1.一种传感器，其特征在于，包括：流量测量单元(1)，以及至少部分围绕所述流量测量单元(1)设置的加热装置(8)。
2.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，沿着被测流体流向，在所述流量测量单元(1)的上游和下游设置所述加热装置(8)。
3.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述加热装置(8)完全围绕所述流量测量单元(1)。
4.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述加热装置(8)的长度b和所述流量测量单元(1)的长度h的比例为：1.5≤b/h≤5。
5.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述流量测量单元(1)和所述加热装置(8)之间的距离c的范围为0-300um。
6.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述加热装置(8)的宽度a的范围为1-3mm。
7.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述流量测量单元(1)和所述加热装置(8)设置在硅片载体(3)上。
8.根据权利要求7所述的传感器，其特征在于，所述硅片载体(3)还包括对应于所述流量测量单元(1)设置的第一镂空区域(5)和/或对应于所述加热装置(8)设置的第二镂空区域(6)。
9.根据权利要求8所述的传感器，其特征在于，所述加热装置(8)的宽度a小于所述第二镂空区域(6)的宽度d。
10.根据权利要求1所述的传感器，其特征在于，所述加热装置(8)为电阻丝或加热膜。