用于膜分离装置的清洗设备的制作方法

本发明涉及核电厂膜分离装置维护设备技术领域，特别是涉及一种用于膜分离装置的清洗设备。

背景技术：

核电厂在运行时会产生大量的放射性废液，随着核电站的增多，国家对放射性废液的排放要求越来越严格，目前核电厂是通过膜分离装置对废液进行处理，膜分离装置处理后的废液能达到排放要求。但是膜分离装置处理后，膜分离装置上会残留大量的放射性物质，直接影响膜分离装置的使用寿命和使用效果，因此需要对膜分离装置进行清洗。但是传统的清洗方式是通过人工进行清洗，残留的放射性物质对清洗人员存在辐射威胁，不利于清洗人员作业。

技术实现要素：

基于此，有必要针对传统的膜分离装置通过人工清洗，存在辐射威胁，不利于作业的问题，提供一种无需人工清洗的用于膜分离装置的清洗设备。

一种用于膜分离装置的清洗设备，所述膜分离装置包括第一膜组件和第二膜组件，所述清洗设备包括：

储液箱，用于储存清洗介质，所述储液箱具有进液口和出液口，且所述进液口分别与所述第一膜组件的出液端及第二膜组件的出液端连通，所述出液口分别与所述第一膜组件的进液端及所述第二膜组件的进液端连通；

第一电磁阀，连接于所述出液口和所述第一膜组件的进液端之间，用于保持或断开所述出液口和所述第一膜组件的进液端之间的连通；

第二电磁阀，连接于所述出液口和所述第二膜组件的进液端之间，用于保持或断开所述出液口和所述第二膜组件的进液端之间的连通；

控制器，分别与所述第一电磁阀和所述第二电磁阀电连接，用于控制所述第一电磁阀和所述第二电磁阀的开启和关闭。

通过设置上述的用于膜分离装置的清洗设备，控制器先控制第一电磁阀处于开启状态，第二电磁阀处于关闭状态，从而保持出液口与第一膜组件的进液端之间的连通，并断开出液口与第二膜组件的进液端之间的连通，以对第一膜组件进行清洗，第一膜组件清洗结束之后，再通过控制器控制第一电磁阀处于关闭状态，第二电磁阀处于开启状态，从而保持出液口与第二膜组件的进液端之间的连通，并断开出液口与第一膜组件的进液端之间的连通，以对第二膜组件进行清洗。

如此，无需人工对膜分离装置进行清洗，避免了残留在膜分离装置上的放射性物质对清洗人员的辐射威胁，方便了膜分离装置的清洗，且降低了人工成本。此外，第一膜组件的出液端及第二膜组件的出液端与进液口是连通的，因此使得清洗完膜分离装置后的清洗介质可流回储液箱，从而使得清洗介质在还可以使用的情况下循环使用，节约了成本。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括清洗泵，所述清洗泵连接于所述出液口和所述第一电磁阀及所述第二电磁阀之间，用于将所述储液箱的清洗介质输送至所述第一电磁阀及所述第二电磁阀；

所述控制器与所述清洗泵电连接，用于控制所述清洗泵的开启或关闭，从而控制保持或停止将所述清洗介质输送至所述第一电磁阀及所述第二电磁阀。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括总电磁阀及第三电磁阀，所述总电磁阀连接于所述清洗泵和所述第一电磁阀及所述第二电磁阀之间，用于保持或断开所述清洗泵和所述第一电磁阀及所述第二电磁阀的连通；

所述第三电磁阀连接于所述清洗泵和所述进液口之间，用于保持或断开所述清洗泵和所述进液口之间的连通；

所述控制器分别与所述总电磁阀及所述第三电磁阀电连接，用于控制所述总电磁阀及所述第三电磁阀的开启和关闭，且当所述总电磁阀开启时，所述第三电磁阀关闭，当所述第三电磁阀开启时，所述总电磁阀关闭。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括温度传感器，所述温度传感器设置于所述储液箱内，用于监测所述储液箱内液体的温度；

所述控制器与所述温度传感器电连接，用于将所述温度传感器监测的温度值与预设温度值作比较，并根据比较结果控制所述总电磁阀与所述第三电磁阀的开启和关闭。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括ph计，所述ph计设置于所述储液箱内，用于检测所述储液箱内液体的ph；

所述控制器与所述ph计电连接，用于将所述ph计检测的ph值与预设ph值作比较，并根据比较结果控制所述总电磁阀与所述第三电磁阀的开启和关闭。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第一压力传感器，所述第一压力传感器设置于所述清洗泵远离所述储液箱的一侧，用于检测所述清洗泵输出所述清洗介质的输出压力；

所述控制器与所述第一压力传感器电连接，用于根据所述第一压力传感器检测的输出压力值控制所述清洗泵的运行。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括过滤器，所述过滤器连接于所述清洗泵和所述第一电磁阀及所述第二电磁阀之间，用于过滤输送至所述第一电磁阀和所述第二电磁阀的清洗介质。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第二压力传感器及第三压力传感器，所述第二压力传感器设置于所述过滤器靠近所述储液箱的一侧，用于检测输入到所述过滤器的清洗介质的输入压力；

所述第三压力传感器设置于所述过滤器远离所述储液箱的一侧，用于检测所述过滤器输出的过滤后的清洗介质的输出压力；

所述控制器分别与所述第二压力传感器及所述第三压力传感器电连接，用于根据所述第二压力传感器检测的输入压力值与所述第三压力传感器检测的输出压力值之间的差值判断所述过滤器的运行状况。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第一流量传感器，所述第一流量传感器设置于所述清洗泵和所述第一电磁阀及所述第二电磁阀之间，用于检测输送至所述第一电磁阀或所述第二电磁阀的清洗介质的流量；

所述控制器与所述第一流量传感器电连接，用于根据所述第一流量传感器检测的流量值控制所述清洗泵的运行。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括液位监测器，所述液位监测器设置于所述储液箱内，用于监测所述储液箱内液体的液位；

所述控制器与所述液位监测器电连接，用于根据所述液位监测器监测的液位值控制所述清洗泵的运行。

在其中一个实施例中，第一膜组件的出液端包括第一排液口，所述清洗设备还包括第四电磁阀、第五电磁阀及第六电磁阀；

所述第四电磁阀设置于所述第一排液口，用于开启或关闭所述第一排液口，且所述第四电磁阀的出液端分别与所述第二电磁阀的出液端、所述第五电磁阀的进液端及所述第六电磁阀的进液端连通；

所述第五电磁阀设置于所述第二膜组件的进液端，用于开启或关闭所述第二膜组件的进液端，所述第五电磁阀的进液端与所述第二电磁阀的出液端及所述第六电磁阀的进液端连通；

所述第六电磁阀连接于所述第四电磁阀和所述储液箱之间，用于保持或断开所述第四电磁阀与所述储液箱之间的连通，且所述第六电磁阀的进液端分别与所述第二电磁阀的出液端、所述第四电磁阀的出液端及所述第五电磁阀的进液端连通。

在其中一个实施例中，所述控制器分别与所述第四电磁阀、第五电磁阀及第六电磁阀电连接，用于控制所述第四电磁阀、第五电磁阀及第六电磁阀的开启和关闭；

当所述控制器控制所述第四电磁阀和所述第六电磁阀开启时，所述控制器同时控制所述第二电磁阀及所述第五电磁阀关闭；

当所述控制电磁阀控制所述第二电磁阀及所述第五电磁阀开启时，所述控制器同时控制所述第四电磁阀及所述第六电磁阀关闭。

在其中一个实施例中，所述第一膜组件的出液端还包括第二排液口，所述清洗设备还包括第一单向阀，所述第一单向阀设置于所述第二排液口，用于使得所述第二排液口输出的介质单向流动。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第七电磁阀，所述第七电磁阀连接于所述第二排液口和所述进液口之间，用于保持或断开所述第二排液口和所述进液口的连通；

所述控制器与所述第七电磁阀电连接，用于控制所述第七电磁阀的开启或关闭。

在其中一个实施例中，所述第二膜组件的出液端包括第三排液口，所述清洗设备还包括第八电磁阀及第九电磁阀；

所述第八电磁阀连接于所述第三排液口和所述进液口之间，用于保持或断开所述第三排液口和所述进液口的连通；

所述第九电磁阀与所述第三排液口连接，用于控制所述膜分离装置的产生的浓水的排放；

所述控制器与所述第八电磁阀及所述第九电磁阀电连接，用于控制所述第八电磁阀及所述第九电磁阀的开启和关闭。

在其中一个实施例中，所述第二膜组件的出液端还包括第四排液口，所述清洗设备还包括第二单向阀，所述第二单向阀连接于所述第四排液口与所述第七电磁阀之间，用于使得所述第二排液口输出的介质单向流动。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第十电磁阀，所述第十电磁阀的进液端分别与所述第一单向阀及所述第二单向阀连接，用于排出经所述膜分离装置处理后的废液。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第四压力传感器及第五压力传感器，所述第四压力传感器设置于所述第一膜组件的进液端，用于检测所述第一膜组件的进液端的压力；

所述第五压力传感器分别与所述第一膜组件及所述第二膜组件的出液端连接，用于检测所述第一膜组件及所述第二膜组件排出的液体的压力；

所述控制器分别与所述第四压力传感器及所述第五压力传感器电连接，用于根据所述第四压力传感器测量的压力值与所述第五压力传感器测量的压力值的差值控制所述清洗设备的运行。

在其中一个实施例中，所述清洗设备还包括第二流量传感器，所述第二流量传感器分别与所述第一膜组件及所述第二膜组件的出液端连接，用于检测所述第一膜组件及所述第二膜组件排出的液体的流量；

所述控制器与所述第二流量传感器电连接，用于根据所述第二流量传感器测量的流量值控制所述清洗设备的运行。

附图说明

图1为本发明一实施例提供的用于膜分离装置的清洗设备的示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“或/及”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，本发明一实施例提供的用于膜分离装置的清洗设备100，膜分离装置包括第一膜组件200和第二膜组件300，清洗设备100包括储液箱12、第一电磁阀14、第二电磁阀16及控制器(图未示)。

储液箱12用于储存清洗介质，储液箱12具有出液口和进液口，且出液口分别与第一膜组件200的进液端及第二膜组件300的进液端连通，进液口分别与第一膜组件200的出液端及第二膜组件300的出液端连通。

第一电磁阀14连接于出液口和第一膜组件200的进液端之间，用于保持或断开出液口和第一膜组件200的进液端之间的连通；第二电磁阀16连接于出液口和第二膜组件300的进液端之间，用于保持或断开出液口和第二膜组件300的进液端之间的连通。

控制器分别与第一电磁阀14和第二电磁阀16电连接，用于控制第一电磁阀14和第二电磁阀16的开启和关闭。

具体地，控制器包括第一清洗状态及第二清洗状态，当控制器处于第一清洗状态，第一电磁阀14处于开启状态，第二电磁阀16处于关闭状态，从而保持出液口与第一膜组件200的进液端之间的连通，并断开出液口与第二膜组件300的进液端之间的连通；

当控制器处于第二清洗状态，第二电磁阀16处于开启状态，第一电磁阀14处于关闭状态，从而保持出液口与第二膜组件300的进液端之间的连通，并断开出液口与第一膜组件200的进液端之间的连通。

通过设置上述的用于膜分离装置的清洗设备，控制器先控制第一电磁阀14处于开启状态，第二电磁阀16处于关闭状态，从而保持出液口与第一膜组件200的进液端之间的连通，并断开出液口与第二膜组件300的进液端之间的连通，以对第一膜组件200进行清洗，第一膜组件200清洗结束之后，再通过控制器控制第一电磁阀14处于关闭状态，第二电磁阀16处于开启状态，从而保持出液口与第二膜组件300的进液端之间的连通，并断开出液口与第一膜组件200的进液端之间的连通，以对第二膜组件300进行清洗。

如此，无需人工对膜分离装置进行清洗，避免了残留在膜分离装置上的放射性物质对清洗人员的辐射威胁，方便了膜分离装置的清洗，且降低了人工成本。此外，第一膜组件200的出液端及第二膜组件300的出液端与进液口是连通的，因此使得清洗完膜分离装置后的清洗介质可流回储液箱12，从而使得清洗介质在还可以使用的情况下循环使用，节约了成本。

需要进行说明的是，由于膜分离装置的清洗需要用到的清洗介质是液体，对于液体流通的部件，需要通过管道实现这些部件之间的连通，因此上述的出液口与进液端连通，进液口与出液端连通是通过连接管道连通的，第一电磁阀14和第二电磁阀16则是设置在管道中的。当然，后续的介质的流通也是通过连接管道连通的，这是可以理解的，故不做赘述。

在一些实施例中，储液箱12具有一容置腔，用于储存清洗介质，进液口和出液口与容置腔连通。进一步地，储液箱12还开设有与容置腔连通的排气孔，清洗设备还包括排气阀11，排气阀11连接于储液箱12的排气孔处，用于控制储液箱12内气体的排出。

在一些实施例中，清洗设备还包括清洗泵13，清洗泵13连接于出液口和第一电磁阀14及第二电磁阀16之间，用于将储液箱12的清洗介质输送至第一电磁阀14及第二电磁阀16。进一步地，控制器与清洗泵13电连接，用于控制清洗泵13的开启或关闭，从而控制保持或停止将清洗介质输送至第一电磁阀14及第二电磁阀16。

在一些实施例中，清洗设备还包括总电磁阀15，总电磁阀15连接于清洗泵13和第一电磁阀14及第二电磁阀16之间，用于保持或断开清洗泵13和第一电磁阀14及第二电磁阀16的连通。进一步地，清洗设备还包括第三电磁阀17，第三电磁阀17连接于清洗泵13和进液口之间，用于保持或断开清洗泵13和进液口之间的连通。控制器分别与总电磁阀15及第三电磁阀17电连接，用于控制总电磁阀15及第三电磁阀17的开启和关闭，且当总电磁阀15开启时，第三电磁阀17关闭，当第三电磁阀17开启时，总电磁阀15关闭。

如此，在需要在储液箱12内配制清洗介质时，可关闭总电磁阀15并开启第三电磁阀17，然后开启清洗泵13，从而使得储液箱12内的液体从储液箱12到清洗泵13，然后通过第三电磁阀17回到储液箱12，然后以此路径循环，进而对储液箱12内的液体充分搅拌。

在一些实施例中，清洗设备还包括温度传感器18，温度传感器18设置于储液箱12内，用于监测储液箱12内液体的温度；控制器与温度传感器18电连接，用于将温度传感器18监测的温度值与预设温度值作比较，并根据比较结果控制总电磁阀15与第三电磁阀17的开启和关闭。具体地，预设温度值为25摄氏度，当温度传感器18监测到的温度高于25摄氏度时，说明清洗介质的配制达到了温度要求。

在一些实施例中，清洗设备还包括ph计19，ph计19设置于储液箱12内，用于检测储液箱12内液体的ph；控制器与ph计19电连接，用于将ph计19检测的ph值与预设ph值作比较，并根据比较结果控制总电磁阀15与第三电磁阀17的开启和关闭。具体地，预设ph值为2，当ph计19检测到储液箱12内液体的ph值小于2时，说明清洗介质的配制达到了ph要求。

可以理解的是，温度传感器18和ph计19用于确定清洗介质的配制是否完成，即在清洗介质配制时，清洗泵13和第三电磁阀17开启，总电磁阀15关闭，当清洗介质达到温度要求和ph要求，则表示配制完成，此时控制器控制关闭清洗泵13和第三电磁阀17。当然，温度传感器18和ph计19也可以用于确认清洗过膜分离装置后的清洗介质是否还可以继续用于膜分离装置的清洗。

此外，清洗泵13时包括输送清洗介质到膜分离装置中以及搅拌储液箱12内的清洗介质两个状态，而在清洗泵13进行状态转换时，清洗泵13会先停止运行，然后在开始运行以进入另一状态。

在一些实施例中，清洗设备还包括第一压力传感器20，第一压力传感器20设置于清洗泵13远离储液箱12的一侧，用于检测清洗泵13输出清洗介质的输出压力。进一步地，控制器与第一压力传感器20电连接，用于根据第一压力传感器检测的输出压力值控制清洗泵13的运行。

如此，当第一压力传感器20检测到清洗泵13输出清洗介质的输出压力值较小时，控制器控制清洗泵13提高清洗介质的输出压力；当第一压力传感器20检测到清洗泵13输出清洗介质的输出压力较大时，控制器控制清洗泵13降低清洗介质的输出压力。

在一些实施例中，清洗设备还包括过滤器21，过滤器21连接于清洗泵13和第一电磁阀14及第二电磁阀16之间，用于过滤输送至第一电磁阀14和第二电磁阀16的清洗介质。进一步地，清洗设备还包括第二压力传感器22及第三压力传感器23，第二压力传感器22设置于过滤器21靠近储液箱12的一侧，用于检测输入到过滤器21的清洗介质的输入压力；第三压力传感器23设置于过滤器21远离储液箱12的一侧，用于检测过滤器21输出的过滤后的清洗介质的输出压力。

实际应用中，过滤器21位于总电磁阀15远离第一压力传感器20的一侧，第二压力传感器22位于过滤器21与总电磁阀15之间，第三压力传感器23位于过滤器21远离总电磁阀15的一侧。具体地，过滤器21为保安过滤器21。

在一些实施例中，控制器分别与第二压力传感器22及第三压力传感器23电连接，用于根据第二压力传感器22检测的输入压力值与第三压力传感器23检测的输出压力值之间的差值判断过滤器21的运行状况。当第二压力传感器22检测到的输入压力值与第三压力传感器23检测到的输出压力值之间的差值过大时，则说明过滤器21里面的滤芯需要进更换。

在一些实施例中，清洗设备还包括警报器，警报器与控制器电连接，控制器根据清洗设备其他部件的运行情况控制警报器的运行。例如，上述实施例中第二压力传感器22检测到的输入压力值和第三压力传感器23检测到的输出压力值之间的差值过大时，控制器控制警报器发出警报。当然，对应不同的部件发出的警报可以不同。具体地，警报器为声光警报器。

在一些实施例中，清洗设备还包括第一流量传感器24，第一流量传感器24设置于清洗泵13和第一电磁阀14及第二电磁阀16之间，用于检测输送至第一电磁阀14或第二电磁阀16的清洗介质的流量。进一步地，控制器与第一流量传感器24电连接，用于根据第一流量传感器24检测的流量值控制清洗泵13的运行。具体地，第一流量传感器24位于第三压力传感器23远离过滤器21的一侧，且位于第三压力传感器23与第一电磁阀14及第二电磁阀16之间。

如此，当第一流量传感器24检测到输送至第一电磁阀14或第二电磁阀16的清洗介质的流量小于预设流量时，控制器控制清洗泵13运行，继续输送清洗介质；当第一流量传感器24检测到清洗泵13输出清洗介质的输出流量达到预设流量时，控制器控制清洗泵13停止输出清洗介质。

可以理解的是，第一流量传感器24与第一压力传感器20的检测数据是呈正比的，第一流量传感器24是用于检测通过第一电磁阀14或第二电磁阀16进入到第一膜组件200或第二膜组件300的清洗介质的流量，而第一压力传感器20是检测输送压力，输送压力越大，流量也大。

在一些实施例中，清洗设备还包括液位监测器25，液位监测器25设置于储液箱12内，用于监测储液箱12内液体的液位。进一步地，控制器与液位监测器25电连接，用于根据液位监测器25监测的液位值控制清洗泵13的运行。

当储液箱12内的清洗介质的液位较低时，控制器控制总电磁阀15关闭，同时停止清洗泵13运行，并且控制警报器发出液位低的警报，然后进行清洗介质的配制；当清洗介质液位达到要求，且清洗介质自身也达到温度和ph要求时，控制器控制总电磁阀15开启，清洗泵13运行。

在一些实施例中，第一膜组件200的出液端包括第一排液口220，清洗设备还包括第四电磁阀26、第五电磁阀27及第六电磁阀28。第四电磁阀26设置于第一排液口220，用于开启或关闭第一排液口220，且第四电磁阀26的出液端分别与第二电磁阀16的出液端、第五电磁阀27的进液端及第六电磁阀28的进液端连通；第五电磁阀27设置于第二膜组件300的进液端，用于开启或关闭第二膜组件300的进液端，第五电磁阀27的进液端与第二电磁阀16的出液端及第六电磁阀28的进液端连通；第六电磁阀28连接于第四电磁阀26和储液箱12之间，用于保持或断开第四电磁阀26与储液箱12之间的连通，且第六电磁阀28的进液端分别与第二电磁阀16的出液端、第四电磁阀26的出液端及第五电磁阀27的进液端连通。

由于膜分离装置在用于处理废液时，废液先通过第一膜分离装置，然后从第一膜分离装置的第一排液口220排出进入到第二膜分离装置，因此第一膜分离装置的第一排液口220是与第二膜分离装置连通的，为了使得第一膜分离装置和第二膜分离装置分次进行清洗，在第一排液口220处设置第四电磁阀26，在第二膜组件300的进液端设置第五电磁阀27，然后通过第六电磁阀28控制第四电磁阀26与进液口之间的连通。

在一些实施例中，控制器分别与第四电磁阀26、第五电磁阀27及第六电磁阀28电连接，用于控制第四电磁阀26、第五电磁阀27及第六电磁阀28的开启和关闭；当控制器控制第四电磁阀26和第六电磁阀28开启时，控制器同时控制第二电磁阀16及第五电磁阀27关闭；当控制器控制第二电磁阀16及第五电磁阀27开启时，控制器同时控制第四电磁阀26及第六电磁阀28关闭。

如此，在进行第一膜组件200的清洗时，清洗介质是可以通过第一排液口220排出的，此时可关闭第二电磁阀16和第五电磁阀27，同时开启第四电磁阀26和第六电磁阀28，使得清洗介质可直接排放到储液箱12中，而不会进入到第二膜组件300内；在进行第二膜组件300清洗时则可关闭第四电磁阀26和第六电磁阀28，开启第二电磁阀16和第五电磁阀27。

在一些实施例中，第一膜组件200的出液端还包括第二排液口240，清洗设备还包括第一单向阀29，第一单向阀29设置于第二排液口240，用于使得第二排液口240输出的介质单向流动，防止第二排液口240排出的介质回流到第一膜组件200内。

在此需要进行解释的是，第二排液口240输出的介质包括上述的清洗介质以及第一膜组件200处理废液产生的介质，且都是液体。

在一些实施例中，清洗设备还包括第七电磁阀30，第七电磁阀30连接于第二排液口240和进液口之间，用于保持或断开第二排液口240和进液口的连通。进一步地，控制器与第七电磁阀30电连接，用于控制第七电磁阀30的开启或关闭。具体地，第七电磁阀30位于第一单向阀29和进液口之间。

在一些实施例中，第二膜组件300的出液端包括第三排液口320，清洗设备还包括第八电磁阀31，第八电磁阀31连接于第三排液口320和进液口之间，用于保持或断开第三排液口320和进液口的连通。进一步地，清洗设备还包括第九电磁阀32，第九电磁阀32与第三排液口320连接，用于控制膜分离装置的产生的浓水的排放。

在一些实施例中，控制器与第八电磁阀31及第九电磁阀32电连接，用于控制第八电磁阀31及第九电磁阀32的开启和关闭。当第八电磁阀31开启时，第九电磁阀32关闭，用于将清洗第二膜组件300后的清洗介质排放到储液箱12中，而第九电磁阀32开启时，第八电磁阀31关闭，用于将膜分离装置产生的浓水排出。因此，第八电磁阀31和第九电磁阀32的进液端是连通的。

在一些实施例中，第二膜组件300的出液端还包括第四排液口340，清洗设备还包括第二单向阀33，第二单向阀33连接于第四排液口340与第七电磁阀30之间，用于使得第四排液口340输出的介质单向流动。该第四排液口340输出的介质与上述第二排液口240输出的介质相同。

需要解释的是，第一单向阀29和第二单向阀33的作用是相同的，且第一单向阀29和第二单向阀33的出液端是连通的。如此，第七电磁阀30是位于两个单向阀和进液口之间，也就是第七电磁阀30开启时是使得第一膜组件200的第二排液口240排出的清洗介质以及第二膜组件300的第四排液口340排出的清洗介质可排放到储液箱12内。

在一些实施例中，清洗设备还包括第十电磁阀34，第十电磁阀34的进液端分别与第一单向阀29及第二单向阀33连接，用于排出经膜分离装置处理后的废液。结合第一单向阀29和第二单向阀33的出液端是连通的，第十电磁阀34与两个单向阀连通的。

在一些实施例中，清洗设备还包括第四压力传感器35及第五压力传感器36，第四压力传感器35设置于第一膜组件200的进液端，用于检测第一膜组件200的进液端的压力；第五压力传感器36分别与第一膜组件200及第二膜组件300的出液端连接，用于检测第一膜组件200及第二膜组件300排出的液体的压力。

具体地，第四压力传感器35位于第一电磁阀14和第一膜组件200之间，第五压力传感器36位于第十电磁阀34与两个单向阀之间，两个单向阀输出的经膜分离装置处理后的废液是通过第十电磁阀34输出的，第五压力传感器36是用于检测该输出压力的。

在一些实施例中，控制器分别与第四压力传感器35及第五压力传感器36电连接，用于根据第四压力传感器35测量的压力值与第五压力传感器36测量的压力值的差值控制清洗设备的运行，当第四压力传感器35检测到的输入压力值与第五压力传感器36检测到的输出压力值之间的压差不符合要求时，控制器则控制清洗设备对膜分离装置进行清洗。可以理解的是，控制器控制清洗设备对膜分离装置进行清洗是指控制器控制清洗设备中与控制器电连接的部件按照顺序依次动作，从而实现对膜分离装置的清洗。

在一些实施例中，清洗设备还包括第二流量传感器37，第二流量传感器37分别与第一膜组件200及第二膜组件300的出液端连接，用于检测第一膜组件200及第二膜组件300排出的液体的流量。具体地，第二流量传感器37位于第五压力传感器36远离第十电磁阀34的一侧，且第二流量传感器37和第五压力传感器36的作用对象相同，均是经膜分离装置处理后的废液，但是第二流量传感器37是用于检测处理后的废液的排出流量。

在一些实施例中，控制器与第二流量传感器37电连接，用于根据第二流量传感器37测量的流量值控制清洗设备的运行。当第二流量传感器37检测到的流量值小于正常值时，控制器控制清洗泵13等部件对膜分离装置进行清洗。具体地，流量值相较于正常值降低了百分之十到百分之十五时，控制器控制清洗设备对膜分离装置进行清洗。

在一些实施例中，控制器包括彼此电连接的plc自动控制模块和人机交互模块，plc自动控制模块与上述的电磁阀及传感器等被控制的部件电连接，用于自动控制上述部件的运行，而人机交互模块则是用于使操作人员调节或控制plc自动控制模块，从而实现对清洗设备的控制。

需要进行说明的是，上述的控制器在确认膜分离装置需要清洗，也就是根据第四压力传感器35和第五压力传感器36的数据或者第二流量传感器37的数据判断膜分离装置需要进行清洗时，存在两种情况：

一是当清洗介质是人为添加时，控制器不会自动开始清洗，而是操作人员将介质添加到储液箱12内后，操作人员通过人机交互模块对清洗设备中清洗介质的配制及清洗设备对膜分离装置的清洗进行控制；

二是当清洗介质为自动添加时，控制器也可以自动对膜分离装置进行清洗，即可以是控制器控制加料装置将介质加入到储液箱12内，然后自动进行清洗介质的配制，并且自动对膜分离装置进行清洗，此时人机交互模块主要是将清洗过程中的数据可视化地显示出来，操作人员可根据数据实时监控，并在紧急情况下停止清洗设备的运行。

为了便于理解本发明的技术方案，在此对上述实施例中的膜分离装置的大致工作过程以及清洗设备的工作过程进行说明：

在膜分离装置中处理的废液是有给水泵输送，且经过第三单向阀400及是第一电磁阀14进入到第一膜组件200的进液端，控制器与第十一电磁阀500电连接，且在控制器确认膜分离装置需要清洗时，控制器会控制关闭给水泵、第九电磁阀32、第十电磁阀34和第十一电磁阀500，从而停止膜分离装置对废液的处理。

第一膜组件200处理后的废液分别从第一排液口220和第二排液口240排出，从第一排液口220排出的废液进入到第二膜组件300中，继续由第二膜组件300处理，第二膜组件300处理后的废液也分别通过第三排液口320和第四排液口340排出，从第三排液口320排出的就是浓水，而从第二排液口240和第四排液口340排出的经处理的废液会汇流到一根管道内，即上述的两个单向阀的输出端连通的。

s110，控制器实时监测膜分离装置的运行情况，并根据运行情况判断膜分离装置是否需要清洗。

具体地，当膜分离装置运行情况出现以下情况或者上述实施例描述的情况时，此时的膜分离装置则需要进行清洗。具体情况包括：为了维持正常的产品水流量，经温度校正后给水压力增加了百分之十到百分之十五，或者产品水质降低百分之十到百分之十五且沿透过率增加了百分之十到百分之十五，或者使用压力增加了百分之十到百分之十五，或者膜分离装置设备各段间的压差增加明显。

可以理解的是，上述的产品水流量和产品水质是指经处理的废液。给水压力是指给水泵的输出压力，可在给水泵的输出废液的一侧设置压力传感器，且该压力传感器与控制器电连接，从而使得控制器获取给水压力；产品水质以及盐透过率是通过对应的检测元件检测，且对应的检测元件与控制器电连接；膜分离装置设备各段件的压差也是通过多个压力传感器进行检测，多个压力传感器与控制器电连接即可。

以下是在控制器检测到膜分离装置需要进行清洗后的步骤，而且在清洗之前清洗设备所有阀门已经关闭：

s120，往储液箱12中注入除盐水，控制器打开清洗泵13，然后控制开启对应的电磁阀，以使除盐水冲洗膜分离装置及管道。

具体地，需要冲洗的管道是指放射性废液流经的管道，而对应的电磁阀就是第一电磁阀14、第二电磁阀16等可使除盐水流经膜分离装置及对应管道的电磁阀对应的电磁阀。当然，除盐水可以分第一膜组件200和第二膜组件300分次注入，也可以同时注入第一膜组件200和第二膜组件300。s130，控制器控制自动添加药剂至储液箱12中，然后控制器控制打开清洗泵13和第三电磁阀17，以进行清洗介质的配制。

具体地，当储液箱12内的液体达到上述的温度要求以及ph要求，则说明清洗介质配制完成，此时如果储液箱12内液位也达到了要求的话，则可以进行后续步骤，否则继续添加药剂进行清洗介质的配制。可以理解的是，除盐水一种清洗介质，药剂配制呈的清洗介质是另一种清洗介质，而且在除盐水注入并排出后需要将所有阀门关闭。

s140，控制器控制关闭清洗泵13和第三电磁阀17，并开启第一电磁阀14、第四电磁阀26、第六电磁阀28以及第七电磁阀30。

s150，控制器控制清洗泵13开启。

进一步地，步骤s140中电磁阀开启后两秒控制器控制清洗泵13开启，以使控制器进入第一清洗状态。

具体地，清洗泵13采用变频控制，需要使得清洗介质以不超过100立方米每小时的流量对第一膜组件200进行第一次循环清洗，第一次循环清洗时需要保证清洗泵13输出压力为40psi到60psi，第一次循环清洗的时间为5分钟到15分钟；第一次循环清洗结束后用不超过120立方米每小时的流量对第一膜组件200进行第二次循环清洗，第二次循环清洗的时间为10分钟到15分钟。

s160，控制器控制关闭清洗泵13、第一电磁阀14、第四电磁阀26、第六电磁阀28以及第七电磁阀30，以使第一膜组件200浸泡在清洗介质中。

具体地，浸泡时间为1小时。

s170，控制器控制开启第一电磁阀14、第四电磁阀26、第六电磁阀28及第七电磁阀30。

s180，控制器控制开启清洗泵13。

进一步地，步骤s170中电磁阀开启后两秒控制器控制清洗泵13开启。

具体地，用不超过120立方米每小时的流量对第一膜组件200进行第三次循环清洗，第三次循环清洗的时间为20分钟到60分钟。

s190，控制器控制关闭清洗泵13、第一电磁阀14、第四电磁阀26以及第六电磁阀28。

s200，控制器控制开启第二电磁阀16、第五电磁阀27以及第八电磁阀31。

需要说明的是，步骤s190和步骤s200动作过程中，清洗介质会通过第七电磁阀30流回到储液箱12内。

s210，控制器控制开启清洗泵13。

进一步地，步骤s200中电磁阀开启后两秒控制器控制清洗泵13开启，以使控制器进入第二清洗状态。

具体地，清洗泵13采用变频控制，需要使得清洗介质以不超过40立方米每小时的流量对第二膜组件300进行第一次循环清洗，第一次循环清洗时需要保证清洗泵13输出压力为40psi到60psi，第一次循环清洗的时间为5分钟到15分钟；第一次循环清洗结束后用不超过50立方米每小时的流量对第二膜组件300进行第二次循环清洗，第二次循环清洗的时间为10分钟到15分钟。

s220，控制器控制关闭清洗泵13、第二电磁阀16、第五电磁阀27、第七电磁阀30及第八电磁阀31，以使第二膜组件300浸泡在清洗介质中。

具体地，浸泡时间为1小时。

s230，控制器控制开启第二电磁阀16、第五电磁阀27、第七电磁阀30及第八电磁阀31。

s240，控制器控制开启清洗泵13。

进一步地，步骤s230中电磁阀开启后两秒控制器控制清洗泵13开启。

具体地，用不超过40立方米每小时的流量对第二膜组件300进行第三次循环清洗第三次循环清洗的时间为20分钟到60分钟。

s250，控制器控制关闭清洗泵13、总电磁阀15、第二电磁阀16、第七电磁阀30以及第八电磁阀31。

s260，控制器控制开启第四电磁阀26、第九电磁阀32、第十电磁阀34以及第十一电磁阀500，膜分离装置重新进行作业。

需要进行说明的是，第一清洗状态以及第二清洗状态是分别是控制器控制上述元件清洗第一膜组件200或第二膜组件300时的状态。同时，上述的清洗时间的设定可以是操作人员通过人机交互模块进行设置，例如浸泡时间可以根据清洗难度的增加进行延长。

与现有技术相比，本发明提供的用于膜分离装置的清洗设备至少具有以下优点：

1)无需人工进行清洗，避免了对清洗人员的辐射威胁，降低了人工成本；

2)自动对膜分离装置是否需要清洗进行检测，无需清洗人员进行人为的检测，避免了对清洗人员的辐射威胁，进一步降低了人工成本；

3)对膜分离装置实现自动清洗，提高了效率，降低了人工成本。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。