1.一种分析装置，其特征在于，包括底座、支架、射线源、检测器和传送带；其中，所述底座设置于所述装置底部，用于支撑所述装置；所述支架底端固定于所述底座上，所述支架中部弯折，支架顶端设置有朝向所述底座方向的射线源；所述底座上与所述射线源相对设置有探测器；所述传送带设置于所述射线源与所述探测器之间；所述探测器为固态探测器。
2.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述支架包括固定部和活动部；所述固定部为中空柱体，设置于所述底座上；所述活动部的中部成直角弯折，所述活动部的竖直部分与所述固定部配合，设置于所述固定部内并可沿所述固定部滑动，所述活动部的水平部分末端固定有所述射线源。
3.根据权利要求2所述的分析装置，其特征在于，所述固定部侧面设置有锁定机构，所述锁定机构用于限制所述活动部。
4.根据权利要求3所述的分析装置，其特征在于，所述锁定机构包括锁定螺栓，所述锁定螺栓设置于所述固定部侧面，靠近其上端处的螺孔内；所述锁定螺栓用于锁紧并限制所述活动部移动。
5.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述射线源为137Cs和241Am。
6.根据权利要求1所述的分析装置，其特征在于，所述探测器为固态硅光电倍增二极管或碲锌镉探测器。