1.一种可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，包含：
一吸盘组件，包含一中壳体与一第一吸盘，该第一吸盘设置于该中壳体，该第一吸盘吸附于该表面，该第一吸盘具有一气腔，该气腔贯穿该第一吸盘并且于该第一吸盘的一端形成一气口；以及
一基座，可设置该物件，该基座设置于该中壳体并受外力作用相对该中壳体远离及靠近，当该基座受外力作用并靠近该中壳体时，该基座封闭该气口，当该基座受外力作用并远离该中壳体时，该基座脱离该气口。
2.如权利要求1所述的可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，该中壳体包含一盘体以及二第二通道，该盘体具有一顶面以及一底面，该二第二通道各自贯穿该顶面与该底面，该二第二通道各具有一大径段以及一小径段，该小径段及该大径段分别靠近该顶面及该底面并且彼此连通，该基座包含一本体以及二连接部，该本体位于该盘体的该顶面，该本体具有一顶部以及一底部，该顶部用以设置该物件，该二连接部为凸柱，该二连接部各包含一柱体以及一环状凸缘，该柱体一端连接于该本体的该底部，该环状凸缘环设于该柱体另一端的外周缘，该二柱体分别插设该二第二通道，并且该二柱体分别滑移于该二第二通道的该大径段及该小径段，该二环状凸缘分别位于该二第二通道的该大径段中，该环状凸缘的外径大于该小径段的直径，该二柱体进而分别限位于该二第二通道中并滑移一固定距离。
3.如权利要求2所述的可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，该中壳体还包含一第一容置区以及一第一通道，该盘体的该底面由边缘向中心逐渐凹陷形成该第一容置区，该第一通道贯穿该盘体的该底面与该顶面并且位于该盘体中心，该第一吸盘包含一身部、一挡止部、一吸附部以及一吸附口，该挡止部为环状凸缘并凸设于该身部一端的外周缘，该吸附部设置于该身部的另一端，并且该身部与该吸附部分别位于该第一通道以及该第一容置区中，该挡止部卡抵于该顶面，该吸附部的外径大于该第一通道的直径，进而使该身部及该吸附部分别定位于该第一通道及该第一容置区中，该气腔贯穿该身部及该吸附部并分别于该身部及该吸附部形成该气口及该吸附口。
4.如权利要求2所述的可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，该二第二通道对称于该盘体中心。
5.如权利要求2至4任一项所述的可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，该本体设置一第二吸盘并用以将该物件固定于该本体的该顶部。
6.如权利要求2至4任一项所述的可将一物件定位于一表面的吸附装置，其特征在于，该基座还包含一外环部，该外环部环设于该本体的该底部外缘并围绕出一第二容置区，该盘体位于该第二容置区中。