本实用新型涉及一种硅片自动插片机，尤其涉及一种硅片自动插片机的上料装置。
背景技术：
硅片自动插片机是在硅片清洗过程中用于将硅片插入清洗篮的设备。硅片自动插片机的上料装置是其重要机构之一，现有市场上的硅片自动插片机，其是将硅片置于放片工装中，放片工装置于水中，然后通过上料装置将硅片移出水面，并通过与上料装置相连的进料装置将硅片移送至清洗篮中，进料装置为水平布置的输送线，而上料装置为存在一定坡度的输送线，在上料过程中，由于存在坡度，易发生硅片拍打上料装置的问题，进而容易造成硅片隐裂，由此，急需解决。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于针对上述问题，提供一种硅片自动插片机的上料装置，以解决现有硅片自动插片机的上料装置易出现硅片拍打上料装置，进而造成硅片隐裂的问题。
本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现：
一种硅片自动插片机的上料装置，包括支架，所述支架上安装有输送装置，所述输送装置包括主动轮、从动轮、输送皮带及驱动装置，所述输送皮带的上端面倾斜布置，所述支架上安装有固定架，所述固定架上安装有喷气嘴，所述喷气嘴通过气管与气源相连，且喷气嘴位于输送皮带上端面的上方，喷气嘴的出气方向正对输送皮带的上端面。
作为本实用新型的一种优选方案，所述驱动装置为电机，所述电机为减速电机。
作为本实用新型的一种优选方案，所述气管上由气源的一端至喷气嘴的一端依次设置有阀门、调节阀、压力表。
作为本实用新型的一种优选方案，所述阀门为电磁阀。
作为本实用新型的一种优选方案，所述调节阀为电动调节阀。
本实用新型的有益效果为，所述一种硅片自动插片机的上料装置结构简单、易于实现，通过在输送皮带上端面的上方设置喷气嘴，喷气嘴吹出的气体可将硅片压在输送皮带上端面，避免硅片在坡度较大的输送皮带上出现拍击输送皮带的现象，进而避免硅片出现隐裂的现象。
附图说明
图1为本实用新型一种硅片自动插片机的上料装置的结构示意图。
图中:
1、支架；2、主动轮；3、从动轮；4、输送皮带；5、喷气嘴。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。可以理解的是，此处所描述的实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。
请参照图1所示，图1为本实用新型一种硅片自动插片机的上料装置的结构示意图。
于本实施例中，一种硅片自动插片机的上料装置，包括支架1，所述支架1上安装有输送装置，所述输送装置包括主动轮2、从动轮3、输送皮带4及电机，所述电机为减速电机，所述输送皮带4的上端面倾斜布置，所述支架1上安装有固定架，所述固定架上安装有喷气嘴5，所述喷气嘴5通过气管与气源相连，且喷气嘴5位于输送皮带4上端面的上方，喷气嘴5的出气方向正对输送皮带4的上端面，所述气管上由气源的一端至喷气嘴5的一端依次设置有阀门、调节阀、压力表，所述阀门为电磁阀，所述调节阀为电动调节阀。
上述一种硅片自动插片机的上料装置在运行时，喷气嘴5吹出的气体可将硅片压在输送皮带4上端面，避免硅片在坡度较大的输送皮带4上出现拍击输送皮带4的现象，进而避免硅片出现隐裂的现象，且喷气嘴5的气压可自由调节，结构简单、易于实现。
以上实施例只是阐述了本实用新型的基本原理和特性，本实用新型不受上述实施例限制，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还有各种变化和改变，这些变化和改变都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书界定。