离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置制造方法

离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置制造方法
【专利摘要】本发明公开一种结构简单、成本低、填充材料方便可靠，可同时实现消除压力波动和过滤净化气体的离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置，有壳体（1），在壳体（1）一侧设有材料填充口（III），与材料填充口（III）对应设置有可拆卸密封盖（3）和密封垫（4），在壳体（1）内竖直设置有透气隔层（2），透气隔层（2）将壳体（1）内分为两个腔，靠近材料填充口（III）的腔为缓冲腔（5），另一腔为干燥剂腔（6），与缓冲腔（5）相通有气体入口（I），与干燥剂腔（6）相通有气体出口（II），缓冲腔（5）内填充有气体阻尼材料，干燥剂腔（6）内填充有干燥过滤材料。
【专利说明】离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种离子迁移谱用气体过滤装置，尤其是一种结构简单、成本低、填充材料方便可靠，可同时实现消除压力波动和过滤净化气体的离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置。
【背景技术】
[0002]离子迁移谱主要用于常压下检测痕量气态化学物质，基本原理是先将被检测的样品蒸汽或微粒气化，之后经过膜及填充有活性炭、分子筛等过滤装置滤除其中的烟雾、无机分子和水分子等杂质，最后被载气携带进入漂移管的反应区。在反应区内，样品气体首先经射线电离而形成产物离子，在反应区电场的作用下移向离子门。控制离子门的开关脉冲，形成周期性进入漂移区的离子脉冲，并在漂移电场的作用下沿轴向向收集电极漂移。在已知漂移区长度和漂移区内电场条件下，测量出离子通过漂移区到达收集电极所用的时间，就可以计算出离子的迁移率(迁移率的定义是指在单位电场强度作用下离子的漂移速度)，从而可以辨识被检测物种类。
[0003]整个检测过程中，样品气体压力稳定程度及质量直接影响检测结果。现有离子迁移谱的气体稳压及过滤装置为分体结构，不仅占用了仪器安装的空间，而且存在着诸如部件间连接等问题，整体结构比较复杂。另外，由于其气体压力波动值只允许几帕斯卡到几十帕斯卡，因此都使用质量流量计等作为稳压装置，存在着价格昂贵的问题。

【发明内容】

[0004]本发明是为了解决现有技术所存在的上述技术问题，提供一种结构简单、成本低、填充材料方便可靠，可同时实现消除压力波动和过滤净化气体的离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置。
[0005]本发明的技术解决方案是:一种离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置，其特征在于:有壳体，在壳体一侧设有材料填充口，与材料填充口对应设置有可拆卸密封盖和密封垫，在壳体内竖直设置有透气隔层，透气隔层将壳体内分为两个腔，靠近材料填充口的腔为缓冲腔，另一腔为干燥剂腔，与缓冲腔相通有气体入口，与干燥剂腔相通有气体出口，缓冲腔内填充有气体阻尼材料，干燥剂腔内填充有干燥过滤材料。
[0006]本发明是将气体稳压与过滤集为一体，可同时实现消除压力波动和过滤净化气体，具有结构简单、成本低、填充材料方便可靠等优点，可满足高灵敏度可达纳克甚至匹克量级)的检测要求。
【专利附图】

【附图说明】
[0007]图1是本发明实施例的结构示意图。
【具体实施方式】[0008]下面将结合【专利附图】

【附图说明】本发明的【具体实施方式】。如图1所示:有壳体1，可为管体，在壳体I 一侧设有材料填充口 III，与材料填充口 III对应设置有可拆卸密封盖3和密封垫4，在壳体I内竖直设置有透气隔层2 (如？？)，透气隔层2将壳体I内分为两个腔，靠近材料填充口 III的腔为缓冲腔5，另一腔为干燥剂腔6，与缓冲腔5相通有气体入口 I，与干燥剂腔6相通有气体出口 II，缓冲腔5内填充有气体阻尼材料，干燥剂腔6内填充有干燥过滤材料(如活性炭、分子筛等)。
[0009]安装时，打开密封盖3，先将干燥过滤材料置于干燥剂腔6，再安装透气隔层2，最后将气体阻尼材料置于缓冲腔5，关闭密封盖，使壳体I内处于密封状态。
[0010]样品气体从气体入口 I先进入缓冲腔5，经气体阻尼材料减小气体波动，通过透气隔层2将样品气体中存在的有机物质(包括密封垫4逸出至样品中的有机物质)，然后再经过活性炭、分子筛等过滤材料对样品气体进行深度除水(可达Ippm以下)，最终由气体出口II流出。
【权利要求】
1.一种离子迁移谱用可消除压力波动的气体过滤装置，其特征在于:有壳体(1)，在壳体(I) 一侧设有材料填充口(III)，与材料填充口(III)对应设置有可拆卸密封盖(3)和密封垫(4)，在壳体(I)内竖直设置有透气隔层(2)，透气隔层(2)将壳体(I)内分为两个腔，靠近材料填充口( III)的腔为缓冲腔(5)，另一腔为干燥剂腔(6)，与缓冲腔(5)相通有气体入口(I)，与干燥剂腔(6)相通有气体出口(II)，缓冲腔(5)内填充有气体阻尼材料，干燥剂腔(6)内填充有干燥过滤材料。
【文档编号】G01N1/34GK103675086SQ201310660379
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年12月10日 优先权日:2013年12月10日
【发明者】杜永斋, 史喜成, 张骧, 高晓强, 王丽, 康健, 刘杭军 申请人:大连金瑞威达科技有限公司, 中国人民解放军63971部队