清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置制造方法
【专利摘要】本实用新型属于清洗设备【技术领域】，涉及一种清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置。它包括电机驱动机构，所述的电机驱动机构的输出端连接涡轮组件，所述的涡轮组件啮合蜗杆组件，所述的蜗杆组件包括中空的蜗杆，蜗杆的一端密封连接具有进水口的旋转轴组件，另一端可拆卸的连接喷杆，所述的喷杆的端部密封且喷杆的侧壁设有若干喷嘴。本实用新型结构简单，能进行360°旋转清洗，清洗效率高、速度快。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型属于清洗设备【技术领域】，涉及一种清洗用的高压水喷杆装置，尤其涉 及一种清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置。 清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置
【背景技术】
[0002] 多晶娃（polycrystalline silicon)有灰色金属光泽，密度 2. 32-2. 34g/cm3。烙 点14KTC。沸点2355°C。溶于氢氟酸和硝酸的混酸中，不溶于水、硝酸和盐酸。硬度介于 锗和石英之间，室温下质脆，切割时易碎裂。加热至800°C以上即有延性，1300°C时显出明 显变形。常温下不活泼，高温下与氧、氮、硫等反应。高温熔融状态下，具有较大的化学活泼 性，能与几乎任何材料作用。具有半导体性质，是极为重要的优良半导体材料，但微量的杂 质即可大大影响其导电性。电子工业中广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、 录像机、电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在一定条件下氯化，再经 冷凝、精馏、还原而得。
[0003] 多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法，无论是哪种方法，都需要将多 晶硅进行冷却结晶沉淀，在这个过程中，需要用到反应釜或流化床进行结晶，目前以使用反 应釜结晶较多。结晶完成后，需要对反应釜进行清洗，如清洗不完全，则会导致下次结晶时 杂质含量较多或结晶不完全。现有的清洗工序通常是人工用水枪进行冲洗，冲洗时间较长， 且无法对反应釜内部进行360°冲洗，因此反应釜清洗不完全导致的质量事故时有发生。
[0004] 人们经过不断的的探索，提出了各种各样的解决方案，如中国专利文献公开了一 种喷杆结构[申请号：201220462149. 8]，包括进水座、调整座、固定螺母以和喷嘴套，所述 进水座依序包括连接段、止挡段、接合段与外螺纹段，所述连接段与所述止挡段之内部轴向 贯穿有一螺孔，所述接合段径向设有一凹槽，所述凹槽内设有一弹性件与一球体，所述外螺 纹段轴向设有第一容槽、第二容槽与第三容槽，所述第一容槽、第二容槽与第三容槽分别透 过第一水道、第二水道与第三水道连通螺孔，所述第一容槽内设有第一滚珠，所述第二容槽 内设有第二滚珠等。上述方案通过第一定位槽、第二定位槽、第三定位槽配合球体可使喷嘴 套定位，以快速切换不同的喷洒模式，且喷嘴套外缘之第一凸缘、第二凸缘与第三凸缘，可 引导使用者调整至需要之喷洒模式，又喷嘴套、调整座与进水座互相搭配，当转动喷嘴套则 会同时带动调整座旋转，并使水从第一喷嘴、第二喷嘴或第三喷嘴喷出，进而达到简便变换 不同喷洒模式和降低整体结构复杂度之功效。
[0005] 但上述方案的出水口仍然仅限于端部，无法实现360°的快速清洗，当用于多晶硅 反应釜清洗时，清洗效率较低。
【发明内容】
[0006] 本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种清洗效率高、清洗效果好的清洗多 晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置。
[0007] 为达到上述目的，本实用新型采用了下列技术方案：一种清洗多晶硅反应釜的高 压旋转喷杆装置，包括电机驱动机构，所述的电机驱动机构的输出端连接涡轮组件，所述的 涡轮组件啮合蜗杆组件，所述的蜗杆组件包括中空的蜗杆，蜗杆的一端密封连接具有进水 口的旋转轴组件，另一端可拆卸的连接喷杆，所述的喷杆的端部密封且喷杆的侧壁设有若 干喷嘴。
[0008] 在上述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置中，所述的电机驱动机构通过减 速机连接涡轮组件，所述的涡轮组件包括与减速机的输出轴固接的涡轮，涡轮与蜗杆啮合。
[0009] 在上述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置中，所述的旋转轴组件包括中空 的旋转轴，旋转轴的一端设有进水口，旋转轴远离进水口的另一端与蜗杆紧密接触且旋转 轴与蜗杆的接触部外面套设有密封函组件。
[0010] 在上述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置中，所述的旋转轴和蜗杆外还套 设有机座套，且旋转轴的进水口和蜗杆的一端延伸出机座套外，蜗杆延伸出机座套外的一 端通过法兰组件连接喷杆。
[0011] 在上述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置中，所述的喷杆的端部用堵头密 封。
[0012] 在上述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置中，所述的减速机通过连接件与 机座套固定连接，且减速机的输出轴与连接件活动连接，所述的喷杆与连接件活动连接。
[0013] 与现有的技术相比，本实用新型的优点在于：结构简单，能进行360°旋转清洗， 清洗效率高、速度快。
【专利附图】
【附图说明】
[0014] 图1是本实用新型提供的结构示意图。
[0015] 图中：电机驱动机构1、涡轮组件2、涡轮21、蜗杆组件3、蜗杆31、旋转轴组件4、旋 转轴40、进水口 41、喷杆5、喷嘴51、堵头52、减速机6、密封函组件7、机座套8、法兰组件9、 连接件10。
【具体实施方式】
[0016] 下面结合附图和【具体实施方式】对本实用新型做进一步详细的说明。
[0017] 如图1所示，一种清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，包括电机驱动机构1， 电机驱动机构1包括电机，所述的电机驱动机构1的输出端连接涡轮组件2,所述的涡轮组 件2啮合蜗杆组件3,当电机驱动涡轮组件2转动时，与涡轮组件2啮合的蜗杆组件3随之 转动，且涡轮组件2与蜗杆组件3的旋转面垂直，所述的蜗杆组件3包括中空的蜗杆31，蜗 杆31的一端密封连接具有进水口 41的旋转轴组件4,另一端可拆卸的连接喷杆5,所述的 喷杆5的端部密封且喷杆5的侧壁设有若干喷嘴51，当然也可以不设喷嘴51而直接在喷 杆5上开设若干小孔，优选的，喷嘴51设置在喷杆5的侧壁上且喷嘴51不在同一直线上， 这样，当喷嘴51喷出高压水时，具有较大的覆盖面。
[0018] 在工作时，电机驱动机构1驱动涡轮组件2转动，并驱动蜗杆组件3转动，由于蜗 杆组件3与喷杆5连接，因此喷杆5也开始转动，将进水口 41连接高压水发生器，高压水依 次通过旋转轴组件4、蜗杆组件3和喷杆5,并从喷嘴51喷出高压水，由于喷杆5是转动的， 因此可以对多晶硅反应釜的各个角度进行清洗，从而将多晶硅反应釜彻底清洗干净。在上 述过程中，旋转轴组件4是静止的，蜗杆组件3与旋转轴组件4密封连接，因此高压水不会 从旋转轴组件4与蜗杆组件3的连接处溢出。
[0019] 电机驱动机构1通过减速机6连接涡轮组件2，减速机6将电机驱动机构1的转速 变慢，防止转动过快导致漏水或烧坏电机驱动机构1，所述的涡轮组件2包括与减速机6的 输出轴固接的涡轮21，涡轮21与蜗杆31啮合。
[0020] 旋转轴组件4包括中空的旋转轴40,旋转轴40的一端设有进水口 41，旋转轴40 远离进水口 41的另一端与蜗杆31紧密接触且旋转轴40与蜗杆31的接触部外面套设有密 封函组件7,密封函组件7可以采用夹套加密封圈的方式进行密封，而作为优选的，旋转轴 40与密封函组件7的接触面采用搪塑工艺进行处理，从而进一步提高密封效果，当然，也可 以采用四氟乙烯材料进行密封。
[0021] 旋转轴40和蜗杆31外还套设有机座套8,机座套8起到固定作用，从而可以将整 个装置固定在某个位置，便于更好的进行清洗作业，且旋转轴40的进水口 41和蜗杆31的 一端延伸出机座套8外，蜗杆31延伸出机座套8外的一端通过法兰组件9连接喷杆5。减 速机6通过连接件10与机座套8固定连接，且减速机6的输出轴与连接件10活动连接，所 述的喷杆5与连接件10活动连接，连接件10可采用法兰件，便于采购和替换。
[0022] 如前所述，喷杆5的端部是密封的，作为一种优选的方案，喷杆5的端部用堵头52 密封，堵头52与喷杆5可拆卸的连接，便于拆卸清洗喷杆5内部。
[0023] 本实用新型在清洗作业时，通常将喷杆5伸入到多晶硅反应釜内部，通过喷杆5的 转动，喷嘴51沿喷杆5的周向转动，实现喷嘴51的出水面的360°覆盖，当然，也可以通过 喷杆5的上下或左右移动，对反应釜内部的死角进行重点清洗。本实用新型结构简单，但在 清洗时喷杆能进行360°旋转，从而完成对多晶硅反应釜的彻底清洗，清洗作业效率高、效 果好，清洗成本低。
[0024] 本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所 属【技术领域】的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似 的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
[0025] 尽管本文较多地使用了电机驱动机构1、涡轮组件2、涡轮21、蜗杆组件3、蜗杆31、 旋转轴组件4、旋转轴40、进水口 41、喷杆5、喷嘴51、堵头52、减速机6、密封函组件7、机座 套8、法兰组件9、连接件10等术语，但并不排除使用其它术语的可能性。使用这些术语仅 仅是为了更方便地描述和解释本实用新型的本质；把它们解释成任何一种附加的限制都是 与本实用新型精神相违背的。
【权利要求】
1. 一种清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，包括电机驱动机构（1)，所述的电机 驱动机构（1)的输出端连接涡轮组件（2)，所述的涡轮组件（2)啮合蜗杆组件（3)，其特征 在于，所述的蜗杆组件（3)包括中空的蜗杆（31)，蜗杆（31)的一端密封连接具有进水口 (41)的旋转轴组件（4)，另一端可拆卸的连接喷杆（5)，所述的喷杆（5)的端部密封且喷杆 (5) 的侧壁设有若干喷嘴（51)。
2. 根据权利要求1所述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，其特征在于，所述 的电机驱动机构（1)通过减速机（6)连接涡轮组件（2)，所述的涡轮组件（2)包括与减速机 (6) 的输出轴固接的涡轮（21)，涡轮（21)与蜗杆（31)啮合。
3. 根据权利要求2所述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，其特征在于，所述 的旋转轴组件（4)包括中空的旋转轴（40)，旋转轴（40)的一端设有进水口（41)，旋转轴 (40)远离进水口（41)的另一端与蜗杆（31)紧密接触且旋转轴（40)与蜗杆（31)的接触部 外面套设有密封函组件（7)。
4. 根据权利要求3所述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，其特征在于，所述 的旋转轴（40)和蜗杆（31)外还套设有机座套（8)，且旋转轴（40)的进水口（41)和蜗杆 (31)的一端延伸出机座套（8)外，蜗杆（31)延伸出机座套（8)外的一端通过法兰组件（9) 连接喷杆（5)。
5. 根据权利要求1或2或3或4所述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，其特 征在于，所述的喷杆（5)的端部用堵头（52)密封。
6. 根据权利要求2或3或4所述的清洗多晶硅反应釜的高压旋转喷杆装置，其特征在 于，所述的减速机（6)通过连接件（10)与机座套（8)固定连接，且减速机（6)的输出轴与 连接件（10)活动连接，所述的喷杆（5)与连接件（10)活动连接。
【文档编号】B05B3/10GK203899791SQ201420275392
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月26日 优先权日:2014年5月26日
【发明者】绳钦国 申请人:浙江德清宝丰射流系统工程有限公司