技术总结
本发明公开的一种基于分散染料改性的抗紫外处理剂的结构通式如下：其红外吸收光谱于588cm‑1，1109cm‑1和782cm‑1处出现了分别代表Si–O–Si和Si–C伸缩振动峰，于3068，2962cm‑1和1460cm‑1处出现了分别代表‑CH2–CH2‑、‑CH2–CH2–CH2‑或‑CH2–CH2–CH2–CH2‑伸缩和弯曲振动峰；其29Si NMR谱图中于‑109.63ppm处出现了代表POSS结构中硅原子的振动峰；在其溶液的紫外‑可见光吸收光谱中波长300nm以下出现了吸收峰。本发明还公开了其制备方法。本发明所得抗紫外处理剂不仅可通过高温高压处理法将抗紫外处理剂借助染料分子牢固镶嵌在纤维浅表层，达到固着于纤维上的目的，以发挥持久的抗紫外功能，且还能同时实现对合成纤维的染色。
技术研发人员：冒亚红;管宇
受保护的技术使用者：成都纺织高等专科学校
文档号码：201610850505
技术研发日：2016.09.26
技术公布日：2017.02.22