一种可变尺寸的陶瓷烧制支架的制作方法

本实用新型涉及窑具领域，尤其涉及一种可变尺寸的陶瓷烧制支架。

背景技术：

陶瓷产品在烧制过程中多采用窑具烧制支架进行支撑，利用窑具将烧制空间分为多层，而大多数窑具支架一般为全面板式支架，不仅体积容量无法改变，而且由于烧制支架整体体积大，制备时使用较多原料，而且在烧制陶瓷产品过程中支架本身吸收大量热量造成窑内能量浪费。在需要烧制不同尺寸的瓷器时需分别制备不同尺寸的窑具支架，费时费工。

技术实现要素：

本实用新型旨在解决现有技术的不足，而提供一种可变尺寸的陶瓷烧制支架。

本实用新型为实现上述目的，采用以下技术方案：一种可变尺寸的陶瓷烧制支架，其特征在于，包括座体、立柱和顶针，所述座体有两个，所述立柱有三根，两个所述座体的位置上下相对平行，所述座体的外端开有三处T型凹槽，所述T型凹槽的两侧的凹槽壁顶部分别开有相对应的定位齿，所述定位齿中设有一根可取出的档杆，所述档杆的两端分别位于所述T型凹槽两侧相对应的定位齿中，所述立柱的两端均设有与所述T型凹槽相匹配的T型头，所述立柱的顶端和底端的T型头分别位于上下两个所述座体的T型凹槽中，且所述立柱可在所述座体的T型凹槽中滑动，所述立柱的内侧沿高度方向开有多个针孔，所述顶针为多个，所述顶针的一端插于所述针孔中。

特别的，所述座体的形状为Y型、T型中的一种。

特别的，所述针孔为双列设置。

本实用新型的有益效果是：本实用新型能够调节三根立柱之间的间距从而可以用于支撑不同尺寸的瓷器，实现“一架多能”，从而能够减少成本投入，同时，顶针式支架体积小，能够避免自身吸收过多热量，并且顶针设置为双列，能够稳固地承托坯件，顶针式支架与坯件的接触为点接触，可以使支撑部位的接触面积尽可能的小，最终陶瓷产品上的瑕疵较小，提高产品的质量。

附图说明

图1为本实用新型的未插入顶针的结构示意图；

图2为本实用新型的立柱与座体的连接处的结构示意图；

图3为本实用新型的立柱的结构示意图；

图中：1-座体；2-立柱；3-T型凹槽；4-针孔；5-顶针；6-T型头；7-定位齿；8-档杆；

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明：

如图1、2、3所示，一种可变尺寸的陶瓷烧制支架，包括座体1、立柱2和顶针5，所述座体1有两个，所述立柱2有三根，两个所述座体1的位置上下相对平行，所述座体1的外端开有三处T型凹槽3，所述T型凹槽3的两侧的凹槽壁顶部分别开有相对应的定位齿7，所述定位齿7中设有一根可取出的档杆8，所述档杆8的两端分别位于所述T型凹槽3两侧相对应的定位齿7中，所述立柱2的两端均设有与所述T型凹槽3相匹配的T型头6，所述立柱2的顶端和底端的T型头6分别位于上下两个所述座体1的T型凹槽3中，且所述立柱2可在所述座体1的T型凹槽3中滑动，所述立柱2的内侧沿高度方向开有多个针孔4，所述顶针5为多个，所述顶针5的一端插于所述针孔4中。

特别的，所述座体1的形状为Y型、T型中的一种。

特别的，所述针孔4为双列设置。

本实用新型工作时，通过移动柱体2从而使三个柱体2之间的距离与待烧制的坯件的大小相匹配，然后将档杆8卡在相应的定位齿7中，对立柱2起到限位作用，顶针5插在真空4中用以承托待烧制坯件。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。