一种用于制备纳米材料的研磨装置的制作方法

文档序号:13271058阅读:来源:国知局
技术特征:
1.一种用于制备纳米材料的研磨装置,其特征在于:包括有机架(1),机架(1)的上端部装设有呈水平横向布置的固定支撑板(11),固定支撑板(11)的中间位置开设有上下完全贯穿的筒体安装孔(111),固定支撑板(11)配装有研磨筒体(21),研磨筒体(21)的下端部嵌装于固定支撑板(11)的筒体安装孔(111)内且研磨筒体(21)的下端部延伸至固定支撑板(11)的下端侧,研磨筒体(21)的上端部延伸至固定支撑板(11)的上端侧,研磨筒体(21)的内部成型有朝上开口的研磨腔室(211),研磨筒体(21)的上端部于研磨腔室(211)的上端开口处装设有研磨筒盖(22),研磨筒体(21)的下表面开设有与研磨腔室(211)连通的出料孔,出料孔装设有出料管道(31),研磨筒体(21)上端部的外表面开设有与研磨腔室(211)连通的进料孔,进料孔装设有进料管道(41),进料管道(41)的末端装设有进料漏斗(43),出料管道(31)装设有用于控制出料管道(31)通断状态的出料控制电磁阀(32),进料管道(41)装设有用于控制进料管道(41)通断状态的进料控制电磁阀(42);研磨筒盖(22)的上表面螺装有研磨驱动电机(51),研磨筒盖(22)的中间位置可相对转动地装设有呈竖向布置且朝下延伸至研磨腔室(211)内的研磨驱动转轴(52),研磨驱动转轴(52)的上端部与研磨驱动电机(51)的动力输出轴连接,研磨驱动转轴(52)套卡有至少两个从上至下依次间隔排布的研磨驱动盘(53),各研磨驱动盘(53)的下表面分别装设有呈均匀间隔分布且分别朝下凸出延伸的介质驱动块(54);研磨筒体(21)于研磨腔室(211)的底部装设有压力传感器(61),研磨筒盖(22)的下表面装设有超声波距离传感器(62),该用于制备纳米材料的研磨装置配装有与外部电源电连接的研磨控制器(7),出料控制电磁阀(32)、进料控制电磁阀(42)、研磨驱动电机(51)、压力传感器(61)、超声波距离传感器(62)分别与研磨控制器(7)电连接。2.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米材料的研磨装置,其特征在于:所述机架(1)装设有加料指示灯(8),加料指示灯(8)与所述研磨控制器(7)电连接。
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