一种连续真空旋转烧结设备的制作方法

本实用新型涉及钕铁硼真空烧结领域，具体涉及一种连续真空旋转烧结设备。

背景技术：

目前，连续烧结炉使用闸门将各个室分开，从而使各个室能有独立的温度和压力，能够大大的提高烧结的速度以节省时间。但由于炉室内空间较大，所以在控制温度时很难保证炉内各个部位温度分布均匀一致，从而使物料每个部位温度不一致，导致受热不均匀，使得同一炉料也不能保证性能一致。这种现象会使钕铁硼产品在烧结过程中效率降低，性能也会受到一定的影响。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种连续真空旋转烧结设备，该设备能够让物料在烧结时各个部位升温更均匀，从而提高效率和性能。

为实现上述目的，本实用新型采用了以下技术方案：包括位于炉体内的加热室，所述的加热室由保温装置、加热装置及传送装置组成，所述的传送装置上设有物料托盘，所述传送装置的下方还设有上升旋转装置，所述的上升旋转装置用于将物料托盘顶起并在加热室内旋转，以实现物料的均匀升温。

所述的上升旋转装置包括位于加热室内的托板及与托板相连的上升旋转轴，所述的上升旋转轴贯穿炉体下部与动力源相连，所述的上升旋转轴与炉体下部相连的位置设有密封两者的密封装置。

所述的物料托盘包括方形的托盘本体，所述的托盘本体上设有均匀间隔布置的通孔，所述托盘本体的下表面中心位置处设有便于与托板相卡合的凹槽。

所述的托板及凹槽为十字型。

所述的传送装置包括传送轴，所述的传送轴包括设置在中间位置的四根短轴以及设置在短轴两侧的长轴，所述四根短轴设置的位置与托板的位置相对应，且四根短轴之间形成供托板上升或下降的通道。

所述的动力源包括驱动上升旋转轴升降的液压缸以及驱动上升旋转轴旋转的驱动电机。

由上述技术方案可知，本实用新型的物料托盘通过传送装置传送到指定位置后，通过上升旋转装置使物料托盘内要被烧结的产品在炉室内沿一定的方向和速度旋转，从而使产品的各个部位能够有效的避开阴影效应，让产品受热均匀，有效地减少产品出现开裂的现象，使产品的一致性和性能得到有效的提高。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型传送装置及上升旋转装置的结构示意图；

图3是本实用新型物料托盘的主视图；

图4是图3的后视图；

图5是本实用新型物料托盘的立体结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步说明：

如图1所示的一种连续真空旋转烧结设备，包括位于炉体内的加热室，加热室由保温装置1、加热装置2及传送装置3组成，传送装置3上设有物料托盘4，传送装置3的下方还设有上升旋转装置5，上升旋转装置5用于将物料托盘4顶起并在加热室内旋转，以实现物料的均匀升温。

进一步的，如图2所示，上升旋转装置5包括位于加热室内的托板51及与托板51相连的上升旋转轴52，上升旋转轴52贯穿炉体下部与动力源相连，上升旋转轴52与炉体下部相连的位置设有密封两者的密封装置6。即上升旋转轴52的一端与托板51相连，另一端从炉体下方的密封装置6穿过，并由密封装置6来实现上升旋转轴52部位的真空密封。

进一步的，如图3、图4、图5所示，物料托盘4包括方形的托盘本体41，托盘本体41上设有均匀间隔布置的通孔42，托盘本体41的下表面中心位置处设有便于与托板51相卡合的凹槽43。

进一步的，托板51及凹槽43为十字型。

进一步的，如图2所示，传送装置3包括传送轴，传送轴包括设置在中间位置的四根短轴31以及设置在短轴31两侧的长轴32，四根短轴31设置的位置与托板51的位置相对应，且四根短轴31之间形成供托板51上升或下降的通道。

进一步的，动力源包括驱动上升旋转轴52升降的液压缸7以及驱动上升旋转轴52旋转的驱动电机8。即上升旋转轴52和托板51由炉体下部的液压缸7控制上升和下降，驱动电机8在液压缸7上升到位时进行转动，通过减速机带动上升旋转轴52和物料托盘4一起慢速旋转。

本实用新型的工作原理如下：

传送装置3在传送物料托盘4时，上升旋转装置5中的托板51收在传送轴的下方，不与物料托盘4发生干涉；当物料托盘4传送到指定位置时由光电感应开关控制传送装置3停止，此时液压缸7控制上升旋转轴52上升，从而带动托板51从四根短轴31之间的通道顶出并卡合在物料托盘4的凹槽43内，上升旋转轴52上升到位后再由驱动电机8动作，驱动电机8通过减速机带动上升旋转轴52转动，从而带动托板51及托板51上的物料托盘4慢速旋转，以实现物料的均匀受热。

综上所述，本实用新型可以使物料托盘内要烧结的产品在炉室内沿一定的方向和速度旋转，从而使产品的各个部位能够有效的避开阴影效应，让产品受热均匀，有效地减少产品出现开裂的现象，使产品的一致性和性能得到有效的提高。

以上所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本实用新型权利要求书确定的保护范围内。