一种低成本制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏功能片的方法

文档序号:6635955阅读:293来源:国知局
一种低成本制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏功能片的方法
【专利摘要】本发明涉及一种制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏的方法,包括以下步骤,①在氧化铟锡膜材的氧化铟锡面采用黄光工艺,制成ITO图案层;②用银浆走线连接起对称的ITO走线,在图案下方需要走银浆线的地方,丝印绝缘油,做成绝缘油层,ITO和银浆需要导电的位置进行镂空;③在需要走银浆线的位置,整体丝印银浆线层并烘烤干;④利用激光干刻工艺处理银浆线层干刻为银浆线;本发明的技术效果是减少了银浆丝印区域所需要的高度,实现了手机及平板更大的屏占比。
【专利说明】一种低成本制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏功能片的 方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏的方法,特别涉及一种低成 本制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏功能片的方法。

【背景技术】
[0002] 传统电容功能片双端出线的下端走线采用银浆丝印方法,所需要的空间较大。现 在手机和平板电脑流行的是越来越窄的边框。


【发明内容】

[0003] 对于现有技术存在的问题,本发明提供一种低成本制作单层氧化铟锡(IT0)膜材 互电容触摸屏功能片的方法,具体技术方案是,一种低成本制作单层氧化铟锡膜材互电容 触摸屏功能片的方法,制作方法包括以下步骤, X、将氧化铟锡膜材的氧化铟锡面不需要图案位置丝印上蚀刻膏,丝印出图案,丝 印蚀刻膏厚度为14unTl6Um、印刷线条宽度为0? 2~0. 3mm,送传送式烘烤炉烘烤,温度为 130°C~140°C、传送速度为1. 5~1. 8m/min,将烘好的产品放入清洗机清洗掉蚀刻膏,剩下的 图案即是想要得到的IT0图案层; 1:、将绝缘位置丝印上绝缘油,厚度为14unTl6um,然后送传送式烘烤炉烘烤,温度为 130°C?140°C、传送速度为 1. 5?1. 8m/min; S、在所要走金属线的位置,整体丝印上银浆,就得了到银浆线层,送传送式烘烤炉烘 烤,温度为130°C?140°C、传送速度为1. 5?1. 8m/min; 、将银浆线层使用激光工艺进行干刻,刻掉不需要的地方,就成了银浆走线;t、对产品进行功能测试,区分不良品。
[0004] 本发明的技术效果是减少了银浆丝印区域所需要的高度,实现了手机及平板更大 的屏占比。

【专利附图】

【附图说明】
[0005] 图1是本发明的结构示意图。

【具体实施方式】
[0006] 本发明是对生产工艺进行优化,将银浆线丝印工艺更改为银浆激光干刻工艺,用 激光代替丝印,可以提高生产良率,步骤为, :;;在氧化铟锡膜材1的氧化铟锡面采用黄光工艺,制成IT0图案层;f因为通道是对称型的,需要用银浆走线连接起对称的IT0走线,在图案下方需要走 银浆线的地方,先丝印绝缘油隔离,做成绝缘油层3,ITO和银浆需要导电的位置进行镂空;f在需要走银浆线的位置,整体丝印好银浆线层4,送传送式烘烤炉烘烤,温度为 130°C?140°C、传送速度为 1. 5?1. 8m/min; ④利用激光干刻工艺处理银浆线层4,将整体的银浆线层4干刻为银浆线,此时的宽度 和间距分别为35um,比丝印银浆线(宽距各为0. 2mm)所占用空间大幅减少。
【权利要求】
1. 一种低成本制作单层氧化铟锡膜材互电容触摸屏功能片的方法,制作方法包括以 下步骤, X、将氧化铟锡膜材(1)的氧化铟锡面不需要图案位置丝印上蚀刻膏,丝印出图案, 丝印蚀刻膏厚度为14unTl6Um、印刷线条宽度为0? 2~0. 3mm,送传送式烘烤炉烘烤,温度为 130°C ~140°C、传送速度为I. 5~1. 8m/min,将烘好的产品放入清洗机清洗掉蚀刻膏,剩下的 图案即是想要得到的ITO图案层; 2、 将绝缘位置丝印上绝缘油,厚度为14unTl6um,然后送传送式烘烤炉烘烤,温度为 130°C ?140°C、传送速度为 L 5?I. 8m/min ; S、在所要走金属线的位置,整体丝印上银浆,就得了到银浆线层,送传送式烘烤炉烘 烤,温度为130°C?140°C、传送速度为1. 5?I. 8m/min ; I、将银浆线层使用激光工艺进行干刻,刻掉不需要的地方,就成了银浆走线; $、对产品进行功能测试,区分不良品。
【文档编号】G06F3/044GK104331206SQ201410694676
【公开日】2015年2月4日 申请日期:2014年11月27日 优先权日:2014年11月27日
【发明者】杨朝彬, 郑美珠, 张洪伟, 魏先升, 马振军 申请人:中环高科(天津)股份有限公司
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