH₂CH₂CH₂-CH₂-中的至少一种，数量为1至8个；其红外吸收光谱于588cm^-1，1109cm^-1和782cm^-1处出现了分别代表Si–O–Si和Si–C伸缩振动峰，于3068，2962cm^-1和1460cm^-1处出现了分别代表-CH₂–CH₂-、-CH₂–CH₂–CH₂-或-CH₂–CH₂–CH₂–CH₂-伸缩和弯曲振动峰；其²⁹Si NMR谱图中于-109.63ppm处出现了代表POSS结构中硅原子的振动峰；在其溶液的紫外-可见光吸收光谱中波长300nm以下出现了吸收峰。