一种太阳能硅片超声波清洗槽的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种太阳能硅片超声波清洗槽。主要解决了硅片超声波清洗槽清洗不彻底的问题。所述的清洗槽从左至右依次为预洗槽、化学槽和终洗槽，预洗槽、化学槽和终洗槽的上部和下部分别设有进水管和排水管，进水管和排水管分别与进水总管和排水总管相连，所述的超声装置包括超声波发生器和与超声波发生器相连的超声波震板，超声波震板置于上述预洗槽和化学槽内，所述的进水总管上设有恒温热源和流量控制器。该太阳能硅片超声波清洗槽清洗能力强，药水清洗后进一步的对硅片进行水洗，能够清除药水清洗后硅片表面的残留酸、碱或表面活性剂类的有机物等，槽体壁内置有石墨层，具有质量轻、耐腐蚀性能和导热性能强等优点。
【专利说明】
一种太阳能硅片超声波清洗槽
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种清洗槽，具体涉及一种太阳能硅片超声波清洗槽。
【背景技术】
[0002]太阳能硅片超声波清洗槽是太阳电池板生产过程中对硅片进行清洗的一种装置。在太阳能硅片的加工过程中，将硅棒切割为硅片是必不可少的工艺，切片过程中切削液残留在硅片表面，形成污染物，因此，需要对硅片进行清洗，否则无法用于下一道工序，硅片清洗质量的好坏直接影响到太阳能电池的性能和成品率。
[0003]目前市场上的超声波清洗槽一般用纯水加超声波的方式清洗或者是药水加超声波的方式清洗，这种两种清洗方式的清洗能力有限，清洗的质量较差，而且药水清洗后的硅片表面会残留酸、碱或表面活性剂类的有机物等，这些残留在硅片表面的物质会在后续的制绒工艺中产生不良影响，而且超声波清洗槽多为金属材质，具有空化效果弱，清洗能力差，质量重，耐腐蚀性能以及导热性能较差结构复杂，水资源浪费严重等缺点。
【实用新型内容】
[0004]为了克服【背景技术】的不足，本实用新型提供一种太阳能硅片超声波清洗槽，主要解决了硅片超声波清洗槽清洗不彻底的问题，该太阳能硅片超声波清洗槽清洗能力强，药水清洗后进一步的对硅片进行水洗，能够清除药水清洗后硅片表面的残留酸、碱或表面活性剂类的有机物等，槽体壁内置有石墨层，具有质量轻、耐腐蚀性能和导热性能强等优点。
[0005]本实用新型所采用的技术方案是:一种太阳能硅片超声波清洗槽，包括槽体、清洗槽、进水总管、超声装置和排水总管，所述的清洗槽从左至右依次为预洗槽、化学槽和终洗槽，预洗槽、化学槽和终洗槽的上部和下部分别设有进水管和排水管，进水管和排水管分别与进水总管和排水总管相连，所述的超声装置包括超声波发生器和超声波震板，超声波震板置于上述预洗槽和化学槽内，所述的进水总管上设有恒温热源和流量控制器。
[0006]进一步的，所述的每个排水管和进水管上均设有电磁阀。
[0007]进一步的，所述的清洗槽内设有温度传感器和液位传感器。
[0008]进一步的，所述的槽体外壁由不锈钢制成，其内部为石墨层，所述石墨层的厚度为2mm?6mmο
[0009]进一步的，所述的清洗槽内设有花篮和升降机构，所述花篮安装于升降机构上。
[0010]进一步的，所述的预洗槽为纯水清洗加超声波清洗，所述的化学槽放有清洗剂和纯水，所述终洗槽为纯水清洗，每个槽内放置的时间为4_7min;预洗槽内设置3-5个花篮，化学槽内设置2-3个花篮，终洗槽设置4-6个花篮。
[0011]进一步的，所述的超声波震板截面为L形。
[0012]本实用新型的有益效果是:由于采取上述技术方案，该太阳能硅片超声波清洗槽清洗能力强，药水清洗后进一步的对硅片进行水洗，能够清除药水清洗后硅片表面的残留酸、碱或表面活性剂类的有机物等，槽体壁内置有石墨层，具有质量轻、耐腐蚀性能和导热性能强等优点。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型的结构示意图。
[0014]图中1、槽体;2、清洗槽;3、进水总管;4、排水总管;5、预洗槽;6、化学槽;7、终洗槽；
8、进水管;9、排水管；1、超声波震板;11、恒温热源；12、流量控制器;13、电磁阀；14、温度传感器;15、液位传感器。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本实用新型实施例作进一步说明。
[0016]如图1所示，一种太阳能硅片超声波清洗槽，一种太阳能硅片超声波清洗槽，包括槽体1、清洗槽2、进水总管3、超声装置和排水总管4，所述的清洗槽2从左至右依次为预洗槽
5、化学槽6和终洗槽7，预洗槽5、化学槽6和终洗槽7的上部和下部分别设有进水管8和排水管9，进水管8和排水管9分别与进水总管3和排水总管4相连，所述的超声装置包括超声波发生器和与超声波发生器相连的超声波震板10，超声波震板10置于上述预洗槽5和化学槽6内，所述的进水总管3上设有恒温热源11和流量控制器12。恒温热源11能保证槽体I内的水温保持在一定的值，保证清洗效果;流量控制器12能控制纯水以一定的流速进入槽体I内，通过调节流量控制器12可以调节进入漂洗槽体内纯水的流速，从而方便地控制流入漂洗槽体内纯水的流量大小，可以更好地保证硅片的清洗质量。
[0017]优选的，所述的每个排水管9和进水管8上均设有电磁阀13，所述的清洗槽2内设有温度传感器14和液位传感器15，每个排水管9和进水管8都设有单独的电磁阀13，可以把三个清洗槽2作为一个整体使用也可以单独的分开使用;温度传感器14能及时的把清洗槽2内的水温及时的传递给PLC控制器，方便恒温的控制清洗槽2内的水温;液位传感器15能实时的传递清洗槽2内的水位给PLC控制器，避免由于水位过低而影响清洗效果或者由于水位过高而使水溢出污染工作环境。
[0018]优选的，所述的槽体I外壁由不锈钢制成，其内部为石墨层，所述石墨层的厚度为2mm~6mm，石墨材料质质量轻，耐高温，一定高温有利于超声波的空化效率，且石墨的化学性质稳定，耐腐蚀性强，能够容纳强酸强碱性质的洗涤溶液，新颖独特，使用寿命长。
[0019]优选的，所述的清洗槽2内设有花篮和升降机构，所述花篮安装于升降机构上，所述的预洗槽5为纯水清洗加超声波清洗，所述的化学槽6放有清洗剂和纯水，所述终洗槽7为纯水清洗，硅片在每个槽内放置时间4-7min;预洗槽5内设置3-5个花篮，化学槽6内设置2-3个花篮，终洗槽7设置4-6个花篮。
[0020]优选的，所述的超声波震板10截面为L形，L形的超声波震板10—定程度上能使硅片的清洗更加均匀，效果更好。
[0021 ]清洗槽内的工作情况如下:在清洗前，先打进水总管3上的恒温热源11来保证纯水的温度在一定范围内，然后打开预洗槽5的进水管8上的电磁阀13，使一定温度的纯水进入到预洗槽5内，当液位传感器15感知到水位到达一定的位置的时候，打开预洗槽5的排水管9上的电磁阀13，通过进水管8和排水管9不断的进行进水和出水，使预洗槽5内的水循环起来，硅片放在花篮中，通过升降机构将花篮放到预洗槽5的槽底板上，开启超声波发射器使超声波震板10产生超声波，槽内的水在超声波震板10震动下随之震动，超声波清洗可有效去除硅片表面的砂浆等杂质，待清洗完后将硅片移至另一个清洗槽2(如化学槽)。以上的清洗过程为预洗槽的工作流程，化学槽和终洗槽的工作流程基本与预洗槽相同。
[0022]该太阳能硅片超声波清洗槽清洗能力强，药水清洗后进一步的对硅片进行水洗，能够清除药水清洗后硅片表面的残留酸、碱或表面活性剂类的有机物等，槽体壁内置有石墨层，具有质量轻、耐腐蚀性能和导热性能强等优点。
[0023]各位技术人员须知:虽然本实用新型已按照上述【具体实施方式】做了描述，但是本实用新型的发明思想并不仅限于此实用新型，任何运用本发明思想的改装，都将纳入本专利专利权保护范围内。
【主权项】
1.一种太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:包括槽体、清洗槽、进水总管、超声装置和排水总管，所述的清洗槽从左至右依次为预洗槽、化学槽和终洗槽，预洗槽、化学槽和终洗槽的上部和下部分别设有进水管和排水管，进水管和排水管分别与进水总管和排水总管相连，所述的超声装置包括超声波发生器和超声波震板，超声波震板置于上述预洗槽和化学槽内，所述的进水总管上设有恒温热源和流量控制器。2.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的每个排水管和进水管上均设有电磁阀。3.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的清洗槽内设有温度传感器和液位传感器。4.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的槽体外壁由不锈钢制成，其内部为石墨层，所述石墨层的厚度为2mm?6_。5.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的清洗槽内设有花篮和升降机构，所述花篮安装于升降机构上。6.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的预洗槽为纯水清洗加超声波清洗，所述的化学槽放有清洗剂和纯水，所述终洗槽为纯水清洗，每个槽内的放置时间为4-7min;预洗槽内设置3_5个花篮，化学槽内设置2_3个花篮，终洗槽设置4_6个花篮。7.根据权利要求1所述的太阳能硅片超声波清洗槽，其特征在于:所述的超声波震板截面为L形。
【文档编号】B08B3/12GK205701647SQ201620452050
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年5月18日
【发明人】瀛ｄ附, 季丽
【申请人】浙江海顺新能源有限公司