表面检查设备及方法
【技术领域】
[0001]所描述的技术总地涉及表面检查设备及方法。
【背景技术】
[0002]CRT显示器近来已经被便携式薄的平板显示器替代。有机发光二极管(OLED)显示器是自发光的，并能够由低电压驱动。OLED显示器还重量轻并且薄，并具有宽视角、高对比度和快响应速度，从而被认为是下一代显示技术。
[0003]为了制造薄和/或柔性的OLED显示器，近来已经使用了薄膜封装(TFE)，该薄膜封装包括多个无机膜和有机膜以密封有机发光器件。
[0004]已经开展了对使用干涉仪的检查设备的研究，从而精确地测量具有大面积的表面的形状。
【发明内容】
[0005]发明的一个方面是表面检查设备及方法。
[0006]另一方面是一种表面检查方法，该表面检查方法包括:将物体放置在工作台上，该工作台包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面包括彼此垂直的第一方向和第二方向；通过使用表面检查单元照射光到物体上，该表面检查单元包括干涉仪和成像装置，该干涉仪具有在实质上垂直于所述平面的第三方向上对准的光轴，该成像装置接收通过干涉仪形成的干涉光；获得通过成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像；在第一方向和/或第二方向上移动表面检查单元和/或工作台；获得通过成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在第三方向上移动表面检查单元，以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动。
[0007]在一些实施方式中，表面检查方法还可以包括，在放置物体之后，校准表面检查单元使得由表面检查单元照射的光的焦点位于物体上。
[0008]在一些实施方式中，表面检查方法还可以包括，在获得第二图像之后，检测并存储相对于第一干涉条纹的第二干涉条纹的间隔和/或形状上的变化；以及重构物体的对应于所述变化的表面形状。
[0009]在一些实施方式中，工作台的顶表面可以相对于所述平面倾斜0.8度至16度。
[0010]在一些实施方式中，在第三方向上移动表面检查单元以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动可以包括:计算第一干涉条纹和第二干涉条纹的数目；以及在第三方向上移动表面检查单元，使得第二干涉条纹的数目与第一干涉条纹的数目相同。
[0011]在一些实施方式中，在第三方向上移动表面检查单元可以包括通过使用压电元件在第三方向上移动表面检查单元。
[0012]在一些实施方式中，干涉仪可以包括:用于发射光的光源单元；参考反射镜；分束器，用于将从光源单元发出的光分成朝向物体和参考反射镜的两束光；以及聚焦透镜，放置在由分束器分出的朝向物体的光的路径上，其中所述照射光包括:通过穿过聚焦透镜使从光源单元发出的光聚焦在物体上。
[0013]在一些实施方式中，光源单元可以发射白光。
[0014]另一方面是一种制造显示装置的方法，该方法包括:在衬底上形成发射器件；以及在发射器件上形成薄膜封装层，其中薄膜封装层包括至少一个无机膜和有机膜，以及检查薄膜封装层中包括的无机膜的表面或者有机膜的表面，其中检查无机膜的表面或者有机膜的表面包括:将包括发射器件和至少一部分薄膜封装层的物体放置在工作台上，该工作台包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面包括彼此垂直的第一方向和第二方向；通过使用表面检查单元照射光到薄膜封装层中包括的无机膜的表面或者有机膜的表面上，表面检查单元包括干涉仪和成像装置，干涉仪具有在实质上垂直于所述平面的第三方向上对准的光轴，成像装置接收通过干涉仪形成的干涉光；获得通过成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像；在第一方向和/或第二方向上移动表面检查单元和/或工作台；获得通过成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在第三方向上移动表面检查单元，以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动。
[0015]在一些实施方式中，形成薄膜封装层可以包括:在发射器件上形成第一无机膜；在第一无机膜上形成第一有机膜；检查第一有机膜的表面；以及在第一有机膜上形成第二无机膜。
[0016]在一些实施方式中，形成薄膜封装层还可以包括:在形成第二无机膜之后，在第二无机膜上形成第二有机膜；检查第二有机膜的表面；以及在第二有机膜上形成第三无机膜。
[0017]在一些实施方式中，形成薄膜封装层还可以包括:在形成发射器件之后，形成包层和覆盖层，该包层用于改善从发射器件发出的光的特性，该覆盖层用于改善从发射器件发出的光的特性并保护发射器件。
[0018]在一些实施方式中，制造显示装置的方法还可以包括:在发射器件上形成薄膜封装层，其中薄膜封装层包括所述至少一个无机膜和所述有机膜；以及检查薄膜封装层的表面。
[0019]在一些实施方式中，制造显示装置的方法还可以包括，在检查薄膜封装层的表面之后，在薄膜封装层上形成防反射膜。
[0020]在一些实施方式中，制造显示装置的方法还可以包括，在放置物体之后，校准表面检查单元，使得表面检查单元照射的光的焦点位于薄膜封装层中包括的无机膜的表面或者有机膜的表面上。
[0021]在一些实施方式中，制造显示装置的方法还可以包括:在获得第二图像之后，检测并存储相对于第一干涉条纹的第二干涉条纹的间隔和/或形状上的变化；以及重构薄膜封装层中包括的无机膜或有机膜的对应于所述变化的表面形状。
[0022]在一些实施方式中，在第三方向上移动表面检查单元以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动可以包括:计算第一干涉条纹和第二干涉条纹的数目；以及在第三方向上移动表面检查单元，使得第二干涉条纹的数目与第一干涉条纹的数目相同。
[0023]另一方面是一种表面检查设备，该表面检查设备包括:工作台，用于支撑物体，并包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面包括彼此垂直的第一方向和第二方向；表面检查单元，包括干涉仪和成像装置，该干涉仪具有布置在实质上垂直于所述平面的第三方向上的光轴，该成像装置接收干涉光；水平驱动器，用于在第一方向和/或第二方向上移动表面检查单元和/或工作台；垂直驱动器，用于在第三方向上移动表面检查单元；以及控制单元，用于控制水平驱动器和垂直驱动器。
[0024]在一些实施方式中，工作台的顶表面可以相对于所述平面倾斜约0.8度至约16度。
[0025]在一些实施方式中，成像装置可以通过利用水平驱动器移动表面检查单元和/或工作台并获得包括干涉条纹的图像来接收干涉光，其中控制单元控制垂直驱动器以修正所述图像中包括的干涉条纹的移动并在第三方向上移动表面检查单元。
[0026]在一些实施方式中，控制单元可以包括用于计算所述图像中包括的干涉条纹的数目的计算单元。
[0027]在一些实施方式中，控制单元可以控制垂直驱动器，以保持由计算单元计算的干涉条纹的数目恒定并在第三方向上移动表面检查单元。
[0028]在一些实施方式中，垂直驱动器可以包括压电元件。
[0029]在一些实施方式中，干涉仪可以包括:用于发射光的光源单元；参考反射镜；分束器，用于将从光源单元发出的光分成朝向物体和参考反射镜的两束光；以及聚焦透镜，放置在由分束器分出的朝向物体的光的路径上，其中光的照射包括通过穿过聚焦透镜而将从光源单元发出的光聚焦在物体上。
[0030]在一些实施方式中，光源单元可以发射白光。
[0031]另一方面是一种用于显示装置的表面检查方法，该方法包括将物体放置在工作台上，该工作台包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面具有第一方向和与第一方向交叉的第二方向。该方法还包括经由表面检查单元照射光到物体上，该表面检查单元包括i)干涉仪和ii)成像装置，干涉仪具有在与所述平面交叉的第三方向上对准的光轴，成像装置接收通过干涉仪形成的干涉光。该方法还包括:获得通过成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像；在第一方向和第二方向中的至少一个上移动表面检查单元和工作台中的至少一个；获得通过成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在第三方向上移动表面检查单元以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动。
[0032]以上方法还可以包括，在放置物体之后，校准表面检查单元使得所照射的光的焦点位于物体上。
[0033]以上方法还可以包括:在获得第二图像之后，检测并存储相对于第一干涉条纹的第二干涉条纹的间隔和形状中的至少一个上的变化；以及重构物体的对应于所述变化的表面形状。
[0034]在以上方法中，工作台的顶表面可以相对于所述平面倾斜约0.8度至约16度。
[0035]在以上方法中，在第三方向上移动表面检查单元可以包括:计算第一干涉条纹和第二干涉条纹的数目以及在第三方向上移动表面检查单元使得第二干涉条纹的数目与第一干涉条纹的数目相同。
[0036]在以上方法中，在第三方向上移动表面检查单元可以包括用压电元件在第三方向上移动表面检查单元。
[0037]在以上方法中，干涉仪可以包括:光源，配置为发射光；参考反射镜；以及分束器，配置为将所发射的光分成被引向物体的第一光和被引向参考反射镜的第二光。干涉仪还包括放置在第一光的路径上的聚焦透镜，其中所述照射包括将所发射的光聚焦在物体上。
[0038]在以上方法中，光源可以配置为发射白光。
[0039]另一方面是一种制造显示装置的方法，该方法包括:在衬底上形成发射器件；在发射器件之上形成薄膜封装层，其中薄膜封装层包括至少一个无机膜和至少一个有机膜；以及检查无机膜的表面或有机膜的表面。所述检查包括:将包括发射器件和至少一部分薄膜封装层的物体放置在工作台上，该工作台具有相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面具有第一方向和与第一方向交叉的第二方向。所述检查还包括使用表面检查单元照射光到无机膜的表面或者有机膜的表面上，表面检查单元包括i)干涉仪和ii)成像装置，干涉仪具有在与所述平面交叉的第三方向上对准的光轴，成像装置接收来自干涉仪的干涉光。所述检查还包括:获得通过成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像；在第一方向和第二方向中的至少一个上移动表面检查单元和工作台中的至少一个；获得通过成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在第三方向上移动表面检查单元以修正第