有机膜232和234的表面的操作包括在发射器件220上形成第一无机膜231的操作(图7的S220)。所述操作还包括在第一无机膜231上形成第一有机膜232的操作(图7的S230)、检查第一有机膜232的表面的操作(图7的S240)、以及在第一有机膜232上形成第二无机膜233的操作(图7的S250)。所述操作还包括在第二无机膜233上形成第二有机膜234的操作S260、检查第二有机膜234的表面的操作S270、以及在第二有机膜234上形成第三无机膜235的操作S280。
[0149]根据一实施方式，第一无机膜231可以包括由SiNx、Si02、S1xNy或者Al 203形成的单层或者多层。第一无机膜231可以通过使用溅射或者化学气相沉积(CVD)形成。
[0150]包层241和/或覆盖层242可以进一步形成在第一无机膜231和发射器件220之间，包层241起到改善从发射器件220发出的光的特性的功能，覆盖层242改善从发射器件220发出的光的特性并在使用等离子体的工艺期间保护发射器件220免受损伤。根据一实施方式的覆盖层242由LiF形成。
[0151]在进行形成第一无机膜231的操作S220之后，可以进行在第一无机膜231上形成第一有机膜232的操作S230、检查第一有机膜232的表面的操作S240、以及在第一有机膜232上形成第二无机膜233的操作S250。也就是，操作S210至S250与图7的制造显示装置的方法相同，因此所述操作没有在图9中示出。下面将描述根据一实施方式的制造显示装置的方法中包括的额外操作。
[0152]在形成第二无机膜233之后，可以进行在第二无机膜233上形成第二有机膜234的操作S260和检查第二有机膜234的表面的操作S270。根据一实施方式，第二有机膜234由各种类型的有机材料形成，诸如基于环氧的树脂、基于丙烯酸的树脂或者基于聚酰亚胺的树脂等。
[0153]虽然第二有机膜234的顶表面可以是基本上平坦的，但是由于在工艺期间可能发生的各种因素，诸如突起单元和/或凹陷单元的不期望的缺陷可能在第二有机膜234的顶表面中发生，像第一有机膜232那样。当突起或者凹陷单元的高度或者深度非常大时，突起或者凹陷单元会是显示装置的缺陷。因此，每当形成有机膜时，有机膜的表面形状被测量，从而确定缺陷是否发生。
[0154]检查第二有机膜234的表面的操作S270与检查第一有机膜232的表面的操作S240相同，因此下面省略其详细说明。
[0155]在第二有机膜234上形成第三无机膜235的操作S280可以在进行检查第二有机膜234的表面的操作S270之后进行。根据一实施方式，第三无机膜235可以包括包含SiNx、S12或者S1xNy的单层。
[0156]图11是顺序地示出根据另一实施方式的制造显示装置的方法的流程图。图12是通过使用根据另一实施方式的图11的制造显示装置的方法制造的显示装置的示意截面图。
[0157]参照图11和图12，根据一实施方式的制造显示装置的方法包括在衬底410上形成发射器件420的操作S310、在发射器件420上形成包括至少一个无机膜和至少一个有机膜的薄膜封装层430的操作S320、以及检查薄膜封装层430的表面的操作S330。取决于实施方式，在图11中，可以增加额外的状态，其它状态可以被去除，或者状态的顺序可以被改变。
[0158]图7和图9的制造显示装置的方法在形成薄膜封装层130和230的工艺期间每当形成有机膜132、232和234时进行表面检查，而图11的制造显示装置的方法可以在形成薄膜封装层430之后测量薄膜封装层430的最上面的表面的形状。
[0159]薄膜封装层430可以包括至少一个无机膜和有机膜。无机膜和有机膜的数量可以改变。薄膜封装层430的最上面的层可以是无机膜，但是不限于此。
[0160]在形成薄膜封装层430之后，在测量薄膜封装层430的表面时，最上面的表面的形状可以通过叠加薄膜封装层430中包括的膜的厚度缺陷来测量。这样的测量可以用于确定薄膜封装层430的缺陷，即显示装置的缺陷。
[0161]根据一实施方式，在进行检查薄膜封装层430的表面的操作S330之后，进一步进行在薄膜封装层430上形成防反射膜450的操作S340。为了通过防止显示装置的外部反射来提高可见度，防反射膜450可以形成在显示装置中，并可以包括偏振片(未示出)和延迟片。粘合部件440可以位于薄膜封装层430和防反射膜450之间。
[0162]当缺陷通过对薄膜封装层430进行表面检查而被确认时，正在被制造的显示装置可以被放弃，而不贴附相对非常昂贵的诸如偏振片(未示出)的光学器件，因此是经济的。
[0163]如上所述，根据一个或多个示范性实施方式，表面检查设备和方法、以及利用所述表面检查设备和方法制造显示装置的方法精确地测量具有大面积的表面在整个面积上的形状。
[0164]对于本领域技术人员而言清楚的，在可能的情况下，所公开的实施方式也可以被组合。
【主权项】
1.一种用于显示装置的表面检查方法，包括: 将物体放置在工作台上，所述工作台包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，所述平面具有第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向； 经由表面检查单元照射光到所述物体上，所述表面检查单元包括干涉仪和成像装置，所述干涉仪具有在与所述平面交叉的第三方向上对准的光轴，所述成像装置接收通过所述干涉仪形成的干涉光； 获得通过所述成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像； 在所述第一方向和所述第二方向中的至少一个上移动所述表面检查单元和所述工作台中的至少一个； 获得通过所述成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在所述第三方向上移动所述表面检查单元，从而修正所述第二干涉条纹的相对于所述第一干涉条纹的移动。2.如权利要求1所述的表面检查方法，还包括，在放置所述物体之后，校准所述表面检查单元，使得所照射的光的焦点位于所述物体上。3.如权利要求1或2所述的表面检查方法，还包括，在获得所述第二图像之后， 检测并存储相对于所述第一干涉条纹的所述第二干涉条纹的间隔和形状中的至少一个上的变化；以及 重构所述物体的对应于所述变化的表面形状。4.如权利要求1所述的表面检查方法，其中所述工作台的所述顶表面相对于所述平面倾斜0.8度至16度。5.如权利要求1的表面检查方法，其中在所述第三方向上移动所述表面检查单元包括: 计算所述第一干涉条纹和所述第二干涉条纹的数目；以及 在所述第三方向上移动所述表面检查单元，使得所述第二干涉条纹的数目与所述第一干涉条纹的数目相同。6.如权利要求1所述的表面检查方法，其中在所述第三方向上移动所述表面检查单元包括用压电元件在所述第三方向上移动所述表面检查单元。7.如权利要求1所述的表面检查方法，其中所述干涉仪包括: 光源，配置为发射光； 参考反射镜； 分束器，配置为将所发射的光分成被引向所述物体的第一光和被引向所述参考反射镜的第二光；以及 聚焦透镜，放置在所述第一光的路径上， 其中经由表面检查单元照射光到所述物体上包括将所发射的光聚焦在所述物体上。8.一种用于显示装置的表面检查设备，包括: 工作台，配置为支撑物体并具有相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，所述平面具有第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向； 表面检查单元，包括干涉仪和成像装置，所述干涉仪具有在与所述平面交叉的第三方向上对准的光轴并被配置为发射干涉光，所述成像装置被配置为接收来自所述干涉仪的所述干涉光； 水平驱动器，配置为在所述第一方向和所述第二方向中的至少一个上移动所述表面检查单元和所述工作台中的至少一个； 垂直驱动器，配置为在所述第三方向上移动所述表面检查单元；以及 控制器，配置为控制所述水平驱动器和所述垂直驱动器。9.如权利要求8所述的表面检查设备，其中所述顶表面相对于所述平面倾斜0.8度至16度。10.如权利要求8或9所述的表面检查设备， 其中所述成像装置被进一步配置为借助于所述水平驱动器移动所述表面检查单元和所述工作台中的至少一个并获得包括干涉条纹的图像，以及 其中所述控制器被进一步配置为控制所述垂直驱动器以修正所述干涉条纹的移动并在所述第三方向上移动所述表面检查单元。11.如权利要求10所述的表面检查设备，其中所述控制器包括计算器，所述计算器配置为计算所述图像中包括的干涉条纹的数目。12.如权利要求11所述的表面检查设备，其中所述控制器被进一步配置为控制所述垂直驱动器以保持所计算的干涉条纹的数目实质上恒定并在所述第三方向上移动所述表面检查单元。13.如权利要求8所述的表面检查设备，其中所述垂直驱动器包括压电元件。14.如权利要求8所述的表面检查设备，其中所述干涉仪包括: 光源，配置为发射光； 参考反射镜； 分束器，配置为将所发射的光分成被引向所述物体的第一光和被引向所述参考反射镜的第二光；以及 聚焦透镜，被放置在所述第一光的路径上并被配置为聚焦所发射的光。15.如权利要求14所述的表面检查设备，其中所述光源被配置为发射白光。
【专利摘要】公开了表面检查设备和方法以及制造显示装置的方法。一方面，表面检查方法包括将物体放置在工作台上，该工作台包括相对于一平面以预定角度倾斜的顶表面，该平面具有第一方向和与第一方向交叉的第二方向。所述方法还包括经由表面检查单元照射光到物体上。所述方法还包括：获得通过成像装置捕获的包括第一干涉条纹的第一图像；在第一方向和第二方向中的至少一个上移动表面检查单元和工作台中的至少一个；获得通过成像装置捕获的包括第二干涉条纹的第二图像；以及在第三方向上移动表面检查单元以修正第二干涉条纹相对于第一干涉条纹的移动。
【IPC分类】H01L21/66, G01N21/88
【公开号】CN105588839
【申请号】CN201510766110
【发明人】权五葰, 柳敏虎, 金敏贞, 姜泰旭, 宋升勇, 刘正根
【申请人】三星显示有限公司
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2015年11月11日
【公告号】EP3021073A2, EP3021073A3, US20160131593