流体杀菌装置的制作方法

本发明的实施方式涉及一种流体杀菌装置。

背景技术：

已知如下的流体杀菌装置，其通过将成为光源的发光元件所发出的紫外线，向用以对例如水、气体等流体进行处理的处理室内照射，从而将流体进行杀菌。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利特开2014-233646号公报

技术实现要素：

发明所要解决的问题

此种流体杀菌装置中，在将发出紫外线的发光二极管(lightemittingdiode，led)加以收纳的光源室与处理室之间配置分隔构件，以使led与流体不接触，由此抑制led的劣化。然而，通过配置分隔构件，会担忧杀菌性能下降。

本发明所要解决的问题为提供一种能够维持杀菌性能的流体杀菌装置。

解决问题的技术手段

实施方式的流体杀菌装置包括处理室、光源室、分隔构件及第一膜。处理室对流体进行处理。光源室设置有朝向处理室照射紫外线的光源。分隔构件具有紫外线透过性，将处理室与光源室加以划分。第一膜将与处理室相向的分隔构件的第一面加以覆盖。

发明的效果

依据本发明，能够维持杀菌性能。

附图说明

图1是表示第一实施方式的流体杀菌装置的应用例的示意图。

图2是表示第一实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

图3是表示第二实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

图4是表示第三实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

符号的说明

1、1a、1b：流体杀菌装置

8：供给箱

9：回收箱

12：泵

14：流量调整机构

22、24：连结构件

23、25：流路构件

26：周面

27：上游侧的一端

28：下游侧的另一端

30：处理室

31：处理室的前表面

32：处理室的侧面

33：内表面

40：光源室

41：基板

42：发光元件

43：光源

44：光源室的侧面

50：分隔构件

50a：分隔构件的第一面

50b：分隔构件的第二面

51：第一膜

52：第二膜

t、t1、t2：厚度

具体实施方式

以下所说明的实施方式的流体杀菌装置1包括：处理室30、光源室40、分隔构件50及第一膜51。处理室30对流体进行处理。光源室40设置有朝向处理室30照射紫外线的光源43。分隔构件50具有紫外线透过性，将处理室30与光源室40加以划分。第一膜51将与处理室相向的分隔构件50的第一面50a加以覆盖。

另外，以下所说明的实施方式的第一膜51为氟系树脂。

此外，以下所说明的实施方式的第一膜51的厚度t1为10[nm]以下。

另外，以下所说明的实施方式的流体杀菌装置1包括处理室30、光源室40、分隔构件50及第二膜52。处理室30对流体进行处理。光源室40设置有朝向处理室30照射紫外线的光源43。分隔构件50具有紫外线透过性，将处理室30与光源室40加以划分。第二膜52将与光源室40相向的分隔构件50的第二面50b加以覆盖。

此外，以下所说明的实施方式的第二膜52是抑制由光源43照射的紫外光的反射的抗反射膜。

另外，以下所说明的实施方式的第二膜52的厚度t2为30[nm]以上、60[nm]以下。

以下，参照附图，对实施方式的流体杀菌装置进行说明。此外，以下的各实施方式表示一例，并不限定发明。另外，以下所示的各实施方式能够在不矛盾的范围内适当组合。另外，各实施方式的说明中，对同一结构赋予同一符号，省略后述的说明。

(第一实施方式)

图1是表示第一实施方式的流体杀菌装置的应用例的示意图。图2是表示第一实施方式的流体杀菌装置的主要部分的剖面图。

如图1所示，第一实施方式的流体杀菌装置1与供给要照射紫外线(紫外光)的流体的供给箱8连结，且与将经紫外线照射的流体加以回收的回收箱9连结。如图1所示，流体杀菌装置1的上游侧的一端27经由接头等连结构件22，而与连结于供给箱8的泵12及流路构件23连结。另外，与上游侧同样，流体杀菌装置1的下游侧的另一端28经由接头等连结构件24，而与连通于回收箱9的流量调整机构14及流路构件25连结。

流体杀菌装置1例如在饮用水供给装置中，用于对供给箱8内的水进行杀菌处理。本实施方式中，作为流体，例如应用于自来水等液体，但也可应用于气体。

如图2所示，流体杀菌装置1包括处理室30、光源室40、分隔构件50、第一膜51及第二膜52。从处理室30的前表面31侧供给的流体流向分隔构件50，进而以沿着分隔构件50而从处理室30的侧面32转入光源室40的侧面44的方式流动，从流体杀菌装置1的另一端28(参照图1)侧排出。

处理室30是由例如反射紫外线的聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，ptfe)所形成的空间，对收纳于内部的流体进行处理。另外，也可在反射紫外线的铝的内表面33，配置透过紫外线的石英玻璃(quartzglass)，来作为处理室30。处理室30的形状例如可设为圆筒状，但并无特别限定，例如也可以是箱状或者角筒状。

光源室40是由例如聚四氟乙烯(ptfe)所形成的空间，设置有朝向处理室30照射紫外线的光源43。光源43包括基板41、及发光元件42。

基板41是以金属材料作为母材来形成。在基板41上，虽未图示，但经由绝缘层而形成有所需的导电图案(布线图案)，且在导电图案上设置有发光元件42。此外，基板41的母材并不限定于金属材料，例如也可使用氧化铝等陶瓷。

发光元件42是发出紫外线的发光元件，且安装于基板41上。发光元件42例如为led。发光元件42是由未图示的电源来供给电力而发光。发光元件42夹持着分隔构件50而与处理室30相向配置，对处理室30照射紫外线。另外，发光元件42例如为具有300[nm]以下的波长的元件，尤其考虑到寿命及输出，能够设为在波长280[nm]附近具有峰值波长的元件，但只要是例如250[nm]～300[nm]的起到杀菌作用的波长范围即可，并不限定紫外线的波长。即，发光元件42并不限定于led，也可以是激光二极管(laserdiode，ld)等发出既定的波长范围的紫外线的其他半导体元件。

分隔构件50是具有紫外线透过性的板状构件。具体而言，能够将例如波长250[nm]～300[nm]下的透过率为92[％]左右的石英玻璃用作分隔构件50。另外，分隔构件50的厚度t例如能设为2[mm]～4[mm]左右。分隔构件50是以收纳有光源43的光源室40的内部空间成为气密的方式，配置于处理室30与光源室40之间，将流体流动的处理室30与光源室40之间加以划分。分隔构件50使发光元件42所发出的紫外线透过，朝向处理室30照射紫外线，由此对在处理室30的内部流动的流体进行杀菌。此外，分隔构件50的材料并不限定于石英玻璃，例如也可以是透过紫外线的氟化钙(caf2)。

第一膜51是以将与处理室30相向的分隔构件50的第一面50a加以覆盖的方式配设。第一膜51例如为ptfe及其他氟系树脂。具体而言，可列举：赛托普(cytop，注册商标)、特氟龙(teflon，注册商标)、氟萨福(fluorosurf，注册商标)等，但并不限定于这些。另外，第一膜51的厚度t1[nm]若设为例如10[nm]以下，进而设为2[nm]～3[nm]左右，则抑制透过率的下降。另外，第一膜51与水的接触角理想为100[°]左右。此外，不包括第一膜51的分隔构件50的接触角为50[°]左右。

第二膜52是以将与光源室40相向的分隔构件50的第二面50b加以覆盖的方式配设。第二膜52是抑制由光源43照射的紫外光的反射的抗反射膜。具体而言，氟化镁(mgf2)、五氧化二钽(ta2o5)、二氧化硅(sio2)等能够用作第二膜52。第二膜52是以例如波长250～300[nm]下的反射率成为4[％]以下的方式来设置。第二膜52的厚度t2[nm]能够设为例如30[nm]以上、60[nm]以下。

另外，第二膜52可以是氟化镁(mgf2)、五氧化二钽(ta2o5)、二氧化硅(sio2)等的单层膜，也可以是例如在低折射率的二氧化硅(sio2)等，层叠高折射率的氟化镁(mgf2)、五氧化二钽(ta2o5)等而形成两层膜的多层膜。在所述情况下，低折射率的层与高折射率的层的层叠顺序并未限定。另外，在多层膜的情况下，所层叠的层的数量并不限定为两层。

(第二实施方式)

图3是表示第二实施方式的流体杀菌装置的应用例的示意图。如图3所示，第二实施方式的流体杀菌装置1a中，流体排出的方向与流体杀菌装置1不同。具体而言，从处理室30的前表面31侧供给的流体流向分隔构件50，进而沿着分隔构件50而从处理室30的侧面32排出，在处理室30的前表面31侧折返，进而从流体杀菌装置1a的周面26(参照图1)侧排出。具有此种流体流路的流体杀菌装置1a中也能够维持杀菌性能。

(第三实施方式)

图4是表示第三实施方式的流体杀菌装置的应用例的示意图。如图4所示，第三实施方式的流体杀菌装置1b中，流体排出的方向与流体杀菌装置1、流体杀菌装置1a不同。具体而言，从处理室30的前表面31侧供给的流体流向分隔构件50，进而沿着分隔构件50而从处理室30的侧面32排出，在处理室30的前表面31侧折返，从流体杀菌装置1b的一端27(参照图1)侧排出。具有此种流体流路的流体杀菌装置1b中也能够维持杀菌性能。

如上所述，实施方式的流体杀菌装置1包括处理室30、光源室40、分隔构件50及第一膜51。处理室30对流体进行处理。光源室40设置有朝向处理室30照射紫外线的光源43。分隔构件50具有紫外线透过性，将处理室30与光源室40加以划分。第一膜51将与处理室相向的分隔构件50的第一面50a加以覆盖。由此，分隔构件50难以污染，能够维持杀菌性能。

另外，实施方式的第一膜51为氟系树脂。由此，分隔构件50难以污染，能够维持杀菌性能。

另外，实施方式的第一膜51的厚度t1为10[nm]以下。由此，能够确保由第一膜51带来的防污性能，能够维持杀菌性能。

另外，实施方式的流体杀菌装置1包括处理室30、光源室40、分隔构件50及第二膜52。处理室30对流体进行处理。光源室40设置有朝向处理室30照射紫外线的光源43。分隔构件50具有紫外线透过性，将处理室30与光源室40加以划分。第二膜52将与光源室40相向的分隔构件50的第二面50b加以覆盖。由此，紫外线容易透过，能够维持杀菌性能。

另外，实施方式的第二膜52是抑制由光源43照射的紫外光的反射的抗反射膜。由此，能够防止紫外线的反射，能够维持杀菌性能。

另外，实施方式的第二膜52的厚度t2为30[nm]以上、60[nm]以下。由此，能够确保由第二膜52带来的抗紫外线反射性能，能够维持杀菌性能。

此外，所述各实施方式中，在分隔构件50的表面包括第一膜51及第二膜52这两者，但并不限定于此，只要包括第一膜51及第二膜52中的一者即可。另外，所述各实施方式中，在分隔构件50的第一面50a侧设置有第一膜51，且在第二面50b侧设置有第二膜52，但并不限定于此，也可在第一面50a侧包括第一膜51及第二膜52这两者，或在第二面50b侧包括第二膜52及第一膜51这两者。在所述情况下，层叠顺序并未限定。

另外，所述各实施方式中，处理室30是作为内部不存在隔板等的一个空间而图示，但并不限定于此。例如，也可在处理室30的内部包括一个以上的管状构件，为了使流体的流动方向在管状构件的内部与外部不同而为单重管以上的流路结构，也可包括由一个或多个隔板所划分的多个处理室30。

虽已对本发明的若干实施方式加以说明，但这些实施方式是作为例子而提出，并非想要限定发明的范围。这些实施方式能够以其他的多种方式来实施，能够在不脱离发明的要旨的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式或其变形包含于发明的范围或要旨中，同样包含于权利要求所记载的发明及其均等的范围内。