1.一种触控模组的制作方法，其特征在于，该方法包括：
在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形，包括：
在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成负性光刻胶层；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过曝光、显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域；
在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层；
剥离所述负性光刻胶完全保留区域所对应的负性光刻胶和触控检测电极，形成触控检测电极的图形。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，该方法还包括：
在所述触控检测电极的图形上方形成绝缘层；
通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，使得所述连接部所对应的触控检测电极露出。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，包括：
在所述连接部所对应的绝缘层上方形成光刻胶层；
通过曝光、显影形成光刻胶完全保留区域和光刻胶完全去除区域，其中，所述光刻胶完全去除区域与所述连接部相对应；
刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层之后，该方法还包括：
剥离所述光刻胶完全保留区域所对应的光刻胶。
6.一种触控模组，其特征在于，所述触控模组包括：
衬底基板；
位于衬底基板上的黑矩阵，其中，所述黑矩阵包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元相连的连接部；
以及位于所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧，且与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极。
7.根据权利要求6所述的触控模组，其特征在于，所述触控模组还包括：
位于所述触控检测电极所在膜层之上的绝缘层，且所述连接部所对应的触控检测电极露出。
8.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括对盒设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述对向基板远离所述阵列基板的一侧的，如权利要求6或7所述的触控模组。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括依次位于所述触控模组上方的光学胶和盖板。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求8或9所述的显示面板。