表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件的制作方法

表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种表面保护膜及使用了该表面保护膜的光学部件，该表面保护膜可对表面具有凹凸的光学用膜使用，对被粘物的污染少，且对被粘物的低污染性不发生经时变化，不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。所述表面保护膜(10)在由具有透明性的树脂构成的基材膜(1)的一个面上，形成粘结剂层(2)，该粘结剂层(2)含有作为抗静电剂的离子化合物，在粘结剂层(2)上贴合有具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)，所述剥离剂层(4)由碱金属盐及有机硅类剥离剂构成，碱金属盐成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
【专利说明】
表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件
技术领域
[0001 ]本发明设及一种表面保护膜，其贴合于偏振板(polarizing plate)、相位差板、显 示器用透镜膜等光学部件下有时也称作光学用膜)的表面。更详细而言，本发明提供一 种表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜对被粘物的污染少，并 且不会经时劣化地具有优异的剥离抗静电性能。
【背景技术】
[0002] 在制造、搬运偏振板、相位差板、显示器用透镜膜、抗反射膜、硬涂膜、触摸板用透 明导电性膜等光学用膜及使用了它们的显示器等光学制品时，在该光学用膜的表面贴合表 面保护膜，W防止后续工序中的表面污垢和损伤。作为制品的光学用膜的外观检查为了节 省剥下表面保护膜再进行贴合的程序，提高工作效率，有时也W表面保护膜贴合于光学用 膜的状态直接进行。
[0003] 长期W来，在光学制品的制造工序中，为了防止损伤或污垢的附着，通常使用在基 材膜的一个面上设有粘结剂层的表面保护膜。表面保护膜经由弱粘结力的粘结剂层贴合于 光学用膜上。将粘结剂层设为弱粘结力，是为了将使用过的表面保护膜从光学用膜的表面 上剥离去除时，能够容易剥离，且粘结剂不附着残留在作为被粘物的制品的光学用膜上(防 止所谓的残胶的产生）。
[0004] 近年来，在液晶显示面板的生产工序中，如下现象虽然产生件数少，但还是存在： 由于将贴合于光学用膜上的表面保护膜剥离去除时产生的剥离静电压，用于控制液晶显示 面板的显示画面的驱动1C等电路元件被破坏、液晶分子的取向损坏。
[0005] 此外，为了降低液晶显示面板的耗电，液晶材料的驱动电压变低，驱动1C的击穿电 压也随之变低。最近开始谋求使剥离静电压在+〇.7kV~-0.7kV的范围内。
[0006] 此外，W往的偏振板是在由含浸有舰的聚乙締醇(PVA)构成的偏振镜(polarizer) 的两侧，为了保护偏振镜而用水性粘合剂粘合Ξ乙酷纤维素膜(TAC膜)来制造偏振板的，但 近年来，也开始使用如下偏振板:使用丙締酸膜、环状聚締控膜、聚醋膜代替TAC膜的偏振 板;使用紫外线固化型粘合剂代替水性粘合剂的偏振板。偏振板的构成材料变化产生了 W 下问题:在剥离去除表面保护膜时产生的剥离静电压比使用W往构成的偏振板时增高。
[0007] 此外，近年来随着3D显示器(立体显示器）的普及，在偏振片等光学用膜的表面有 时贴合有FPR(Film Patterned Retarder(薄膜式图案化相位延迟））膜。在将贴合于偏振片 等光学用膜的表面的表面保护膜剥下后，贴合FPR膜。但是，偏振片等光学用膜的表面若被 用于表面保护膜的粘结剂或抗静电剂污染，则存在FH?膜难W粘接的问题。因此，对于该用 途的表面保护膜，谋求一种对被粘物的污染少的膜。
[000引另一方面，在一些液晶面板制造商中，作为表面保护膜对被粘物的污染性的评价 方法，采用如下方法，先将贴合于偏振片等光学用膜的表面保护膜剥下，W混入有气泡的状 态再次贴合，W规定条件进行加热处理，然后，剥下表面保护膜，观察被粘物的表面。在运种 评价方法中，即使被粘物的表面污染为微量，若在混入气泡的部分和表面保护膜的与粘结 剂接触的部分，被粘物的表面污染有差别，则w气泡痕迹(有时也称为气泡斑（日语:気泡公 S))的形式残留。因此，作为运种对被粘物的表面的污染性的评价方法，成为非常严格的评 价方法。近年来谋求一种表面保护膜，该表面保护膜即使在由运种严格的评价方法所判定 的结果中，在对被粘物的表面的污染性上也不存在问题。
[0009] 提出了如下一种表面保护膜:将表面保护膜从作为被粘物的光学用膜上剥离时， 为了防止剥离静电压高导致的不良状况，使用了将剥离静电压抑制为低剥离静电压的、含 有抗静电剂的粘结剂层。
[0010] 例如，在专利文献1中，公开了一种表面保护膜，其使用了由烷基Ξ甲基锭盐、含有 径基的丙締酸类聚合物、聚异氯酸醋构成的粘结剂。
[0011] 此外，在专利文献2中，公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的粘结 片类，所述粘结剂组合物由离子液体及酸值为1.0W下的丙締酸聚合物构成。
[0012] 此外，在专利文献3中，公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的表面 保护膜，所述粘结剂组合物由丙締酸聚合物、聚酸多元醇化合物、经阴离子吸附性化合物处 理过的碱金属盐构成。
[0013] 此外，在专利文献4中，公开了一种粘结剂组合物及使用了该粘结剂组合物的表面 保护膜，所述粘结剂组合物由离子液体、碱金属盐、玻璃化转变溫度为(TCW下的聚合物构 成。
[0014] 现有技术文献 [00巧]专利文献
[0016] 专利文献1:特开2005-131957号公报
[0017] 专利文献2:特开2005-330464号公报
[0018] 专利文献3:特开2005-314476号公报
[0019] 专利文献4:特开2006-152235号公报

【发明内容】

[0020] 本发明要解决的技术问题
[0021] 在上述专利文献1~4所述的表面保护膜中，在粘结剂层的内部添加有抗静电剂。 因此，粘结剂层的厚度越厚，或者在贴合于被粘物后时间越久，对于贴合了表面保护膜的被 粘物，有抗静电剂从粘结剂层向被粘物转移的量越多的趋势。若向被粘物转移的抗静电剂 的量变多，则有作为被粘物的光学用膜的外观品质下降、或是贴合FH?膜时FH?膜的粘合性 降低的可能性。
[0022] 如此，为了减少所述从粘结剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时变化，若使粘结 剂层的厚度变薄，则会产生别的问题。例如，存在如下问题:在用于防眩光用的经过防眩处 理的偏振片等表面具有凹凸的光学用膜的情况下，粘结剂无法追随光学用膜表面的凹凸而 混入气泡；由于光学用膜与粘结剂的接合面积减少而使粘结力降低，在使用中表面保护膜 翅起、脱落。
[0023] 此外，为了使从粘结剂层向被粘物转移的抗静电剂的经时变化减少，若减少向粘 结剂层中添加的抗静电剂的添加量，则存在产生如下现象的危险性:剥离去除表面保护膜 时产生的剥离静电压增高、驱动1C等电路元件被击穿的现象，或液晶分子的取向被破坏的 现象。
[0024] 本发明是考虑了上述情况而完成的，其技术问题在于提供一种表面保护膜及使用 了该表面保护膜的光学部件，所述表面保护膜为一种用于光学用膜的表面保护膜，该表面 保护膜即使对于表面上具有凹凸的光学用膜也能够使用，对被粘物的污染非常少，且对被 粘物的污染性不会经时变化，而且，即使替换偏振板的构成部件(TAC膜变更为丙締酸膜或 聚醋膜、水性粘合剂变更为紫外线固化型粘合剂），也能将剥离表面保护膜时的剥离静电压 抑制为低剥离静电压。
[0025] 为了解决所述技术问题，本申请发明人等进行了认真研究。
[0026] 首先，为了对被粘物的污染少，且使污染性的经时变化小，需要减少推测为污染被 粘物的抗静电剂的添加量。但是，在减少抗静电剂的添加量的情况下，将表面保护膜从被粘 物剥离时的剥离静电压会增高。于是，本申请发明人对不增加抗静电剂添加量而将表面保 护膜从被粘物剥离时的剥离静电压抑制为低剥离静电压的方法进行了研究。
[0027] 对所述内容进行研究后，结果本申请发明人等发现，在粘结剂组合物中添加不污 染被粘物的程度的抗静电剂，在基材的一个面上涂布、干燥该粘结剂组合物，层叠粘结剂层 后，向粘结剂层的表面赋予适量的抗静电剂。由此，能够将表面保护膜从作为被粘物的光学 用膜上剥离时的剥离静电压抑制为低剥离静电压，且难W污染被粘物，从而完成了本发明。 [00%]解决技术问题的技术手段
[0029] 本发明的表面保护膜的技术思想在于，通过涂布、干燥含有不污染被粘物的程度 的抗静电剂的粘结剂组合物，层叠粘结剂层后，赋予粘结剂层的表面适量的抗静电剂，在将 对被粘物的污染性抑制为低污染性的基础上，将从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离 静电压抑制为低剥离静电压。
[0030] 为了解决上述技术问题，本发明提供一种表面保护膜，其特征在于，在由具有透明 性的树脂构成的基材膜的一个面上，形成粘结剂层，该粘结剂层含有作为抗静电剂的离子 化合物，具有剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层贴合在该粘结剂层上，所述剥离剂层含 有碱金属盐及有机娃类剥离剂，所述碱金属盐的成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的 表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时的剥离静电压降低。
[0031] 此外，优选所述离子化合物不是碱金属盐。
[0032] 此外，优选所述粘结剂层由（甲基)丙締酸醋共聚物交联而成。
[003引此外，提供一种从作为被粘物的光学用膜上剥离时的表面电势（surface potential)为+0.7kV~-0.7kV的表面保护膜。
[0034] 此外，优选将所述剥离膜从所述粘结剂层上剥离时的剥离力为0.005~0.3N/ 50mm 〇
[0035] 此外，本发明提供一种贴合有所述表面保护膜的光学部件。
[0036] 发明效果
[0037] 本发明的表面保护膜为用于光学用膜的表面保护膜，即使对表面具有凹凸的光学 用膜也可使用。此外，本发明的表面保护膜对被粘物的污染非常少，是一种对被粘物的污染 性不会经时变化的表面保护膜。更进一步，本发明能够提供一种表面保护膜及使用了该保 护膜的光学部件，本发明的表面保护膜即使是偏振板的构成部件发生变化(从TAC膜变为丙 締酸膜、环状聚締控膜或聚醋膜，从水性粘合剂变为紫外线固化型粘合剂），仍将剥离表面 保护膜时的剥离静电压抑制为低剥离静电压。
[0038] 根据本发明的表面保护膜，能够降低从被粘物剥离时产生的静电的量，且剥离抗 静电性能的经时变化及对被粘物的污染少，因此能够预期生产性的提高及成品率的提高。
【附图说明】
[0039] 图1为本发明的表面保护膜的示意性截面图；
[0040] 图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上掲下的状态的截面图；
[0041] 图3为表示将本发明的表面保护膜贴合于光学部件的一个实施例的截面图。
[00创附图标记说明
[0043] 1为基材膜，2为粘结剂层，3为树脂膜，4为剥离剂层，5为剥离膜，7为抗静电剂，8为 被粘物(光学部件），10为表面保护膜，11为掲下剥离膜的表面保护膜，20为贴合有表面保护 膜的光学部件。
【具体实施方式】
[0044] W下，根据实施方式对本发明进行详细说明。
[0045] 图1为本发明的表面保护膜的示意性截面图。该表面保护膜10在透明的基材膜1的 一个面的表面上形成有含抗静电剂的粘结剂层2。在该粘结剂层2的表面上贴合有剥离膜5， 所述剥离膜5在树脂膜3的表面上形成了含有抗静电剂7的剥离剂层4。
[0046] 作为用于本发明的表面保护膜10的基材膜1，使用由具有透明性及可晓性的树脂 形成的基材膜。如此，能够W表面保护膜贴合于作为被粘物的光学部件上的状态，进行光学 部件的外观检查。用作基材膜1的由具有透明性的树脂构成的膜适宜使用聚对苯二甲酸乙 二醇醋、聚糞二甲酸乙二醇醋、聚间苯二甲酸乙二醇醋、聚对苯二甲酸下二醇醋等聚醋膜。 除了聚醋膜之外，只要是具有所需强度、且具有光学特性(optical aptitude)的膜，由其他 树脂构成的膜也可W使用。基材膜1可W是无拉伸膜，也可W是经单轴或双轴拉伸的膜。此 夕h也可W将拉伸膜（stretched film)的拉伸倍率、随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的 取向角度控制为特定的值。
[0047] 用于本发明的表面保护膜10的基材膜1的厚度没有特别的限定，例如，优选为12~ 100M1左右的厚度，若为20~75WI1左右的厚度则便于操作，因此更优选。
[0048] 此外，可W根据需要，在基材膜1的形成有粘结剂层2的面的相反侧面上，设置防止 表面污垢的防污层、抗静电层、防损伤的硬涂层等。此外，在基材膜1的表面上可W施加经由 电晕放电的表面改性、涂布错涂剂等易粘合处理。
[0049] 此外，用于本发明的表面保护膜10的粘结剂层2只要是粘合于被粘物的表面，可在 使用后简单掲下，且难W污染被粘物的粘结剂，则没有特别的限定，若考虑贴合于光学用膜 之后的耐久性等，通常使用由（甲基)丙締酸醋共聚物交联而成的粘结剂。
[0050] 作为（甲基)丙締酸醋共聚物，可列举出使正下基丙締酸醋、2-乙基己基丙締酸醋、 异辛基丙締酸醋、异壬基丙締酸醋等主要单体与丙締腊、醋酸乙締醋、甲基丙締酸甲醋、丙 締酸乙醋等共聚单体、丙締酸、甲基丙締酸、径基乙基丙締酸醋、径基下基丙締酸醋、缩水甘 油基甲基丙締酸醋、N-径甲基甲基丙締酷胺等官能性单体共聚而成的共聚物。（甲基)丙締 酸醋共聚物可W主要单体及其他单体均为（甲基)丙締酸醋，作为主要单体之外的单体，可 W含有1种或巧巾W上（甲基)丙締酸醋W外的单体。
[0051] 此外，在（甲基)丙締酸醋共聚物中，可W将含有聚氧亚烷基的化合物共聚，也可将 其混合。作为含有可共聚的聚氧亚烷基的化合物，可列举出聚乙二醇(400)单丙締酸醋、聚 乙二醇(400)单甲基丙締酸醋，甲氧基聚乙二醇(400)丙締酸醋、甲氧基聚乙二醇(400)甲基 丙締酸醋、聚丙二醇(400)单丙締酸醋、聚丙二醇(400)单甲基丙締酸醋、甲氧基聚丙二醇 (400)丙締酸醋、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙締酸醋等。通过使运些含有聚氧亚烷基的单 体与所述（甲基)丙締酸醋共聚物的主要单体、官能性单体共聚，能够得到由含有聚氧亚烧 基的共聚物形成的粘结剂。
[0052] 作为可混合于（甲基)丙締酸醋共聚物中的含有聚氧亚烷基的化合物，优选为含有 聚氧亚烷基的（甲基)丙締酸醋共聚物，更优选为含有聚氧亚烷基的（甲基)丙締酸类单体的 聚合物，例如，可列举出聚乙二醇(400)单丙締酸醋、聚乙二醇(400)单甲基丙締酸醋、甲氧 基聚乙二醇(400)丙締酸醋、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙締酸醋、聚丙二醇(400)单丙締酸 醋、聚丙二醇（400)单甲基丙締酸醋、甲氧基聚丙二醇（400)丙締酸醋、甲氧基聚丙二醇 (400)甲基丙締酸醋等的聚合物。通过将运些含有聚氧亚烷基的化合物与所述（甲基）丙締 酸醋共聚物混合，能够获得添加有含有聚氧亚烷基的化合物的粘结剂。
[0053] 作为添加于粘结剂层2的固化剂而言，作为使（甲基)丙締酸醋共聚物交联的交联 剂，可列举出异氯酸醋化合物、环氧化合物、Ξ聚氯胺化合物、金属馨合物等。此外，作为增 粘剂，可列举出松香类、古马隆巧类(coumarone indene)、祗类(te巧ene)、石油类、酪类等。
[0054] 粘结剂层2含有抗静电剂。作为粘结剂层2中含有的抗静电剂，可列举出表面活性 剂类、离子液体、碱金属盐、金属氧化物、金属微粒、导电性聚合物、碳、碳纳米管等，从透明 性、对（甲基)丙締酸类聚合物的亲和性、被粘物污染性等来看，优选碱金属盐W外的离子化 合物等，特别优选在溫度25Γ下为固体的离子化合物。
[0055] 此外，可在粘结剂层2的抗静电剂中添加各种树脂。作为向抗静电剂中添加的树 月旨，可列举出聚醋类树脂、聚酷胺类树脂、聚氨醋类树脂、聚締控树脂、聚乙締醇缩下醒树 月旨、聚乙締醇树脂、聚醋酸乙締醋树脂、纤维素树脂、有机娃树脂、氣树脂等。
[0056] 粘结剂层2中包含的抗静电剂不需要集中于粘结剂层2的表面，可在粘结剂层2中 均匀溶解或分散。
[0057] 离子化合物是指由阴离子与阳离子构成，具有在常溫下为液体的离子液体与在常 溫下为固体的离子固体。作为阳离子部分，可列举出咪挫鐵离子等环状脉离子、化晚鐵离 子、锭离子、梳离子、鱗离子等的有机阳离子或无机阳离子。此外，作为阴离子部分，可列举 出 Cn出n+lCOO-、CnF2n+lC00-、N03-、CnF2n+lS〇3-、（ CnF2n+lS〇2 ) 2N-、（ CnF2n+l S〇2 ) 3C-、PO43-、A1CU-、 A12CI7-、CIO4-、BF4-、PFs-、AsFs-、SbFs-等的有机阴离子或无机阴离子。
[0058] 用于本发明的表面保护膜10的、含有抗静电剂的粘结剂层2的厚度没有特别的限 定，但例如优选5~40WI1左右的厚度，更优选10~30WI1左右的厚度。由于从被粘物上掲下表 面保护膜时的操作性优异，故而优选表面保护膜对于被粘物表面的剥离强度(粘结力）为 0.03~0.3N/25mm左右的、具有微粘结力的粘结剂层2。此外，从将剥离膜5从表面保护膜10 上掲下时的操作性优异的方面来看，剥离膜5的来自于粘结剂层2的剥离力优选为0.005~ 0.3N/50mm。
[0059] 此外，用于本发明的表面保护膜10的剥离膜5在树脂膜3的一个面上层叠有剥离剂 层4,该剥离剂层4含有有机娃剥离剂及不与该剥离剂反应的抗静电剂7。
[0060] 作为树脂膜3,可列举出聚醋膜、聚酷胺膜、聚乙締膜、聚丙締膜、聚酷亚胺膜等，从 透明性优异、较廉价的方面来看，优选聚醋膜。树脂膜可W是无拉伸膜，也可W是经单轴或 双轴拉伸的膜。此外，也可W将拉伸膜的拉伸倍率、随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取 向角度控制为特定的值。
[0061] 树脂膜3的厚度没有特别的限定，例如优选12~lOOwn左右的厚度，若为20~50μπι 左右的厚度则容易操作，因而更优选。
[0062] 此外，也可根据需要，在树脂膜3的表面上施加经由电晕放电的表面改性、涂布错 涂剂等易粘合处理。
[0063] 作为构成剥离剂层4的有机娃类剥离剂，其为W聚二甲基硅氧烷为主成分的剥离 剂，可列举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型（radical polymerization type)等公知的有机娃类剥离剂。作为加成反应型有机娃类剥离剂而在市 面贩售的产品，例如可列举出防-7764、防-8471\防-779山防-837、1(5-778、1(5-830(信越化 学工业（株）制）、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、 LTC-310(Dow Corning Toray(株）制）等。作为缩合反应型而在市面贩售的产品，例如可列 举出SRX-290、S化0FF-23(Dow Corning Toray(株）制）等。作为阳离子聚合型而在市面贩售 的产品，例如可列举出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive 化；rformance Materials社制）、X62-7622(信越化学工业(株）制）等。作为自由基聚合型而 在市面贩售的产品，例如可列举出X62-7205(信越化学工业(株)制)等。
[0064] 作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选对于W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离 剂溶液的分散性良好，且不阻碍W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂固化。此外，为了从 剥离剂层4转移到粘结剂层2的表面并赋予粘结剂层抗静电效果，优选不与W二甲基聚娃氧 烧为主成分的剥离剂反应的抗静电剂。作为运样的抗静电剂，碱金属盐较为合适。
[0065] 作为碱金属盐，可列举出由裡、钢、钟形成的金属盐。具体而言，例如，可适宜地使 用 Li\化+、r组成的阳离子与 Cr、化-J-、BF4-、PF6-、SCN-、C104-、CF3S03-、（CF3S02)2N-、 (C2F5S〇2)2r、（CF3S〇2)3[组成的阴离子所构成的金属盐。其中，特别优选使用Li化、Lil、 LiBF4、LiPF6、LiSCN、LiC104、LiCF3S03、Li(CF3S02)2N、Li(C2F5S02)2N、Li(CF3S02)3C等裡盐。运 些碱金属盐可W单独使用，或者可W2种W上混合使用。为了离子物质的稳定化，可W添加 含有聚氧亚烷基结构的化合物。
[0066] 对于W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂的抗静电剂的添加量，因抗静电剂的 种类或与剥离剂的亲和性程度而异，只需要考虑将表面保护膜从被粘物上剥离时所期望的 剥离静电压、对被粘物的污染性、粘结特性等而设定即可。
[0067] 剥离剂层4为由W二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂与和该剥离剂不反应的抗静 电剂的混合物构成的剥离剂层4即可。W二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂与抗静电剂的 混合方法没有特别的限定。W下任一方法均可：向W二甲基聚硅氧烷为主成分的剥离剂中 添加抗静电剂，在混合后添加混合剥离剂固化用催化剂的方法；W二甲基聚硅氧烷为主成 分的剥离剂预先用有机溶剂稀释之后，添加、混合抗静电剂及剥离剂固化用催化剂的方法； 将W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂预先在有机溶剂中稀释后，添加混合催化剂，然 后添加、混合抗静电剂的方法等。此外，也可W根据需要添加硅烷偶联剂等贴附促进剂、含 聚氧亚烷基的化合物等辅助抗静电效果的材料。
[0068] W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂与抗静电剂的混合比率没有特别的限定， 相对于100重量份的W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂的固体成分，W固体成分计抗 静电剂优选为5~100重量份左右的比例。相对于100重量份的W二甲基聚硅氧烷作为主成 分的剥离剂的固体成分，若抗静电剂的固体成分换算的添加量小于5重量份的比例，抗静电 剂向粘结剂层表面的转印量变少，难W在粘结剂中发挥抗静电的功能。此外，相对于100重 量份的W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂的固体成分，若抗静电剂的固体成分换算的 添加量超过100重量份的比例，则抗静电剂与W二甲基聚硅氧烷作为主成分的剥离剂被同 时转印到粘结剂层的表面，因此存在粘结剂的粘结特性降低的可能性。
[0069] 在本发明的表面保护膜10的基材膜1上形成含有抗静电剂的粘结剂层2的方法、及 贴合剥离膜5的方法可通过公知的方法进行，没有特别的限定。具体而言，可列举出下列方 法：（1)在基材膜1的一个面上，涂布、干燥用于形成含有抗静电剂的粘结剂层2的树脂组合 物，形成粘结剂层后，贴合剥离膜5的方法；（2)在剥离膜5的表面，涂布、干燥用于形成含有 抗静电剂的粘结剂层2的树脂组合物，形成粘结剂层后，贴合基材膜1的方法等;使用上述任 一方法均可。
[0070] 此外，在基材膜1的表面形成含有抗静电剂的粘结剂层2可通过公知的方法进行。 具体而言，可使用反向涂布法、逗号刮刀涂布法（Comma Coating)、凹版涂布法（gravure coating)、夹缝式挤压型涂布法(slot die coating)、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等公知的 涂布方法。
[0071] 此外，在树脂膜3上形成剥离剂层4同样可通过公知的方法进行。具体而言，可使用 凹版涂布法、迈耶棒涂布法、气刀涂布法等公知的涂布方法。
[0072] 具有上述构成的本发明的表面保护膜10从作为被粘物的光学用膜上剥离时的表 面电势优选为+0.7kV~-0.7kV。更进一步，表面电势更优选为+0.5kV~-0.5kV，特别优选为 +0.1kV~-O.lkV。该表面电势可通过对粘结剂层2中含有的抗静电剂及剥离剂层4中含有的 抗静电剂7的种类、添加量等进行增减来调整。对将表面保护膜10从作为被粘物的光学用膜 剥离后的、作为被粘物的光学用膜的表面污染性进行考虑，来调整粘结剂层2的抗静电剂及 剥离剂层4的抗静电剂7的种类、添加量即可。
[0073] 图2为表示将剥离膜从本发明的表面保护膜上掲下的状态的截面图。
[0074] 通过将剥离膜5从图1所示的表面保护膜10上剥下，剥离膜5的剥离剂层4中含有的 抗静电剂(符号7)的一部分转印到(附着于)表面保护膜10的粘结剂层2的表面。因此，在图2 中，示意性地W符号7的斑点（圆形）表示在表面保护膜的粘结剂层2的表面附着的抗静电 剂。抗静电剂7的成分从剥离膜5被转印至粘结剂层2的表面，由此，与转印前的粘结剂层2相 比，从被粘物上剥离粘结剂层2时的剥离静电压降低。此外，从被粘物上剥离粘结剂层时的 剥离静电压可通过公知的方法测定。例如，在将表面保护膜贴合至偏振板等被粘物后，使用 高速剥离试验机(Tester产业制），W每分钟40m的剥离速度将表面保护膜剥离，同时使用表 面电势计化eyence (株）制）每10ms测定一次被粘物表面的表面电势，将此时的表面电势的 绝对值的最大值设为剥离静电压化V)。
[0075] 在本发明的表面保护膜中，将图2所示的掲下了剥离膜的状态的表面保护膜11贴 合于被粘物时，转印至该粘结剂层2的表面的抗静电剂与被粘物的表面接触。由此，能够再 次将从被粘物上掲下表面保护膜时的剥离静电压抑制为低剥离静电压。
[0076] 图3为表示将本发明的表面保护膜贴合于光学部件的实施例的截面图。
[0077] 本发明的表面保护膜10W剥下了剥离膜5、露出粘结剂层2的状态（图2的表面保护 膜11)，经由该粘结剂层2贴合于作为被粘物的光学部件8上。
[0078] 目P，图3表示贴合有表面保护膜11的光学部件20,该表面保护膜11为从本发明的表 面保护膜10上掲下了剥离膜5的状态。作为光学部件，可列举出偏振板、相位差板、透镜膜、 兼用为相位差板的偏振片、兼用为透镜膜的偏振片等光学用膜。运样的光学部件可用作液 晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学类装置等的构成部件。此外，作为光学 部件，还可列举出抗反射膜、硬涂膜、触摸板用透明导电性膜等光学用膜。
[0079] 将从本发明的抗静电表面保护膜10剥下剥离膜5的状态的表面保护膜11从作为被 粘物的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，能够充分低地抑制剥离静电压。因此，没有击穿 驱动IC、TFT元件、栅线驱动电路等电路元件的可能性，能够提高在制造液晶显示面板的工 序中的生产效率，确保生产工序的可靠性。
[0080] 实施例
[0081 ]接着，通过实施例对本发明进一步说明。
[0082] (实施例1)
[0083] (表面保护膜的制作）
[0084] 将5重量份加成反应型的有机娃(Dow Corning Toray(株）制、商品名：SRX-345)、 0.75重量份双氣横酷亚胺裡(Xithium bis(fluo;rosulfon5d)imide)、95重量份甲苯与醋酸 乙醋的1:1的混合溶剂、0.05重量份销催化剂（Dow Corning Toray(株）制、商品名：SRX- 212)渗混，揽拌混合，对形成实施例1的剥离剂层的涂料进行了配制。W干燥后的厚度为0.2 WI1的方式，用迈耶棒将形成实施例1的剥离剂层的涂料涂布在厚度为38WI1的聚对苯二甲酸 乙二醇醋膜的表面上，使用120°C的热风循环式烘箱进行1分钟干燥，得到实施例1的剥离 膜。
[0085] 另一方面，由80重量份2-乙基己基丙締酸醋、17重量份甲氧基聚乙二醇(400)甲基 丙締酸醋、3重量份2-径基乙基丙締酸醋的共聚物构成粘结剂，相对于100重量份该粘接剂 的40 %醋酸乙醋溶液，揽拌混合0.2重量份1-壬基化晚鐵六氣化憐酸盐（1-nonyl pyridinium hexafluoride phos地ate)、2重量份异氯酸醋类固化剂（东曹社制CORONATE (注册商标)HX)，制备实施例1的粘结剂。
[0086] 在厚度为3祉m的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面上，W使干燥后的厚度为20WI1的 方式涂布制备好的粘结剂后，使用100°c的热风循环式烘箱干燥2分钟，形成粘结剂层。然 后，在该粘结剂层的表面，贴合上述制作的实施例1的剥离膜的剥离剂层(有机娃处理面）。 将所得的粘结膜在40°C的环境下保溫5天，使粘结剂固化，得到实施例1的表面保护膜。
[0087] (实施例2)
[0088] 除了将形成实施例1的剥离剂层的涂料的干燥后厚度设为O.lymW外，W与实施例 1相同的方式，得到实施例2的表面保护膜。
[0089] (实施例3)
[0090] 除了将实施例1的加成反应型的有机娃设为Dow Corning Toray(株）制、商品名： SRX-211，用双Ξ氣甲烧横酷亚胺裡代替双氣横酷亚胺裡W外，W与实施例1相同的方式，得 到实施例3的表面保护膜。
[0091] (比较例1)
[0092] 将5重量份加成反应型的有机娃(Dow Corning Toray(株）制、商品名：SRX-345)、 95重量份甲苯与醋酸乙醋的1:1的混合溶剂、0.05重量份销催化剂(Dow Corning Toray (株)制、商品名：SRX-212)渗混，揽拌混合，对形成比较例1的剥离剂层的涂料进行了配制。 W干燥后的厚度为0.2WI1的方式，用迈耶棒将形成比较例1的剥离剂层的涂料涂布在厚度为 3祉m的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面，使用120°C的热风循环式烘箱干燥1分钟，得到比 较例1的剥离膜。
[0093] 另一方面，W干燥后的厚度为20WI1的方式，将实施例1的粘结剂涂布在厚度为38μπι 的聚对苯二甲酸乙二醇醋膜的表面，然后使用l〇〇°C的热风循环式烘箱干燥2分钟，形成粘 结剂层。然后，在该粘结剂层的表面贴合上述制作的比较例1的剥离膜的剥离剂层(有机娃 处理面）。将得到的粘结膜在40°C的环境下保溫5天，使粘结剂固化，得到比较例1的表面保 护膜。
[0094] (比较例2)
[0095] 除了不在粘结剂中添加1-壬基化晚鐵六氣化憐酸盐W外，W与实施例1相同的方 式，得到比较例2的表面保护膜。
[0096] (比较例3)
[0097] 除了用双氣横酷亚胺裡代替实施例1的1-壬基化晚鐵六氣化憐酸盐W外，W与实 施例1相同的方式，得到比较例3的表面保护膜。
[0098] W下，示出评价试验的方法及结果。
[0099] 〈剥离膜的剥离力的测定方法〉
[0100] 将表面保护膜的样本剪裁成宽度50mm、长度150mm。在23°CX50%RH的试验环境 下，用拉伸试验机W300mm/分钟的剥离速度在180°的方向上，测定将剥离膜剥离时的强度， 将其作为剥离膜的剥离力(N/50mm)。
[0101] (抗静电剂层的表面电阻率）
[0102] 将剥离膜从抗静电表面保护膜的样本上剥离后，使用高性能高电阻率计(Ξ菱化 学Analytec^h社制化resta(注册商标)-UP)，在施加电压100V、测定时间30秒的条件下测定 抗静电剂层的表面电阻率（Ω /□)。
[0103] 〈表面保护膜的粘结力的测定方法〉
[0104] 将在偏振镜(含舰的聚乙締醇膜)上使用紫外线固化型粘合剂贴合有丙締酸膜的、 经过防眩低反射处理的偏振板(AG-LR偏振板)作为被粘物。在玻璃板的表面用贴合机贴合 该偏振板。然后，在偏振板的表面的丙締酸膜上，贴合剪裁成宽度25mm的表面保护膜后，在 23°CX50%畑的试验环境下保管1天。然后，使用拉伸试验机，W300mm/分钟的剥离速度在 180°的方向上，测定剥离表面保护膜时的强度，将其作为粘结力(N/25mm)。
[0105] 〈表面保护膜的剥离静电压的测定方法〉
[0106] 将在偏振镜(含舰的聚乙締醇膜)上使用紫外线固化型粘合剂贴合有丙締酸膜的、 经过防眩低反射处理的偏振板(AG-LR偏振板)作为被粘物。在玻璃板的表面用贴合机贴合 该偏振板。之后，在偏振板的表面的丙締酸膜上，贴合剪裁成宽度25mm的表面保护膜后，在 23°CX50%畑的试验环境下保存1天。然后，使用高速剥离试验机(Tester产业制每分钟 40m的剥离速度剥离表面保护膜，同时使用表面电势计化eyence(株)制)每10ms测定一次所 述偏振板表面的表面电势，将此时的表面电势的绝对值的最大值作为剥离静电压化V)。
[0107] 〈表面保护膜的表面污染性的确认方法〉
[0108] 将在偏振镜(含舰的聚乙締醇膜)上使用紫外线固化型粘合剂贴合有丙締酸膜的、 经过防眩光低反射处理的偏振板(AG-LR偏振板)作为被粘物。在玻璃板的表面用贴合机贴 合该偏振板。然后，在偏振板的表面的丙締酸膜上贴合剪裁成宽度25mm的表面保护膜后，在 23°CX50%RH的试验环境下保存3天及30天。然后，剥下表面保护膜，W目视观察偏振板的 表面有无污染，确认表面污染性。作为表面污染性的判定标准，W偏振板上无污染转移的情 况为(0)，在偏振板上确认到污染转移的情况为（X )。
[0109] 对所得到的实施例1~3及比较例1~3的表面保护膜进行测定的测定结果如表1所 示。"沈HA"表示2-乙基己基丙締酸醋，"HEA"表示2-径基乙基丙締酸醋，"M00G"表示甲氧基 聚乙二醇(400)甲基丙締酸醋，"AS剂（1Γ表示双氣横酷亚胺裡，"AS剂(2Γ表示双立氣甲烧 横酷亚胺裡，"AS剂（3Γ表示1-壬基化晚鐵六氣化憐酸盐/'SRX-345"表示SRX-345/'SRX- 21Γ表示SRX-211，"SRX212"表示销催化剂SRX-212。此外表面电阻率的"1.5E10"表示1.5X 1〇1〇。
[0110] [表 1]
[0111]
[0112]由表1所示的测定结果可知：
[0113] 本发明的实施例1~3的表面保护膜具有适度的粘结力，对被粘物的表面无污染。 此外，即使被粘物为使用了丙締酸膜的偏振板，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静 电压也低。
[0114] 另一方面，对于在剥离剂层中未添加抗静电剂的比较例1的表面保护膜、及在粘结 剂层中未添加抗静电剂的比较例2的表面保护膜，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离 静电压变高。此外，对于在粘结剂层与剥离剂层中使用了相同种类抗静电剂的比较例3的表 面保护膜，将表面保护膜从被粘物上剥离时的剥离静电压低，是良好的，但在剥离后，对被 粘物的污染增多。
[0115] 目P，比较例1~3的表面保护膜难W兼顾剥离静电压的降低及对被粘物的低污染 性。另一方面，对于在粘结剂层与剥离剂层中添加了不同种类抗静电剂的实施例1~3的表 面保护膜，剥离静电压的降低效果高，且没有对被粘物的污染，能获得良好的表面保护膜。
[0116] 工业实用性
[0117] 本发明的表面保护膜能够用于在例如偏振板、相位差板、透镜膜、抗反射膜、硬涂 膜、透明导电性膜等光学用膜、其他各种光学部件等生产工序等中，贴合于该光学部件等， 保护表面。此外，本发明的表面保护膜从被粘物上剥离时产生的静电的量低，且剥离抗静电 性能的经时变化及对被粘物的污染少，能够提高生产工序的成品率，在工业上的利用价值 大。
【主权项】
1. 一种表面保护膜，其特征在于，在由具有透明性的树脂构成的基材膜的一个面上，形 成粘结剂层，该粘结剂层含有作为抗静电剂的离子化合物，具有剥离剂层的剥离膜经由所 述剥离剂层贴合在该粘结剂层上，所述剥离剂层含有碱金属盐及有机硅类剥离剂，所述碱 金属盐的成分从所述剥离膜转印至所述粘结剂层的表面，从被粘物上剥离所述粘结剂层时 的剥离静电压降低。2. 根据权利要求1所述的表面保护膜，其特征在于，所述离子化合物不是碱金属盐。3. 根据权利要求1或2所述的表面保护膜，其特征在于，所述粘结剂层由（甲基）丙烯酸 酯共聚物交联而成。4. 根据权利要求1~3中任一项所述的表面保护膜，其特征在于，从作为被粘物的光学 用膜上剥离时的表面电势为+〇. 7kV~-0.7kV。5. 根据权利要求1~4中任一项所述的表面保护膜，其特征在于，将所述剥离膜从所述 粘结剂层上剥离时的剥离力为〇 · 005~0 · 3N/50mm。6. 贴合有根据权利要求1~5中任一项所述的表面保护膜的光学部件。
【文档编号】G02B1/14GK106010324SQ201610089997
【公开日】2016年10月12日
【申请日】2016年2月17日
【发明人】小林弘幸, 新见洋人, 春日充, 铃木千惠, 五十岚智美, 木俣绘美子, 林益史
【申请人】藤森工业株式会社