技术总结
本实用新型涉及真空炉领域，具体是长转轴真空炉。包括同轴设置的固定体2和旋转体3，固定体2的一端同轴固定设置固定动密封，旋转体3的一端同轴穿过固定动密封后伸入固定体2的内部；固定体2的底部设置浮动支撑装置1；旋转体3相对于与固定体2产生同轴度偏差时，旋转体3对固定体2和固定动密封产生径向作用力；浮动支撑装置1随着径向作用力的方向活动支撑固定体2，固定体2、固定动密封和旋转体3保持动态同轴。浮动支撑装置1能够使得固定体2、固定动密封和旋转体3保持动态同轴，解决了长转轴真空炉的固定动密封的非常规磨损的问题。
技术研发人员：曹磊
受保护的技术使用者：沈阳广泰真空科技有限公司
技术研发日：2017.12.19
技术公布日：2018.07.20