1.一种离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：包括一用于承载硅片的底座和四对欧姆表表笔，四对欧姆表表笔分别对应于硅片的四条侧边缘设置，且各欧姆表表笔与底座之间绝缘设置，底座与硅片之间绝缘设置； 两条相对的侧边缘对应的两对欧姆表表笔中，至少一对欧姆表表笔相对于底座在垂直于对应侧边缘的方向上移动设置； 每对欧姆表表笔中至少一支欧姆表表笔沿平行于硅片对应侧边缘的方向上移动设置。
2.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：所述欧姆表表笔在水平方向上相对于所述底座平移。
3.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：各欧姆表表笔与对应的驱动机构连接，欧姆表表笔与驱动机构之间绝缘设置。
4.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：所述底座的尺寸小于硅片尺寸。
5.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：每对欧姆表表笔均相对于所述底座在垂直于硅片对应侧边缘的方向上移动设置。
6.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：每对欧姆表表笔中的两支欧姆表表笔均相对于底座在平行于硅片对应侧边缘的方向上移动设置。
7.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：对应于各欧姆表表笔设置有位置控制器。
8.根据权利要求1所述的离线测试刻蚀后硅片边缘电阻的装置，其特征在于：在测试状态下，欧姆表表笔的测试端垂直于硅片上对应的侧边缘。