一种硅片清洗水槽的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种硅片清洗水槽，包括水槽箱体，清洗篮，所述清洗篮为中空结构，包括侧壁、中空位置和硅片槽位，其特征在于，还包括一种缓冲装置，所述缓冲装置包括橡胶垫板，所述橡胶垫板放置在所述水槽箱体上，所述橡胶垫板上设有缓冲块，所述缓冲块上放置所述清洗篮。在分插片过程中，硅片在接触硅片清洗篮槽底前先接触到缓冲保护装置上的缓冲块，缓冲块起到缓冲和隔绝的作用，避免了硅片在接触硅片篮槽底瞬间受到的冲击力，对硅片的端面起到很好的保护作用，从而有效避免了硅片崩缺、硅粉脱落、隐裂等缺陷的产生，具有结构简单、成本低，且操作方便、快捷的优点。
【专利说明】
一种硅片清洗水槽
技术领域
[0001]本实用新型涉及太阳能硅片生产领域，特别涉及一种硅片清洗水槽。
【背景技术】
[0002]硅片生产环节，通常分为铸锭、开方(破锭)、倒角抛光、粘胶、切片、清洗五个工序。其中，清洗工序的目的是对线切割完成的硅片进行清洗，该工序具体包括预清洗和深清洗。在预清洗脱胶后，需要将硅片插入硅片清洗篮，再进入下一道清洗工序。
[0003]—般情况下，硅片分插片包括人工手工插片和设备自动插片。在这两种插片过程中，硅片都是垂直或者倾斜往下进入硅片清洗篮。由于硅片本身为硬脆性材料，而硅片清洗篮一般材质硬度较高，在插片过程中，硅片端面触碰到槽底时，经常会引起硅片接触点位置的崩缺、硅粉脱落、隐裂等现象。
[0004]现有的改善措施一般采用硅片篮槽底捆绑聚氨酯条的方式来降低硅片受到的冲击力，但是聚氨酯条经高温和酸碱浸泡后，短期内会硬化而失去缓冲作用，使用周期短。另夕卜，聚氨酯条会引起硅片端面沾污，增加硅片黑斑等一系列问题出现的风险。
【发明内容】
[0005]本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗水槽。
[0006]本实用新型的技术方案为:
[0007]—种硅片清洗水槽，包括水槽箱体，清洗篮，所述清洗篮为中空结构，包括侧壁、中空位置和硅片槽位，其特征在于，还包括一种缓冲装置，所述缓冲装置包括橡胶垫板，所述橡胶垫板放置在所述水槽箱体上，所述橡胶垫板上设有缓冲块，所述缓冲块上表面与所述清洗篮底部中空位置相接触。
[0008]其中，所述缓冲块为整体式结构，所述缓冲块的上表面设有若干凹槽，所述凹槽将所述缓冲块上表面分割成若干凸起，所述凹槽与所述清洗篮侧壁相接触，所述凸起置于所述清洗篮中空位置下方。
[0009]其中，所述橡胶垫板上表面设有凹坑，所述凹坑的表面尺寸与所述缓冲块的下表面的尺寸一致，所述缓冲块通过插入到凹坑与所述橡胶垫块相连接。
[0010]其中，所述缓冲块通过粘接剂与橡胶垫板相连接。
[0011]优选地，所述粘接剂为818胶水。
[0012]其中，所述缓冲块分体式结构，所述缓冲块为相互独立的长方体，并相隔一定的空间距离，所述清洗篮侧壁卡在所述缓冲块之间，所述缓冲块置于所述清洗篮中空位置下方。
[0013]其中，所述橡胶垫板上表面设有若干凹坑，所述单个凹坑的表面尺寸与所述单个缓冲块的下表面的尺寸一致，所述缓冲块通过插入到凹坑与所述橡胶垫块相连接。
[0014]其中，所述缓冲块通过粘接剂与橡胶垫板相连接。
[0015]优选地，所述粘接剂为818胶水。
[0016]其中，所述缓冲块相对的两侧面设置有挡片，所述挡片通过粘接剂与缓冲块和橡胶垫相连接。
[0017]优选地，所述挡片的高度低于所述缓冲块的高度。
[0018]优选地，所述挡片材质为不锈钢。
[0019]优选地，所述挡片的形状为L型；
[0020]优选地，所述缓冲块为橡胶发泡海绵三元乙丙。
[0021]本实用新型的优点为，在水箱箱体上设置缓冲装置，橡胶垫板对缓冲块进行支撑和固定，在分插片过程中，硅片在接触硅片清洗篮槽底前先接触到缓冲保护装置上的缓冲块，缓冲块起到缓冲和隔绝的作用，避免了硅片在接触硅片篮槽底瞬间受到的冲击力，对硅片的端面起到很好的保护作用，从而有效避免了硅片崩缺、硅粉脱落、隐裂等缺陷的产生，具有结构简单、成本低，且操作方便、快捷的优点。
【附图说明】
[0022]图1是现有技术中清洗篮的侧面示意图；
[0023]图2是现有技术中清洗篮的俯视示意图；
[0024]图3是本实用新型第一实施例的缓冲装置的正面示意图；
[0025]图4是本实用新型第一实施例的缓冲装置的右面示意图；
[0026]图5是本实用新型第一实施例的缓冲装置的俯视示意图；
[0027]图6是本实用新型第二实施例的缓冲装置的正面示意图；
[0028]图7是本实用新型第二实施例的缓冲装置的右面示意图；
[0029]图8是本实用新型第一实施例的缓冲装置的硅片清洗水槽的俯视示意图；
[°03°]附图中附图标记所对应的名称为:1-橡胶垫板，101-凹坑，2-缓冲块，201-缓冲块凹槽，202-缓冲块凸起，3-挡片，4-清洗篮，401-清洗篮侧壁，402-清洗篮中空位置，5-水槽箱体。
【具体实施方式】
[0031]本实用新型的核心是提供一种带有缓冲装置的硅片清洗水槽，缓冲装置避免了硅片在接触硅片篮槽底瞬间受到的冲击力，对硅片的端面起到很好的保护作用，从而有效避免了硅片崩缺、硅粉脱落、隐裂等缺陷的产生。
[0032]为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合附图和实施方式对本实用型的进一步的详细说明。
[0033]实施例1
[0034]请参考图1?图5和图8，在该实施例中，本实用新型公布了一种硅片清洗水槽，该清洗水槽包括水槽箱体I，清洗篮4和缓冲装置，其中，清洗篮4的中空位置的尺寸为130 X 95X 65mm，缓冲装置包括橡胶垫板I和缓冲块2。橡胶垫板I的尺寸长X宽X厚度=1400 X 200X 3mm，底部有101凹坑尺寸为1180 X 20 X 1.5mm。橡胶垫板I放置在水槽箱体上，橡胶凹坑101上用818胶水固定缓冲块2，缓冲块2的材质为橡胶发泡海绵三元乙丙，缓冲块2的尺寸为1180 X20 X35mm，其中，缓冲块凹槽201尺寸为长X宽X高= 20X20X25mm，缓冲块凸起202尺寸为长X宽X高= 130X20X 25mm，。清洗篮侧壁401卡在缓冲块凹槽内，缓冲块凸起202置于清洗篮402中空位置下方。
[0035]实施例2
[0036]请参考图1、2、6和图7，在该实施例中，本实用新型公布了一种硅片清洗水槽，该清洗水槽包括水槽箱体I，清洗篮4和缓冲装置，其中，清洗篮4的中空位置的尺寸为130 X 95 X65mm，缓冲装置包括橡胶垫板I和缓冲块2。橡胶垫板I的尺寸长X宽X厚度=1400 X 200 X3mm，橡胶垫板I放置在水槽箱体上，橡胶垫板I上用818胶水固定缓冲块2，缓冲块2的材质为橡胶发泡海绵三元乙丙，缓冲块2为8个尺寸为130 X 20 X 35mm的长方体。每个缓冲块之间相隔距离为20mm，缓冲块2相对的两侧面设置有L型挡片，挡片3的尺寸为长X宽X高X厚度=130 X 20 X 20 X 1mm，挡片3的材质为不锈钢。橡胶垫板I，缓冲块2与挡片3利用818胶水粘接固定。清洗篮侧壁401卡在缓冲块2之间，缓冲块2置于清洗篮402中空位置下方。
【主权项】
1.一种硅片清洗水槽，包括水槽箱体(5)，清洗篮(4)，所述清洗篮(4)为中空结构，包括侧壁(401)、中空位置(402)和硅片槽位，其特征在于，还包括一种缓冲装置，所述缓冲装置包括橡胶垫板(I )，所述橡胶垫板放置在所述水槽箱体(5)上，所述橡胶垫板(I)上设有缓冲块(2)，所述缓冲块(2)上放置所述清洗篮(4)。2.如权利要求1所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述缓冲块(2)为整体式结构，所述缓冲块的上表面设有若干凹槽(201)，所述凹槽(201)将所述缓冲块上表面分割成若干凸起(202)，所述凹槽(201)卡住所述清洗篮侧壁(401)，所述凸起(202)置于所述清洗篮中空位置(402)下方。3.如权利要求2所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述橡胶垫板(I)上表面设有凹坑(101)，所述凹坑(101)的表面尺寸与所述缓冲块(2)的下表面的尺寸一致，所述缓冲块(2)通过插入到所述凹坑(101)与所述橡胶垫块(I)相连接。4.如权利要求2所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述缓冲块(2)通过粘接剂与橡胶垫板(I)相连接。5.如权利要求1所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述缓冲块(2)为分体式结构，所述缓冲块(2)为相互独立的长方体，并相隔一定的空间距离，所述清洗篮侧壁(401)卡在所述缓冲块(2)之间，所述缓冲块置于所述清洗篮中空位置(402)下方。6.如权利要求5所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述橡胶垫板(I)上表面设有若干凹坑(101)，所述单个凹坑(101)的表面尺寸与所述单个缓冲块(2)的下表面的尺寸一致，所述缓冲块(2)通过插入到所述凹坑(101)与所述橡胶垫块(I)相连接。7.如权利要求5所述的硅片清洗水槽，其特征在于:所述缓冲块(2)通过粘接剂与橡胶垫板(I)相连接。8.如权利要求1?7任一所述的硅片清洗水槽，其特征在于，所述缓冲块(2)相对的两侧面设置有挡片(3)，所述挡片(3)通过粘接剂与缓冲块(2)和橡胶垫(I)相连接。9.如权利要求8所述的硅片清洗水槽，其特征在于，所述挡片(3)的高度低于所述缓冲块(2)的高度。10.如权利要求9所述硅片清洗水槽，其特征在于，所述挡片(3)的材质为不锈钢。
【文档编号】B08B13/00GK205570972SQ201620278493
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年4月6日
【发明人】范立峰, 章金兵, 况云辉, 付红平
【申请人】江西赛维Ldk太阳能高科技有限公司