三维全轨迹高压喷射清洗装置的制作方法

文档序号:15462523发布日期:2018-09-18 18:30阅读:160来源:国知局

本发明涉及罐体等容器的快速高质量清洗装置,尤其是针对制药行业、食品行业和化工行业生产使用的浓缩罐、反应罐和储罐的清洗。



背景技术:

制药工业生产过程有严格的质量要求,《药品生产质量管理规范》文件中指出应“最大限度地降低药品生产过程中污染、交叉污染以及混淆、差错等风险”。

在制药生产中尤其是中药业生产由于中药材具有成分复杂性和多样化,多泡、结垢、粘稠、焦化等性质造成了生产过程的严重粘壁现象;西药生产中与残留物的化学反应、毒性反应现象;食品生产过程碳水化合物的焦化、结垢现象;化工生产中的反应罐物料的严重粘壁现象等都需要在生产结束后进行彻底清场。

目前,国内普遍使用的容器内的清洗装置为旋转喷头。这种喷头一般安装在罐顶,喷孔距离罐壁距离较远,水被旋转过程拖成弧线洒向罐壁,达到罐壁已形成切线水花状完全没有冲击力。喷头即使以长时间冲洗仍然难以把生产中粘在罐壁的结垢洗掉。于是很容易发生交叉污染以及混淆的事故。



技术实现要素:

本发明的目的是提供一种三维全轨迹高压喷射清洗装置,实现三维全轨迹的、无缝隙地冲洗罐体内壁,达到很好的清洗效果。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种三维全轨迹高压喷射清洗装置,包括电机、主转轴和三通管,其特征在于:所述主转轴的外部套设有外管,外管的一端设有高压水注入口,主转轴连同外管的一端通过磁力耦合器与电机连接,另一端通过主轴滑动器与三通管的入口连接,主转轴周围布设有若干进水孔,三通管两侧的出口分别通过第一喷杆滑动器和第二喷杆滑动器连接第一旋转喷射杆和第二旋转喷射杆,第一旋转喷射杆和第二旋转喷射杆的两端均开设有喷射口,且第一旋转喷射杆和第二旋转喷射杆均开设有侧喷口。

作为优选的,所述的电机为步进电机,步进电机通过驱动器与PLC电连。

本发明的有益效果是:水从喷射口能近距离垂直地喷射到罐壁上,第一旋转喷射杆和第二旋转喷射杆两端共四个喷射口能集中水力,产生了很强的冲洗力对罐体进行清洗,并采用PLC编程控制步进电机带动主转轴,使高压喷水实现三维全轨迹的、无缝隙地冲洗罐体内壁,达到了很好的清洗效果。

附图说明

图1是三维全轨迹高压喷射清洗装置的结构示意图。

图2是三维全轨迹高压喷射清洗装置的运转状态图。

具体实施方式

为了使本发明所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图与实施例,对本发明作进一步的说明。

如图1-2所示,本发明一种三维全轨迹高压喷射清洗装置,包括步进电机1、主转轴2和三通管3,步进电机1通过驱动器与PLC电连。主转轴2的外部套设有外管4,外管4的一端设有高压水注入口5,高压水注入口5与高压水泵连接,主转轴2连同外管4的一端通过磁力耦合器6与步进电机1连接,另一端通过主轴滑动器7与三通管3的入口连接,主转轴2周围布设有若干进水孔8,三通管3两侧的出口分别通过第一喷杆滑动器9和第二喷杆滑动器10连接第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12,第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12的两端均开设有喷射口13,且第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12均开设有侧喷口14。

第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12可根据罐体的直径设计长短,步进电机1、磁力耦合器6和外管4的高压水注入口5位于罐体的外部。工作过程中,步进电机1通过磁力耦合器6把转矩传给主转轴2,当高压水经高压水注入口5进来后通过主转轴2周围布设的进水孔8流进主转轴2内,再经过三通管3流向两侧的第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12,并从第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12的侧喷口14喷出去,通过侧喷口14喷出的水的反作用力推动第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12,使第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12分别在第一喷杆滑动器9和第二喷杆滑动器10的作用下独立旋转,最后高压水经四个喷射口13按三维轨迹垂直喷向罐壁。由于水从喷射口13能近距离垂直地喷射到罐壁上,第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12两端共四个喷射口13能集中水力,产生了很强的冲洗力对罐体进行清洗,并采用PLC编程控制步进电机1带动主转轴2,使高压喷水实现三维全轨迹的、无缝隙地冲洗罐体内壁,达到了很好的清洗效果。

也可以在第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12的两侧设置两个反向的侧喷口14;在PLC、驱动器和步进电机1共同作用下完成主转轴2的二维转动,在两个反向侧喷口14高压水的反作用力下完成第一旋转喷射杆11和第二旋转喷射杆12的另一个平面的二维转动。这样在两个不同平面的二维旋转作用下形成一个三维全轨迹的喷射。为了防止高压水流对步进电机1破坏,罐外电机与罐内主轴是靠磁力耦合器6隔离传动的,避免高压水对步进电机1的损坏。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、同等替换和改进等,均应落在本发明的保护范围之内。

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