，预磨用组合物中包含的磨粒的比表面积优选为5m 2/ g以上。随着磨粒的比表面积增大，容易得到低缺陷且粗糙度小的表面。需要说明的是，磨 粒的比表面积的测定例如可以使用Micromeritics制造的"Flow Sorb II 2300"进行。
[0071] 预磨用组合物中的磨粒的含量优选为0. 5质量％以上，更优选为1质量％以上。随 着磨粒的含量增多，基于研磨用组合物的合金材料的研磨速度提高。
[0072] 预磨用组合物中的磨粒的含量优选为20质量％以下，更优选为10质量％以下。随 着磨粒的含量减少，在研磨用组合物的制造成本降低的基础上，还容易通过使用研磨用组 合物的研磨而得到划痕少的表面。
[0073] 预磨用组合物的pH与研磨用组合物的pH同样，因所研磨的合金的种类而异。预 磨用组合物中的pH可通过公知的酸、碱、或它们的盐调节。其中，作为酸而使用有机酸，尤 其是乙醇酸、琥珀酸、马来酸、柠檬酸、酒石酸、苹果酸、葡糖酸、和衣康酸时，通过对磨粒表 面的作用等，可以期待研磨速度的提高。
[0074] 使用本发明的研磨用组合物研磨合金材料时，可以回收曾经在研磨中使用的研磨 用组合物并再次用于研磨。作为研磨用组合物的再使用的方法的一个例子，可举出将从研 磨装置排出的研磨用组合物回收在容器内，使其再次向研磨装置内循环而使用的方法。循 环使用研磨用组合物在能够通过减少作为废液排出的研磨用组合物的量来降低环境负担 的方面、和能够通过减少使用的研磨用组合物的量来抑制合金材料研磨所耗费的制造成本 的方面是有用的。
[0075] 在循环使用本发明的研磨用组合物时，可以将因研磨而消耗/损失的二氧化硅颗 粒、pH调节剂、和其它添加剂的一部分或全部作为组合物调节剂添加到循环使用中。此时， 作为组合物调节剂，可以是使二氧化硅颗粒、pH调节剂、和其它添加剂的一部分或全部以任 意混合比率混合得到的混合物。通过追加来添加组合物调节剂，从而将研磨用组合物调节 为适宜再利用的组合物，可适宜地维持研磨。组合物调节剂中含有的磨粒、氧化剂和其它添 加剂的浓度为任意浓度，没有特别的限定，优选根据循环容器的大小、研磨条件适宜调节。
[0076] 本发明的研磨用组合物可以为单组分型，也可以为以双组分型为首的多组分型的 组合物。另外，本发明的研磨用组合物可以通过使用水等稀释液将研磨用组合物的原液稀 释为例如10倍以上来制备。
[0077] 实施例
[0078] 使用以下实施例和比较例进一步详细说明本发明。但本发明的保护范围并不仅限 定于以下实施例。
[0079](实施例1~4、比较例1~4)
[0080] 将作为磨粒的表2所示的二氧化硅颗粒的含量用水稀释成20重量％，进一步，加 入作为pH调节剂的氢氧化钾将组合物的pH调节成10. 2,制备研磨用组合物。需要说明的 是，表2中的二氧化硅颗粒栏的"气相"是指气相二氧化硅，"胶体"是指胶体二氧化硅。
[0081] 另外，二氧化娃颗粒的平均一次粒径是由使用Micromeritics Instrument Corporation制造的"Flow Sorbll 2300"测定的利用BET法的二氧化娃颗粒的比表面积 和二氧化硅颗粒的密度算出的。进而，一次颗粒的平均长径比是通过扫描型电子显微镜 Hitachi High-Technologies Corporation.制造的 S-4700 测定 1000 个颗粒的值算出的平 均值。
[0082] 进而，聚集颗粒的体积平均粒径通过利用动态光散射法的粒度测定器（日机装株 式会社制造的UPA-UT151)测定。构成聚集颗粒的一次颗粒的平均粒径是利用扫描透射型 电子显微镜 Hitachi High-Technologies Corporation.制造的 HD-2700 测定 1000 个颗粒 的值算出的平均值。构成聚集颗粒的一次颗粒的数量是通过用上述测定的聚集颗粒的体积 平均粒径除以上述算出的构成聚集颗粒的一次颗粒的平均粒径求出的。
[0083] 进行使用各实施例和比较例的研磨用组合物研磨表2的"合金材料"栏所示的铝 合金的研磨工序。错合金的作为研磨对象的面为实施了预磨而成为表面粗糙度Ra约20nm 的面。需要说明的是，表2的合金材料栏所示的"5052"是指JIS H4000 :2006记载的合金 编号的5052，"6063"是指JIS H4000 :2006记载的合金编号的6063。研磨工序的研磨条件 示于下述表1。
[0084] 另外，用以下所示的方法求出研磨速度、和研磨工序后的合金材料的研磨面的表 面粗糙度。
[0085] <研磨速度>
[0086] 测定研磨工序前的合金材料的重量、和研磨工序后的合金材料的重量，由研磨工 序前后的重量差算出研磨速度。将该结果示于下述表2的"研磨速度"栏。
[0087] <表面粗糙度>
[0088] 对于表示研磨工序后的合金材料的研磨面的表面粗糙度的"Ra"，基于JIS B0601 : 2001记载的方法，使用表面形状测定机（商品名：ZYGO New VieW50005032、Zyg〇公司制造） 测定。需要说明的是，"Ra"为表示粗糙度曲线高度方向的振幅的平均的参数，表示在一定 视野内的合金表面的高度的算术平均。作为表面形状测定机的测定条件，将测定范围设定 为1. 4mmX 1. 1mm。将其结果示于下述表2的"表面粗糙度Ra"栏。
[0089][表1]
[0090] 研磨机：单面研磨机（平板直径380mm)
[0091] 研磨垫：绒面革类
[0092]研磨载荷：130g/cm2
[0093] 平板转速：80rpm
[0094] 线速度：63. 6m/分钟
[0095] 研磨时间：10分钟
[0096] 研磨用组合物的供给速度：14mL/分钟（使用自然流挂（掛汀流匕））
[0097] 研磨对象（合金材料）：将3片32mmX32mmX5mm大小的合金材料保持在承载器 上，同时研磨
[0098][表2]
【主权项】
1. 一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途， 所述研磨用组合物包含一次颗粒的平均长径比为1. 10以上的二氧化硅颗粒、和pH调节剂。
2. 根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，所述二氧化硅颗粒包含平均为2. 5个以 上的所述一次颗粒聚集成的颗粒。
3. 根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其中，所述二氧化硅颗粒的平均一次粒径 为30nm以上。
4. 根据权利要求1~3中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述合金材料的主成分为 选自由铝、钛、铁、镍、和铜组成的组中的至少1种。
5. 根据权利要求1~4中任一项所述的研磨用组合物，其中，所述合金材料的主成分为 铝，且以相对于合金材料整体为0. 5~10重量％的含量包含选自由硅、镁、铁、铜、和锌组成 的组中的至少1种金属元素。
6. -种研磨方法，其使用根据权利要求1~5中任一项所述的研磨用组合物研磨合金 材料。
7. -种合金材料的制造方法，其包括用根据权利要求6所述的研磨方法进行研磨的工 序。
【专利摘要】提供一种研磨用组合物，其可以充分维持对合金材料的高研磨速度、且提高合金材料表面的平滑性，得到高光泽的表面。本发明为一种研磨用组合物，其用于研磨合金材料的用途，该研磨用组合物包含一次颗粒的平均长径比为1.10以上的二氧化硅颗粒、和pH调节剂。
【IPC分类】C09K3-14, C09G1-02, B24B37-00
【公开号】CN104769073
【申请号】CN201380057146
【发明人】玉井一诚, 浅井舞子, 森永均
【申请人】福吉米株式会社
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2013年6月25日
【公告号】EP2915859A1, WO2014069043A1