光斑位置控制装置和光斑位置控制方法

专利名称：光斑位置控制装置和光斑位置控制方法
技术领域：
本发明涉及控制经由物镜被施加到光记录介质的光的光斑(spot)位置的光斑位置控制装置和光斑位置控制方法。
背景技术：
使用光照来记录与再现信号的光记录介质，例如，所谓的光盘诸如唱片(Compact Disc，CD)、数字化通用光盘(Digital Versatile Disc，DVD)和蓝光光盘(Blu-feiy Disc(注册商标)，BD)等已经变得越来越流行。例如，在如图^A所示的光盘诸如⑶、DVD和BD中，多个轨道(凹坑串(pit string)或凹槽)沿半径方向形成。执行其中光斑在沿半径方向配置的轨道之间跳变，即所谓的轨道跳变操作。这里，在进行轨道跳变操作时，从对作为目标的某一轨道执行跟踪伺服的状态开始执行到预定轨道的移动的情况下，首先，关闭跟踪伺服系统并且基于预定的跳变脉冲驱动物镜，由此将光斑Sp移动到目标轨道。接着，在预定的定时处提供制动脉冲以减小光斑 Sp的移动速度，并且然后打开跟踪伺服系统，从而为该目标轨道执行引入伺服。日本未审查专利申请公开No. 2004-158187为有关技术的示例。

发明内容
如上所述，在有关技术的光盘系统中，当光斑位置沿半径方向移动一个或多个轨道作为轨道跳变操作时，暂时关闭跟踪伺服系统。这是因为，如图28B所示，跟踪误差信号波形因光斑Sp从伺服目标轨道移动了半个轨道而产生了混淆现象(aliasing)。如上所述，由于跟踪伺服系统暂时关闭，所以在有关技术的光盘系统中存在一些问题，诸如当执行跳变操作时，需要再次执行如上所述的引入伺服，或者需要复杂的控制以平稳地执行引入伺服的情况。期望在不产生上述混淆现象的情况下，生成线性地表示距伺服目标轨道的跟踪误
差量的跟踪误差信号。根据本发明的实施例，提供了一种光斑位置控制装置，该光斑位置控制装置包括光照射与光感应单元、跟踪机构单元、时钟生成单元、定时选择器信号生成单元、跟踪误差信号生成单元、线性跟踪误差信号生成单元、跟踪伺服控制单元和偏移量(offset)进给单兀。光照射与光感应单元利用经由物镜的第一光照射光记录介质，并且感应来自该光记录介质的第一光的反射光，该光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔且被形成为螺旋形或同心形并且沿半径方向配置的凹坑串，其中该凹坑可成形位置在凹坑串成形方向上的间隔被设定为偏移预定的第二间隔，使得该光记录介质具有多个凹坑串相位；跟踪机构单元使该物镜沿上述半径方向平移；
时钟生成单元基于该光照射与光感应单元对该第一光的反射光进行感应所获得的光感应器信号，生成了与该凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟；定时选择器信号生成单元基于该时钟生成单元生成的时钟，生成了多个定时选择器信号，其中该多个定时选择器信号分别表示用于形成在该光记录介质上的、具有相应相位的凹坑串上的该凹坑可成形位置的定时；跟踪误差信号生成单元基于用于该第一光的反射光的光感应信号和该定时选择器信号生成单元生成的该定时选择器信号，生成了多个跟踪误差信号，其中该多个跟踪误差信号表示形成在该光记录介质上的、具有相应相位的凹坑串中的跟踪误差；线性跟踪误差信号生成单元通过依次连接该第一光的照射光斑沿半径方向移动时所获得的该多个跟踪误差信号的零交叉点周围区间中的信号，生成了线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号；跟踪伺服装置控制单元基于线性跟踪误差信号，通过驱动跟踪机构对该物镜执行跟踪伺服控制。偏移量进给单元向通过跟踪伺服控制单元执行跟踪伺服控制所形成的跟踪伺服环路进给使照射光斑沿半径方向移动的偏移量。根据本发明实施例的具有凹坑串的光记录介质的结构，可以沿半径方向配置凹坑串，以超越光学界限。另外，由于凹坑串以超越光学界限的方式沿半径方向配置，所以可以通过跟踪误差信号生成单元同时且并联地获得用于具有相应相位的凹坑串的跟踪误差信号。此时，在第一光的照射光斑沿半径方向移动的状态下，例如，如图18所示，可以获得具有与凹坑串的相位差相对应的相位差的信号。这里，如果使光斑位置沿半径方向移动，例如，用以轨道跳变，在对某一凹坑串执行跟踪伺服的状态下，用于伺服目标凹坑串的跟踪误差信号的电平随光斑的移动方向，从零电平逐渐变化到极性侧。另外，如果光斑位置的移动量到达特定值或者更大时，误差信号中就会出现上述的混淆现象。因此，在本发明的实施例中，通过同时且并联地获得用于具有相应相位的凹坑串的误差信号，并且连接用于具有相应相位的凹坑串的跟踪误差信号的零交叉点周围的信号，生成线性跟踪误差信号，其中该线性跟踪误差信号线性地表达了在有关技术中引起混淆现象的较大跟踪误差量。在此情况下，通过基于该线性跟踪误差信号执行跟踪伺服控制，在通过向伺服环路进给偏移量而使光斑位置沿半径方向移动用以轨道跳变时，即使移动量大到足以导致有关技术中的跟踪误差信号产生混淆现象，也可以避免跟踪伺服发生偏离。换言之，可以维持执行跟踪伺服的状态。也就是说，结果，可以通过闭环控制来实现将光斑位置移动一个或者多个轨道宽度的移动量，诸如轨道跳变的控制。如上所述，根据本发明的实施例，即使在光斑的移动量在一定程度上大到足以导致有关技术中的跟踪误差信号产生混淆现象的情况下，也可以生成能够线性地表达跟踪误差量的线性跟踪信号。另外，根据本发明的实施例，通过基于该线性跟踪误差信号执行跟踪伺服控制，可以通过闭环控制来实现其中必须将光斑位置移动可导致有关技术中产生混淆现象的移动量，诸如轨道跳变的光斑位置控制。


图1是解释体记录方法的视图。图2是根据有关示例和实施例的记录与再现目标的体型记录介质的剖视结构图。图3是解释在体型记录介质上或者对体型记录介质记录与再现标记的方法的视图。图4是主要解释包括在根据有关示例和实施例的光斑位置控制装置中的光系统的构造视图。图5是根据有关示例和实施例的体型记录介质的基准面的表面的部分放大平面图。图6是解释形成在整个基准面上的凹坑的结构的视图。图7A至图7C是解释地址信息的格式的视图。图8是解释随着体型记录介质的旋转驱动而在基准面上移动的伺服激光的光斑的构成，与此时获得的和信号、和微分信号和PP(push-pull，推挽)信号之间的关系的概要视图。图9是解释检测峰值位置的具体方法的视图。图10是解释从表示峰值定时的定时信号中所生成的时钟、与基于时钟和形成在基准面上的各个凹坑串(或者一部分)所生成的各个选择器信号的波形之间的关系的概要视图。图IlA及图IlB是解释反射光的光感应光斑因倾斜或者透镜平移而不重合的视图。图12是解释根据有关示例的跟踪误差信号的生成方法的视图。图13是解释根据有关技术的光斑位置控制装置的整体内部构造的方框图。图14是解释时钟生成电路的内部构造的视图。图15是是解释包括在根据有关示例的光斑位置控制装置中的选择器信号生成与选择单元的内部构造的视图。图16是解释通过根据有关示例的闭环控制来实现光斑的移动的具体的光斑位置控制方法的视图。图17是解释根据有关示例的、与用于各个凹坑串的跟踪误差信号相关联的光斑位置控制方法的视图。图18是解释根据实施例的光斑位置控制方法的视图。图19是解释线性跟踪误差信号的生成方法的视图。图20是解释根据实施例的光斑位置控制方法的内部构造的视图。图21是解释包括在根据实施例的光斑位置控制装置中的跟踪误差信号生成单元的内部构造的视图。图22是当沿半径方向移动光斑位置时所获得的各个跟踪误差信号的波形视图。图23A及图2 是解释激光的照射光斑跟踪预定的凹坑串的视图。
图M是通过修改例的线性跟踪误差信号的生成方法所生成的各个各种误差信号的波形视图。图25是解释根据修改例的线性跟踪误差信号的生成方法的视图。图沈是解释根据修改例的光记录介质的剖视结构的视图。图27是解释根据修改例的基准面的视图。图28A及图28B是解释有关技术的光盘系统中的轨道跳变操作及其问题的视图。
具体实施例方式这里，在本说明书中，在描述实施例之前，首先将描述作为本发明的基础的有关示例。另外，整体描述的流程如下。1.有关示例1-1.光记录介质，即记录与再现目标1-2.光系统的构造1-3.基准面的结构1-4.地址信息1-5.伺服目标凹坑串的选择方法1-6.对推挽信号进行采样的方法中的问题1-7.光斑位置控制装置的整体内部构造1-8.通过闭环控制实现光斑移动的具体方法2.实施例2-1.有关示例的问题2-2.根据实施例的位置控制方法2-3.根据实施例的光斑位置控制装置的构造3.修改例1.有关示例1-1.光记录介质，即记录与再现目标这里，作为包括有关示例的后述实施例中的记录与再现目标的光记录介质，将对所谓的体(bulk)记录型光记录介质(以下，体型记录介质)作为示例进行描述。体记录是其中在依次改变聚焦位置的同时，例如，如图1所示，对至少具有覆盖层和体层(记录层)的光记录介质执行激光照射，并且因此在该体层内部执行多层记录，从而实现大记录容量的技术。日本未审查专利申请公开号No. 2008-135144和日本未审查专利申请公开号 No. 2008-176902中也公开了该体记录。具体而言，对于上述体记录而言，日本未审查专利申请公开号No. 2008-135144中公开了一种被称作显微全息型的记录技术。在显微全息型中，所谓的全息记录材料被用作体层的记录材料。例如，光固化光聚合物被广泛用作全息记录材料。显微全息型大致分为正(positive)显微全息型和负(negative)显微全息型。正显微全息型是通过使两束彼此相对的光(光束A和光束B)汇聚在同一位置处以形成被用作记录标记的微小的干扰条纹(全息照片)的方法。另外，负显微全息型与正显微全息型相反，是通过激光照射来去除预先形成的干涉条纹并且将被去除的部分用作记录标记的方法。在负显微全息型中，必须预先在体层中形成干涉条纹，作为初始化处理。此外，本申请人也在日本未审查专利申请公开号No. 2008-176902中公开了一种形成空隙(间隙或者空白)作为记录标记的记录方法，一种不同于显微全息型的体记录方法。该空隙记录方法是通过以相对较高的功率对例如由光固化光聚合物之类的记录材料构成的体层执行激光照射，从而在该体层内部形成间隙的方法。如日本未审查专利申请公开号No. 2008-176902中所公开的，以此方式所形成的间隙部分具有不同于该体层中其它部分的折射率，并且能够因此提高该界面处的光的反射率。因此，上述间隙部分充当记录标记，并且通过形成这些间隙标记来实现信息记录。由于空隙记录型没有形成全息照片，所以可以从一侧照射光来完成记录。换言之， 没有必要使两个光束汇聚在同一位置来形成记录标记，这不同于正显微全息型。通过与正显微全息型相比，存在不需要初始化处理的优点。另外，尽管在日本未审查专利申请公开号No. 2008-176902中描述了当执行空隙记录时，在记录之前施加前体光的示例，但是也可以在省略前体光的照射的情况下执行空隙记录。但是，其中提出了上述各种记录方法的体型记录介质的记录层(体层)不具有明显的多层结构，即多个位置导向器或者其上形成有位置导向器的记录膜(反射膜)。也就是说，可以省略掉通常的多层光盘所具有的、形成多个记录膜(和位置导向器)的步骤，并且可以因此降低制造成本。但是，在上述图1所示的体型记录介质的结构状态下，可以在不形成标记的记录过程中不执行聚焦伺服或者跟踪伺服。由此，实际上，体型记录介质设有反射面(基准面Ref)，其中该反射面具有图2所示的位置导向器，并且被用作基准。这里，如图2所示。具有基准面的体型记录介质被称作体型记录介质1。这里，在下面的描述中，使用了术语“上层侧”和“下层侧”，并且在本说明书中，“上层侧”表示当来自后述的光斑位置控制装置(记录与再现装置10)的激光入射到的表面为上表面时的上表面侧。另外，在下面的描述中，使用了术语“深度方向”，并且该“深度方向”表示与基于 “上层侧”的定义的竖直方向一致的方向(即，与来自该装置的激光的入射方向平行的方向 聚焦方向)。在图2中，在体型记录介质1中，在覆盖层2的下层侧上通过形成凹坑串来实现呈螺旋形或者同心形的导向槽(位置导向器)，并且在其上形成选择性反射膜3。在其上形成有选择性反射膜3的覆盖层2的下层侧下方，经由例如由粘合材料如UV固化树脂制成的中间层4，来形成(贴附)体层5。这里，如下所述，形成了上述凹坑串，从而记录绝对位置信息(地址信息)如半径位置信息和旋转角度信息。在下面的描述中，其中形成有凹坑串并且记录绝对位置信息的面(在此情况下，选择性反射膜3的反射面)被称作“基准面Ref ”。另外，在介质结构中，如图3所示，用于记录(或者再现)标记)的激光(以下，也被称作记录与再现激光，或者被简称为记录与再现光)，和伺服激光(被简称为伺服光)(作为用于位置控制的激光)被施加到体型记录介质1。如图所示，记录与再现激光和伺服激光经由共同的物镜被施加到体型记录介质1。此时，如果伺服激光到达了体层5，则它可能对体层5上的标记记录产生不利影响。由此，在有关技术的体记录方法中，伺服激光和记录与再现激光使用了具有不同波长范围的激光，并且设置了具有波长选择性的选择性反射膜3，其中该波长选择性使伺服激光生成反射并透过记录与再现激光。基于上述前提，参考图3来描述在体型记录介质1上记录标记的操作。首先，当对不具有导向槽或者反射膜的体层5执行多层记录时，其中在该反射膜上形成有导向槽，预先设定其中沿深度方向在体层5上记录标记的层位置。在本图中，作为在体层5中形成有标记的层位置(标记形成层位置也被称为信息记录层位置)，示出了第一信息记录层位置Ll至第五信息记录层位置L5 —共五个信息记录层位置L的示例。如图所示，第一信息记录层位置Ll被设定在沿聚焦方向(深度方向)与其上形成有导向槽的选择性反射膜3 (基准面Ref)分开第一偏移量of-Ll的位置处。另外，第二信息记录层位置 L2、第三信息记录层位置L3、第四信息记录层位置L4和第五信息记录层位置L5被分别设定在与基准面Ref分开第二偏移量of-L2、第三偏移量of-L3、第四偏移量of_L4和第五偏移量of-L5的位置处。层位置L的数目并不限于五个。这里，偏移量of-L信息被预先设定在控制器41 (这也可以是根据实施例的控制器54)中，其中该控制器41被包括在后述有关技术的光斑位置控制装置(记录与再现装置 10)中。在还没有形成标记的情况下进行记录的过程中，可以基于记录与再现激光的反射光不对体层5内部的各个层位置L执行跟踪伺服。因此，在记录过程中，执行物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制，使得伺服激光的光斑位置基于伺服激光的反射光来跟踪基准面 Ref上的导向槽(后述的凹坑串)。但是，为了执行标记记录，必须使记录与再现激光到达形成在基准面Ref的下层侧处的体层5。由此，此情况下的光系统设有与物镜的聚焦机构分离的聚焦机构(记录与再现光聚焦机构)，用以独立调节记录与再现激光的聚焦位置。具体而言，作为记录与再现激光聚焦机构，设有用以改变入射到物镜的记录与再现激光的准直状态(发散/平行/汇聚)的放大器。也就是说，通过以此方式改变入射到物镜的记录与再现激光的准直状态，可以独立地调节记录与再现激光和伺服激光的聚焦位置。如上所述，对记录与再现激光设置聚焦机构，并且因此基于来自基准面Ref的伺服激光的反射光来执行物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。由此，控制记录与再现激光的聚焦位置，以使其体层5中必必需的信息记录层位置L 一致，并且将其定位在与沿跟踪方向形成在基准面Ref中的指引沟槽相对应的位置。另外，当对其上已经形成了标记体型记录介质1执行再现时，没有必要在记录过
10程中基于伺服激光的反射光来控制物镜的位置。换言之，在再现过程中，优选以要被再现的形成在信息记录层位置L中的标记串为目标，基于记录与再现激光的反射光来执行物镜的聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。1-2.光系统的构造图4是主要解释包括在记录与再现装置10中的光系统的构造视图，其中该记录与再现装置10对根据有关示例的上述体型记录介质1执行记录与再现。具体而言，主要示出了包括在记录与再现装置10中的光学摄像管OP的内部构造。在图4中，被安装到记录与再现装置10上的体型记录介质1被设定为使得其中心孔被夹置在记录与再现装置10中的预定位置处，并且被保持为可通过这里所省略的主轴马达44 (图13)旋转驱动。光学摄像管OP被设置为利用记录与再现激光和伺服激光来照射可通过主轴马达 44旋转驱动的体型记录介质1。在光学摄像管OP中，设有记录与再现激光器11和伺服激光器对，其中记录与再现激光器11是通过使用标记来执行信息记录和通过使用标记来执行信息再现的记录与再现激光的光源，并且伺服激光器M是通过形成在基准面Ref中的位置导向器(后述的凹坑串)来执行位置控制的伺服激光的光源。这里，如上所述，记录与再现激光和伺服激光具有不同的波长范围。在本示例中， 记录与再现激光的波长约为405nm(所谓的蓝色激光)，并且伺服激光的波长约为650nm(所谓的红色激光)。另外，在光学摄像管OP中，设有物镜20，其中该物镜20位于对体型记录介质1的记录与再现激光和伺服激光对的输出端。此外，设有记录与再现光感应元件23和伺服光感应元件四，其中记录与再现光感应元件23用以感应来自体型记录介质1的记录与再现激光的反射光，并且伺服光感应元件四用以感应来自体型记录介质1的伺服激光的反射光。此外，在光学摄像管OP中，存在光系统，用以将从记录与再现激光器11中射出的记录与再现激光引向物镜20，并且将入射到物镜20的、来自体型记录介质1的记录与再现激光的反射光引向记录与再现光感应元件23。具体而言，在从记录与再现激光器11中射出的记录与再现激光经由准直透镜12 变为平行光之后，使其入射到偏振光束分离器13。偏振光束分离器13被构造为使来自记录与再现激光器11的记录与再现激光透过其中。使通过偏振光束分离器13的记录与再现激光照射到放大器，其中该放大器由固定透镜14、可移动透镜15和透镜驱动单元16形成。该放大器相当于上述的记录与再现光聚焦机构，其中固定透镜14被配置为靠近记录与再现激光器11 (即光源)的一侧上，并且可移动透镜15被配置为远离记录与再现激光器11的一侧上，并且可移动透镜15被透镜驱动单元16沿与记录与再现激光的光轴平行的方向驱动，从而对记录与再现激光执行独立的聚焦控制。如下所述，记录与再现光聚集机构中的透镜驱动单元16由如图13所示的驱动器 41根据基于目标信息记录层位置L的偏移量of-L的数值而驱动。在被如图所示的镜面17反射后，经过包括在记录与再现光聚焦机构中的固定透镜14和可移动透镜15的记录与再现激光经由1/4波长板18入射到二向色棱镜19。二向色棱镜19具有反射性表面，该反射性表面使与记录与再现激光具有相同波长的光生成反射并且使具有不同于该波长范围的光透过其中。因此，上述入射的记录与再现激光被二向色棱镜19所反射。被二向色棱镜19反射的记录与再现激光经由本图所示的物镜20施加到体型记录介质1。物镜20设有二轴执行器21，该二轴执行器21保持物镜20，以使其沿聚焦方向(接近和远离体型记录介质1的方向)和跟踪方向(与聚焦方向垂直的方向体型记录介质1 的半径方向)移动。二轴执行器21具有分别供应信号(后述的驱动信号FD和TD)并且使物镜20分别沿聚焦方向和跟踪方向移动的聚焦线圈和跟踪线圈。这里，在再现过程中，可以响应于被施加到上述体型记录介质1的记录与再现激光，获得来自体型记录介质ι的记录与再现激光的反射光(被记录在体层5内部的再现目标信息记录层位置L上的标记串)。以此方式所获得的记录与再现激光的反射光经由物镜 20被引向二向色棱镜19，并且被二向色棱镜19反射。在经过1/4波长板18、镜面17和记录与再现光聚焦机构(可移动透镜15和固定透镜14)之后，被二向色棱镜19反射的记录与再现激光的反射光入射到偏振光束分离器 13。这里，以此方式被入射到偏振光束分离器13的记录与再现激光的反射光(返路光)的偏振方向，因1/4波长板18的作用和体型记录介质1处进行反射时的作用，而与来自记录与再现激光器11侧的入射到偏振光束分离器13的记录与再现激光(往路光)方向相差90°。结果，以此方式所入射的记录与再现激光的反射光被偏振光束分离器13反射。如此，被偏振光束分离器13反射的记录与再现激光的反射光经由聚光透镜22汇聚在记录与再现光感应元件23的光感应表面上。此外，在光学摄像管OP中，除了用于上述记录与再现激光的光系统的构造以外， 还形成了用以将从伺服激光器M中射出的伺服激光引向物镜20以及用以将入射到物镜20 的来自体型记录介质1的伺服激光引向伺服光感应元件四的光系统。如本图所示，在从伺服激光器M中所射出的伺服激光经由准直透镜25变为平行光之后，使其照射到偏振光束分离器26上。偏振光束分离器沈被构造为使从伺服激光器 M侧入射的伺服激光(往路光)透过其中。经过偏振光束分离器沈的伺服激光经由1/4波长板27入射到二向色棱镜19。如上所述，二向色棱镜19被构造为使与记录与再现激光具有相同波长范围的光生成反射并且使具有不同该波长范围的光透过其中，并且因此伺服激光经过二向色棱镜 19，并且经由物镜20被施加到体型记录介质1。此外，响应于被施加到体型记录介质1的伺服激光而获得的伺服激光的反射光 (来自基准面Ref的反射光)经由物镜20穿过二向色棱镜19，并且经由1/4波长板27被入射到偏振光束分离器26。以与记录与再现激光的情况相同的方式，从体型记录介质1侧以此方式入射的伺服激光的反射光(返路光)的偏振方向，因1/4波长板27的作用和体型记录介质1处进行反射时的作用，而与往路光方向相差90°，并且因此，伺服激光的反射光作为返路光被偏振光束分离器26反射。被偏振光束分离器沈反射的伺服激光的反射光经由聚光透镜观汇聚在伺服光感应元件四的光感应表面上。在此，尽管忽略了图中的描述，但实际上，记录与再现装置10设有沿跟踪方向滑行地驱动上述整个光学摄像管OP的滑行驱动单元，并且激光的照射位置可通过该滑行驱动单元对光学摄像管OP的驱动，在较宽的范围内移动。1-3.基准面的构造将参考图5及图6来描述形成在本示例中的体型记录介质1的基准面Ref上的凹坑串的形成。图5是体型记录介质1中的基准面Ref (选择性反射膜幻的表面的部分放大平面图。在图5中，将本图的左侧到右侧的方向设定为凹坑串的成形方向，即轨道的成形方向(直线方向)。在此情况下，假设伺服激光的照射光斑随体型记录介质1的旋转运动从纸张的左侧移动到右侧。另外，与凹坑串的成形方向(本图的竖直方向)垂直的方向为体型记录介质1的半径方向。另外，在图5中，用本图中的白色圆圈所标识的A至F表示凹坑可成形位置。也就是说，在基准面Ref中，凹坑只形成在相对应的凹坑可成形位置中，并且凹坑不可形成在除了凹坑可成形位置以外的位置处。本图中的标号A至F之间的区别表示凹坑串之间的区别(沿半径方向配置的凹坑串之间的区别)，并且被添加到标号A至F的数字表示凹坑串上的凹坑可成形位置之间的区别。这里，用粗黑线标识的间隔表示在有关技术的体型记录介质1中能够实现的最小轨道间距(有关技术中的界限轨道间距)。由此可以看出，在根据本实施例的体型记录介质 1中，一共将六个凹坑串A至F形成在作为有关技术的界限的一个道宽度中，即被配置为具有大于半径方向光学界限的间距。但是，必须考虑当多个凹坑串简单地配置在作为有关技术的界限的一个道宽度中时，形成凹坑的位置沿凹坑串成形方向重合的问题，也就是说，必须考虑沿凹坑串成形方向的凹坑间隔超越光学界限的问题。因此，在本示例中，定义了以下条件，使得凹坑串方向上的凹坑间隔不超越配置在作为有关技术的界限的一个道宽度中的多个凹坑串A至F中的光学界限。也就是说，1)各个凹坑串A至F中的凹坑可成形位置之间的间隔被限定为预定的第一间隔。2)以此方式所限定的凹坑可成形位置之间的间隔的相应凹坑串A至F被配置为， 使得凹坑可成形位置沿凹坑串成形方向偏离预定的第二间隔(即，相应凹坑串的相位偏离了第二间隔)。这里，在沿半径方向配置的凹坑串A至F中，将凹坑串成形方向上的凹坑可成形位置之间的间隔(第二间隔)设定为η。此时，当相应的凹坑串A至F被配置为满足条件2时，如本图所示，凹坑串A-B、凹坑串B-C、凹坑串C-D、凹坑串D-E、凹坑串E-F和凹坑串F-A 的凹坑可成形位置之间的间隔均为η。另外，各个凹坑串A至F中的凹坑可成形位置之间的间隔(第一间隔)为6η，这是因为这种情况可以实现一共六个凹坑串相位A至F。在本示例中，以与DVD(数字通用化光盘)的情况类似的方式，在波长λ约为 650nm,并且数值孔径NA约为0. 65的情况下，在基准面Ref上通过使用伺服激光来执行信息再现和伺服控制。在本示例中，为了与此对应，将各个凹坑可成形位置的区间长度设定为 3T(其中T为信道比特(channel bit))，这与DVD中的最短标记相同，并且将凹坑串成形方向上的各个凹坑可成形位置A至F的边缘之间的间隔也设定为相等的3T。换言之，由此，η =6Τ。结果，满足了上述条件1)和2)。这里，为了理解其中在整个基准面Ref上形成有凹坑的构成，将参考图6来描述凹坑串的具体成形方法。在图6中，为了便于图例解释，示出了将凹坑串的类型(相位)仅为三种A至C的示例情况。另外，在本图中，黑色圆圈表示凹坑可成形位置。从图6中可看出，在体型记录介质1的基准面Ref中，具有不同相位(尽管图6中示出了三个凹坑串A至C，但是实际上有六个凹坑串A至F)的多个凹坑串为一个集合，并且将一个集合中的多个凹坑串形成为螺旋形。由此，当对多种凹坑串中的必要凹坑串执行跟踪伺服时，光斑位置被绘制成螺旋形轨迹。另外，凹坑通过CAV(constant angular velocity，恒角速度)法形成在基准面 Ref上。由此，如本图所示，对于多个凹坑串的每一者而言，其中形成有凹坑的位置(凹坑可成形位置)均沿半径方向配置在相同的角位置处。这里，如果通过CAV法在基准面Ref上记录凹坑，则相应凹坑串A至F之间的相位关系被维持在如图5所示的光盘上的任何区域中。1-4.地址信息接着，将参考图7A至图7C来描述被记录在基准面Ref上的地址信息的格式示例。下面，为了便于图10之前的描述，假设生成了基于推挽信号的信号，作为跟踪误差信息。从下面的描述中可以清楚，在有关示例和实施例的实际构造中，生成了基于和信号的信号，作为跟踪误差信号。在图7A至图7C中，首先，图7A概要地示出了具有不同凹坑串相位的相应凹坑串 A至F的凹坑可成形位置之间的关系。在图7A中，标记“*”表示凹坑可成形位置。这里，如下所述，记录与再现装置10从凹坑串A至F中选择一个凹坑串，并且对被选择的一个凹坑串执行跟踪伺服。但是，此时的问题在于凹坑串A至F被配置为具有超越半径方向上的光学界限的间距。也就是说，在此情况下，通过移动(扫描)伺服光在轨道上的照射光斑而获得跟踪误差伺服(推挽信号)反映了凹坑A至F的所有凹坑，并且即使当基于相对应的跟踪误差信号来执行跟踪伺服时，也不可以跟踪被选择的一个凹坑串。
由此，本示例采用了这样的基本概念，即在所选择的凹坑串上的凹坑可成形位置的定时处对跟踪误差信号进行采样，并且基于被采样的跟踪误差信号的(即，间断的)数值来施加跟踪伺服。以与上述类似的方式，同样地在读取地址信息的情况下，采用了其中在所选择的凹坑串上的凹坑可成形位置的定时处对跟踪误差信号进行采样，以有选择地只读取被记录在所选择的凹坑串上的信息，并且基于被采样的跟踪误差信号来检测地址信息的方法。为了与上述信息检测方法相对应，在本示例中，采用了其中信道比特(记录符号)“0”或“1”的表示取决于是否在凹坑可成形位置处形成凹坑的格式。换言之，一个凹坑可成形位置表示与一个信道比特的信息。此外，通过使用多个信道比特的数据图案“0”或“1”来实现一个比特的数据位 (data bit) 0具体而言，在本示例中，如图7B所示，数据位“0 ”或“ 1 ”通过信道比特来表示，并且例如，四个信道比特“1011”的图案表示数据位“0”，并且四个信道比特“1101”的图案表示数据位“1”。此时，重要的问题在于信道比特“0”不连续。也就是说，由于信道比特“0”的连续意为当通过使用上述跟踪误差信号来间断地执行伺服时，不能获得误差信号的周期是连续的，并且因此，很难确保跟踪伺服的准确度。因此，在本示例中，例如，根据数据位的上述定义，满足了信道比特“0”不连续的条件。也就是说，通过使用数据位的上述定义，可以抑制跟踪伺服准确度的降低，使其达到最小。图7C示出了同步图案的示例。例如，该同步图案通过如本图所示的十二信道比特来表示，其中前八位被设定为不符合数据位定义的“11111111”，并且后四位信道比特的图案表示同步图案种类之间的区另IJ。具体而言，如果紧随8位之后的四个信道比特的图案是“1011”，则它表示Snycl，或者如果是“1101”，则它表示Snyc2。在体型记录介质1中，通过上述同步图案来记录地址信息。如上所述，将绝对位置信息(半径位置信息和旋转角度信息)记录在光盘上，作为地址信息。为了清楚起见，在本示例中，尽管多个凹坑串A至F被配置在作为有关技术中的界限的一个轨道宽度中，但是可以通过向各个凹坑串分配个别信息来记录地址信息，以表示各个凹坑串的半径位置(以识别各个凹坑串)。换言之，不会将相同的地址信息记录在被配置在作为有关技术界限的一个轨道宽度中的各个凹坑串A至F上。在此，从参考图7A至图7C的描述中可以看出，凹坑是在体型记录介质1的基准面 Ref上进行记录的位置。位置记录表示其中将形成凹坑(或者标记)的部分设定为信道数据“ 1，，，并且将其它部分设定为信道数据“0”的记录方法。1-5.伺服目标凹坑串的选择方法基于下述方法来描述其中对被配置在上述有关技术中的一个道宽度中的凹坑串中的任意凹坑串执行跟踪伺服的方法。图8概要地示出了随着体型记录介质1的旋转驱动而在基准面上移动的伺服激光的光斑的构成，与此时所获得的和信号、和微分信号和推挽信号PP(也表示为PP信号)之间的关系的概要视图。和信号是来自多个光感应元件，如图4所示的伺服光感应元件四的光感应信号 DT-sv的和信号，并且和微分信号是通过对该和信号进行微分所获得的信号。这里，在本图中为了便于描述，假设凹坑均形成凹坑可成形位置处。如本图所示，当伺服激光的光斑随体型记录介质1的旋转而移动时，和信号在与各个凹坑串A至F沿凹坑串成形方向的配置间隔相对应的圆圈处到达峰值信号电平。换言之，和信号表示各个凹坑串A至F沿凹坑串成形方向的间隔(成形圆圈)。这里，由于在本图所示的示例中，伺服激光的光斑沿凹坑串A移动，所以和信号倾向于在经过沿凹坑串成形方向形成凹坑A的位置时达到最大(绝对值)，并且在形成凹坑B 至D的位置处逐渐减小。之后，峰值趋向发生变化，以形成凹坑E和F的次序逐渐上升，并且在形成凹坑A的位置处达到最大。换言之，和信号的峰值以形成凹坑E和F的位置次序增加，这是由于在沿凹坑串成形方向形成凹坑E和F的位置上，光斑受到了与外周侧邻接的凹坑串E和F上的凹坑的影响。另外，通过对和信号进行微分所产生的和微分信号以及作为跟踪误差信号的和PP 信号可以分别具有如本图所示的波形。和微分信号被用以生成时钟CLK，其中该CLK与其中沿凹坑串成形方向在各个凹坑串A至F上形成凹坑的位置(严格来讲，凹坑可成形位置)之间的间隔相对应。具体而言，作为时钟CLK，通过使用和微分信号来生成具有与各个凹坑的中心位置 (峰值位置)，如上升边缘位置(定时)相对应的位置的信号。作为时钟CLK的生成方法，如图9所示，首先，通过以预定的阈值Thl分割和信号来生成信号，并且以类似的方式，以预定的阈值Th2分割和微分信号来生成信号。另外，对上述两个信号进行逻辑运算(AND)，并且由此生成了具有与峰值位置相对应的上升边缘定时的定时信号。通过其中将以此方式所产生的定时信号用作为输入信号(基准信号)的 PLL(Phase Locked Loop，锁相环)处理来生成时钟CLK。图10概要地示出了通过使用上述步骤所产生的时钟CLK、基于该时钟CLK所产生的各个选择器信号的波形，以及形成在基准面Ref上的各个凹坑串(的一部分)之间的关系视图。从本图中可以清楚，时钟CLK是具有与凹坑A至F的成形间隔相对应的圆圈的信号。具体而言，时钟CLK是在凹坑A至F的峰值位置处具有上升边缘定时的信号。从时钟CLK中，生成六种选择器信号，这六种选择器信号分别表示可以形成凹坑A 至F的位置的定时。具体而言，通过将时钟CLK分为六份来分别生成选择器信号，并且其相位彼此偏离了 1/6圆圈。换言之，通过在各个定时处将时钟CLK分为六份来生成各个选择器信号，使得上升边缘定时偏离了 1/6圆圈。选择器信号是分别表示用于相对应的凹坑串A至F的凹坑可成形位置的定时的信号。因此，在生成选择器信号之后，选择任意的选择器信号，并且通过在所选择的选择器信号所表示的定时处对跟踪误差信号(推挽信号)进行采样与保持，可以获得用以跟踪凹坑串A至F中的一个凹坑串的跟踪误差信号。也就是说，伺服激光的光斑通过基于以此方式所生成的跟踪误差信号对物镜20执行跟踪伺服控制，可以跟踪凹坑串A至F中的任意凹坑
串ο1-6.对推挽信号进行采样的方法中的问题。这里，当选择任意的凹坑串作为伺服目标时，在上面的描述中使用了通过对推挽信号，如用于伺服的跟踪误差信号进行采样与保持所获得的信号；但是在使用上述推挽信号的情况下，必须考虑因所谓的倾斜(时滞)或物镜20的透镜移位而不可能获得准确的跟踪误差信息的问题。图IlA和图IlB是解释反射光感应光斑因倾斜或透镜移位而不重合的视图，其中图IlA示出了处于没有生成倾斜或透镜移位的理想状态下的、伺服光感应元件四上的反射光光斑(光感应光斑)，并且图IlB示出了处于生成倾斜或透镜移位情况下的、伺服光感应减员四上的反射光光斑(光感应光斑)。在图IlA及图IlB中，反射光光斑中所示出的斜线部分表示来自形成在光盘上的凹坑的首次衍射光成分的重合区域(推挽信号成分的重合部分)。首先，作为前提，如果本图中的光感应元件A和B的分组与光感应元件C和D的分组沿与光盘的半径方向相对应的方向彼此邻接，则推挽信号PP通过PP = (Ai+Bi)-(Ci+Di)......(等式 1)来计算。在等式1中，Ai、Bi、Ci和Di分别表示光感应元件A、B、C和D的光感应信号。这里，假设伺服激光的照射光斑准确地追踪了目标凹坑串。在此情况下，在如图 IlA所示的没有生成倾斜或透镜移位的理想状态下，通过上述等式1所计算的推挽信号PP 的数值为“0”。相反地，在如图IlB所示的反射光光斑位置因倾斜或透镜移位而不重合的情况下，通过等式1所计算的推挽信号PP的数值变为不同于原先所获得的“0”的数值，并且存
在误差。由此可看出，在推挽信号PP中，会因倾斜或透镜移位而产生偏移量。如果不能够忽略因倾斜或透镜偏移而产生的偏移量成分时，上述生成跟踪误差信号的方法是有效的；但是为了提高跟踪伺服控制的稳定性，优选上述偏移量成分不会使跟
踪误差信号重合。在有关技术中，使用了所谓的三光斑法，作为跟踪误差检测方法，以避免因倾斜或透镜移位而产生的偏移量的影响；但是有必要在该三光斑法中添加诸如光栅之类的光学部件，并且因此增加了部件成本和调节成本。另外，DPP (Differential Push Pull，微分推挽)方法也被用作跟踪误差检测方法，以避免偏移量的影响；但是即使在DPP方法中，也必须添加光栅，并且因此会增加部件成本和调节成本。为了解决有关技术的跟踪误差检测方法中的问题，并且为了避免因倾斜或透镜移位而产生的偏移量成分的影响，通过在有关示例中(同样地，在本实施例中)使用下述和信号的方法生成跟踪误差信号。图12是解释有关示例中的跟踪误差信号的生成方法的视图。图12示出了伺服激光的光斑位置在执行跟踪伺服以追踪形成在基准面Ref上的凹坑串A至F中的凹坑D的状态下的移动轨迹(阴影部分)，以及根据伺服激光的移动所获得的和信号的波形。例如，如图12所示，当伺服激光的光斑准确地追踪凹坑串D时，和信号的数值趋向在与凹坑串D上的凹坑成形位置一致的定时(图中的η)处具有最小值。另外，和信号的数值趋向在相对于凹坑串D的相位差增大的凹坑串的凹坑成形位置处逐渐变大。此时，和信号的数值在与凹坑串C和凹坑串E (分别与凹坑串D邻接)的凹坑成形位置一致的定时(图中的η-1和η+1)处具有相同的数值(即，具有相同的相位差)，并且另夕卜，和信号的数值在与凹坑串B和凹坑串F(分别与凹坑串D分开相同的距离(沿径向的距离))的凹坑成形位置一致的定时(图中的n-2和n+2)处具有相同的数值(即，具有相同的相位差)。这里，如果伺服激光的光斑位置沿半径方向偏离凹坑串D时，这与本图中所示的状态不同，可以看出，在相对于凹坑串D具有相同相位差的凹坑串的分组中的相应凹坑成形位置处的和信号的数值是不同的。也就是说，由此可以看出，在相对于跟踪伺服目标的凹坑串具有相同相位差的凹坑串的分组中的相应凹坑成形位置处的和信号的数值反映了跟踪伺服目标凹坑串在跟踪方向上的误差。具体而言，可以通过计算具有相同相位差的相应凹坑串的分组中的相应凹坑成形位置处的数值之差，来获得跟踪误差信号。就这光斑而论，在有关示例中，可以通过下述具体的方法基于和信号来生成跟踪
误差信号。换言之，首先，选择两个相对于跟踪伺服目标凹坑串具有相同相位差的凹坑串。具体而言，在本示例的情况下，选择与跟踪伺服目标凹坑串邻接的凹坑串。此外，在与各个被选择的凹坑串的凹坑成形位置相对应的定时(图12中的η-1和 η+1)处，对和信号的数值进行采样，并且计算被采样的和信号之间的数值差。该计算结果就是用于伺服目标凹坑串的跟踪误差信号。1-7.光斑位置控制装置的整体内部构造基于上面的描述，将参考图13来描述根据有关示例的光斑位置控制装置(记录与再现装置10)的整体构造。另外，图13通过抽取示出了光学摄像管OP的一部分内部构造，并且具体而言，仅仅从图4所示的构成元件中抽取并示出了记录与再现激光器11、透镜驱动单元16和二轴执行器21。在图13中，记录与再现装置10设有主轴马达44。主轴马达44包括TO (Frequency Generator，频率生成器)马达，并且以恒定的速度(恒定的旋转速度)可旋转地驱动体型记录介质1。主轴马达44响应于来自控制器41的指令来开始或停止旋转。另外，记录与再现装置10包括本图中的记录处理单元31、记录与再现光矩阵电路 32和再现处理单元33，作为当再现记录标记时，用以对体层5执行记录与再现，或者用于对物镜20执行聚焦伺服控制或跟踪伺服控制(即，基于记录与再现激光的反射光的位置控制)的信号处理系统。记录处理单元31接收被记录在体型记录介质1的数据(记录数据)。记录处理
18单元31将误差校正码添加到所输入的记录数据，或者对该记录数据执行预定的记录调制编码，由此获得实际上被记录在体型记录介质1上的记录调制数据流，例如二进制数据流 “0”和“1”。记录处理单元31基于以此方式所产生的记录调制数据流，响应于记录脉冲信号RCP，来控制光学摄像管OP中的记录与再现激光器11的发光驱动。记录与再现光矩阵电路32包括电流-电压转换电路和矩阵运算与放大电路等， 并且响应于来自多个光感应元件如图4所示的记录与再现光感应元件23的光感应信号 DT-rp (输出电流)，生成了矩阵运算处理所必必需的信号。具体而言，记录与再现光矩阵电路32生成了与用于上述记录调制数据流的再现信号相对应的射频信号(以下被称为再现信号RF)、用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号 FE-rp和用于跟踪伺服控制的跟踪误差信号TE-rp。将由记录与再现光矩阵电路32所生成的再现信号RF供应到再现处理单元33。将聚焦误差信号FE-rp和跟踪误差信号TE_rp供应到记录与再现光伺服电路34。再现处理单元33通过执行用于恢复上述记录数据的再现处理如对再现信号RF的二值化处理和记录调制编码的解码以及误差校正处理，来获得恢复记录数据的再现数据。记录与再现光伺服电路34基于记录与再现光矩阵电路32所供应的聚焦误差信号 FE-rp和跟踪误差信号TE-rp，生成了聚焦伺服信号FS_rp和跟踪伺服信号TS_rp，并且基于聚焦伺服信号FS-rp和跟踪伺服信号TS-rp，通过响应于聚焦驱动信号FD_rp和跟踪驱动信号TD-rp来驱动二轴执行器21的聚焦线圈和跟踪线圈，对记录与再现激光执行聚焦伺服控制和跟踪伺服控制。为了清楚起见，在再现过程中，基于记录与再现激光的反射光来执行二轴执行器 21 (和物镜20)的伺服控制。另外，为了响应于来自控制器41的指令以与再现过程相对应，记录与再现光伺服电路34关闭了跟踪伺服环路，并且向跟踪线圈进给跳变脉冲，由此实现了轨道跳变操作和跟踪伺服的引入控制等。另外，也执行了聚焦伺服的引入控制等。另外，记录与再现装置10包括伺服光矩阵电路35、地址检测电路36、采样与保持电路SH1、采样与保持电路SH2、减法器37、伺服光伺服电路38、时钟生成电路39、选择器信号生成与选择单元40、偏移量生成单元42和加法器43，作为用于伺服激光的反射光的信号处理系统。在构成元件中，下面将再次描述偏移量生成单元42和加法器43。另外，在用于伺服激光的反射光的信号处理系统中，伺服光矩阵电路35基于来自图4所示的伺服光感应元件四的多个光感应元件的光感应信号DT-sv，生成了必要的信号。具体而言，伺服光矩阵电路35生成了表示来自多个光感应元件的光感应信号之和的和信号，以及用于聚焦伺服控制的聚焦误差信号FE-sv。如本图所示，将和信号施加到采样与保持电路SH1、采样与保持电路SH2、时钟生成电路39和地址检测电路36。将聚焦误差信号FE-sv供应到伺服光伺服电路38。地址检测电路36接收由后述选择器信号生成与选择单元40所产生并选择的选择器信号S_Ad，并且在选择器信号S_Ad所表示的凹坑可成形位置的定时处(在此情况下，选择器信号S_Ad处于高电平的部分)，基于对来自伺服光矩阵电路35的和信号的采样结果，检测被记录到基准面Ref上的地址信息(至少包括半径位置信息和旋转角度信息的绝对地址信息)。这里，如参考图7A至图7C的描述，在本示例的情况下，用于各个凹坑串的地址信息记录了在凹坑串中的凹坑可成形位置处是否形成了凹坑，作为一个信道比特信息。为了与此对应，地址检测电路36识别选择器信号S_Ad的上升边缘定时处的和信号的数值以识别一个信道比特中的数据“0”和“1”，并且基于该结果，根据参考图7A至图7C所示的数据格式来执行地址解码处理，由此检测(再现)了被记录的地址信息。将由地址检测电路36所检测的地址信息供应给控制器41。时钟生成电路39根据上述步骤生成了时钟CLK。图14示出了时钟生成电路39的内部构造。在图14中，时钟生成电路39包括分割电路39A、和微分电路39B、分割电路39C、 AND门电路39D和PLL电路39E。如本图所示，将和信号输入到分割电路39A和和微分电路39B。分割电路39A基于被设定的阈值Thl来分割和信号，并且将该结果输入到AND门电路39D。和微分电路39B对该和信号进行微分，并且产生上述和微分信号。分割电路39C基于被设定的阈值Th2分割由和微分电路39B所生成的和信号，并且将该结果输入到AND门电路39D。AND门电路39D对来自分割电路39A的输出和来自分割电路39C的输出进行AND 逻辑运算，由此生成了上述定时信号。PLL电路39E将由AND门电路39D获得的定时信号作为输入信号，执行PLL流程， 由此生成了时钟CLK。再次参考图13，将由时钟生成电路39所生成的时钟CLK供应到选择器信号生成与选择单元40。选择器信号生成与选择单元40基于时钟CLK生成了相应的选择器信号，并且从所选择的选择器信号中选择并输出被指示的选择器信号(选择器信号s_l、S_2和S_Ad的选择器信号)。图15示出了选择器信号生成与选择单元40的内部构造。如本图所示，选择器信号生成与选择单元40包括选择器信号生成电路45和选择器信号选择电路46。选择器信号生成电路45基于时钟CLK生成了表示用于相应的凹坑串A至F的凹坑可成形位置的定时的六种选择器信号。具体而言，选择器信号生成电路45生成了其中通过将时钟CLK分为六份而获得的并且其相位差分别偏离1/6圆圈的信号将这六种选择器信号供应给选择器信号选择电路46。选择器信号选择电路46从由选择器信号生成电路45所供应的选择器信号中，选择并输出具有由控制器41的选择信号SLCT指示并供给地址检测电路36的相位的选择器信号，作为选择器信号S_Ad。另外，选择器信号选择电路46选择并输出由选择信号SLCT指示的、上述跟踪误差信号的生成方法中所必需的、并且具有与相对于伺服目标凹坑串具有相同相位差的凹坑串相对应的相位的选择器信号，作为选择器信号S_1和选择器信号S_2。另外，从上面描述可以看出，在本示例中，对于选择器信号S_1和选择器信号S_2,控制器41指示并输出了与伺服目标凹坑串邻接的凹坑串相对应的选择器信号。将选择器信号选择电路46所输出的选择器信号S_1供应到采样与保持电路SHl， 并且将选择器信号S_2供应到采样与保持电路SH2。采样与保持电路SHl在选择器信号S_1所表示的定时处对矩阵电路35所供应的和信号的数值进行采样与保持，并且将结果输出到减法器37。采样与保持电路SH2在选择器信号S_2所表示的定时处对矩阵电路35所供应的和信号的数值进行采样与保持，并且将结果输出到减法器37。减去器37通过从采样与保持电路SHl所进行采样与保持的输出数值中减去采样与保持电路SH2所进行采样与保持的输出数值，来获得跟踪误差信号TE-sv。从上面的描述中可以看出，跟踪误差信号TE-sv是表示被选择作为伺服目标的凹坑串中的跟踪误差。如本图所示，跟踪误差信号TE-sv经由后述的加法器43供应到伺服光伺服电路 38。伺服光伺服电路38基于(经由加法器43之后的)聚焦误差信号FE_sv和跟踪误差信号TE-sv生成聚焦伺服信号FS-sv和跟踪伺服信号TS-sv。在记录过程中，响应于来自控制器41的指令，伺服光伺服电路38基于聚焦伺服信号FS-sv和跟踪伺服信号TS-sv，通过使用聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD_sv来驱动二轴执行器21的聚焦线圈和跟踪线圈，由此实现了用于伺服激光的聚焦伺服控制，和以需要的凹坑串为目标的跟踪伺服控制。此外，为了响应于来自控制器41的指令以与记录过程相对应，伺服光伺服电路38 打开跟踪伺服系统和聚焦伺服系统，从而对各个跟踪和聚焦执行伺服引入。控制器41由例如微计算机构成，其中该微计算机具有CPU(中央处理单元)和存储器(存储装置)如ROM和RAM等，并且通过根据ROM等中所存储的程序执行控制和处理， 来控制整个记录与再现装置10。例如，控制器41基于被预先设定为与上述各个层位置L相对应的偏移量of-L，控制(设定)记录与再现激光的聚焦位置。具体而言，控制器41基于被预先设定为与被记录的信息记录层位置L相对应的偏移量of-L，驱动光学摄像管OP中的透镜驱动单元16，来选择体层5中深度方向上的记录位置。另外，控制器41也执行用以实现物镜20在记录与再现之间的伺服控制切换的控制。具体而言，在进行记录时，控制器41指示伺服光伺服电路38输出聚焦驱动信号FD-sv 和跟踪驱动信号TD-sv，并且指示记录与再现光伺服电路34停止聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv的输出。另一方面，在进行再现时，控制器41指示记录与再现光伺服电路34输出聚焦驱动信号FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv，并且指示伺服光伺服电路38停止输出聚焦驱动信号 FD-sv和跟踪驱动信号TD-sv。另外，控制器41也执行对伺服激光的光斑位置的搜索操作控制。换言之，控制器 41指示伺服光伺服电路38以将伺服激光的光斑位置移动到基准面Ref上的预定目标地址， 并且通过使用选择信号SLCT来指示选择器信号生成与选择单元40 (选择器信号选择电路 46)选择选择器信号。这里，在此情况下，控制器41例如按照下面的次序来执行搜索操作控制。
控制器41指示1)通过使用上述滑动驱动单元来移动整个光学摄像管0P，将光学摄像光OP移动到目标地址附近，2)打开用于伺服激光的聚焦伺服系统，3)基于和信号生成时钟CLK和各个选择器信号，4)基于被任意选择的选择器信号，执行用于任意凹坑串的跟踪伺服控制，5)由于可以通在上述4)中执行跟踪伺服读取地址信息(用于识别凹坑串的信息)，执行从地址到目标地址的跳变。控制器41指示伺服光伺服电路38执行上述1)和2) 的操作。另外，为了在上述4)中选择任意的选择器信号，控制器41通过选择信号信号SLCT 指示选择器信号生成与选择单元40选择与具有预定相位的凹坑串邻接的凹坑串的相位相对应的选择器信号S_1和选择器信号S_2。另外，为了实现上述5)中的操作，控制器41指示选择器信号生成与选择单元40 选择与“具有预定相位的凹坑串”(即，被选作为伺服目标的凹坑串)相对应的、与选择器信号5_々(1相关的选择器信号。此外，控制器41执行控制，使得响应于被指示的选择器信号S_Ad，输入由地址检测电路36所检测的地址信息，基于相对应的地址信息计算到达目标地址所需要的移动量， 并且通过该移动量执行跳变操作。下面将描述有关技术中用以移动光斑位置的具体位置控制方法，诸如在搜索操作过程中在基准面Ref所实施的轨道跳变操作。1-8.通过闭环控制实现光斑移动的具体方法对于记录与再现装置10的上述构造，可以对形成在基准面Ref上的具有相应相位的凹坑串中的任意凹坑串执行跟踪伺服。在有关示例中，以能够对基准面Ref上一个凹坑串执行跟踪伺服的构造为前提， 通过下述方法通过闭环控制来实现一个或者多个轨道的光斑移动如轨道跳变操作。图16是解释用以通过闭环控制来实现光斑移动的有关示例中的具体位置控制方法的视图。图16示出了为了实现光斑的移动对跟踪伺服环路所进给的偏移量的波形，通过进给偏移量而被依次输出的选择器信号s_l和S_2的转变，伺服目标凹坑串随选择器信号 S_1和S_2的转变而进行的依次切换，以及通过进给偏移量所生成的光斑位置的移动轨迹之间的关系。图16也示出了选择器信号S_Ad随光斑位置的移动而被依次切换的转变。这里，为了使伺服激光的光斑位置沿圆盘半径方向移动一个或多个轨道(有关技术中的轨道宽度)，移动光斑位置，以使其逐一跨过(横跨)半径方向上的凹坑串。另外，通过向跟踪伺服环路进给其数值随时间的流逝而增加的偏移量来移动光斑位置。此时，通过进给偏移量，光斑位置逐渐与伺服目标凹坑串分开，并且如果光斑位置逐渐与伺服目标凹坑串分来的状态继续时，在跟踪误差信号TE-sv中就会出现参考图^B 所述的混淆现象，或者设置在生成混淆现象之前，直线度就会明显恶化。因此，在有关示例中，当光斑位置与伺服目标凹坑串分离时，在一定程度上，使要成为伺服目标的凹坑串依次转向相邻的凹坑串。也就是说，通过向伺服目标环路进给偏移量，来依次移动光斑位置，并且将要成为伺服目标的凹坑串依次转向相邻的凹坑串。这里，在光斑位置控制方法的情况下，必须预先定义将伺服目标凹坑串切换到相邻凹坑串的定时(位置)的位置。在本示例中，将上述伺服目标凹坑串的转换定时准确地设定为与相邻凹坑串的中点的位置。此时，偏移量的斜率被固定为被预先设定的预定值，并且因此，从某一凹坑串到圆光斑位置到达相邻凹坑串的时间长度为现有值。也就是说，直至圆光斑位置到达相邻凹坑串的中点的时间长度是基于偏移量的斜率的现有值。在有关技术中，通过用于到达中点的现有时间长度的信息，将伺服目标凹坑串更换到与已经成为伺服目标凹坑串相邻的凹坑串。另外，为了与在到达相邻凹坑串之间的中点的定时处更换伺服目标凹坑串相对应，用于沿半径方向平移光斑位置的偏移量使用了具有在如图16所示的中点处更换极性的波形的偏移量。这里，在以凹坑串A为目标进行伺服的过程中，当光斑位置位于中点位置时的偏移量数值例如变为“+of_s”，并且在以凹坑串B为目标进行伺服的过程中，其偏移量数值例如变为“_of_s”。因此，必须在伺服目标凹坑串的更换定时，即到达中点的定时处，颠倒偏移量的极性。由此，在此情况下所进给的偏移量的波形成了如本图所示的锯齿形。为了清楚起见，也可以基于用于上述现有时间长度的信息来设定偏移量的波形。在有关示例的位置控制方法中，尽管向跟踪伺服环路进给了具有预定锯齿波的偏移量，但是对于光斑位置到达被预先设定在相邻凹坑串之间的预定位置(中点)的各个定时，重复将伺服目标凹坑串更换到与该定时之前已经成为伺服目标凹坑串的外周侧(或者内周侧)相邻的凹坑串。此时，相对于伺服目标，切换目标凹坑串；但是，维持伺服状态，并且因此通过闭环控制来移动了光斑位置。另外，为了清楚起见，通过基准面Ref的结构如参考图5所述的结构，其中凹坑串被配置为具有沿半径方向超越光学界限的节距，可以通过偏移量的进给来实现伺服目标凹坑之间的依次切换和光斑位置的平移。也就是说，这是因为如果凹坑串不能被配置为具有超越光学界限的节距，则跟踪伺服会因偏移量的进给而生成偏离。图16示出了被执行为用以实现上述有关示例中的光斑位置控制的相应选择器信号的具体选择方法。另外，图16示出了光斑位置经过凹坑串A、凹坑串F、凹坑串E、凹坑串D、凹坑串C 和凹坑串B的构成，并且也示出了此时被依次选择的选择器信号S_l、选择器信号S_2和选择器信号S_Ad。如本图所示，这里，将与凹坑串A-F的中点相对应的定时设定为时间点tl。之后， 将与凹坑串F-E、凹坑串E-D、凹坑串D-C、凹坑串C-B和凹坑串B-A的相应中点相对应的定时分别设定为t2、t3、t4、t5和t6。在时间点tl之前的时段中，凹坑串A为伺服目标，并且因此如本图所示，将具有与凹坑串F相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_l，并且将具有与凹坑串B相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_2。也就是说，分别选择了用于与伺服目标凹坑串 A邻接(具有相同相位差)的凹坑串F和凹坑串B的选择器信号。另外，将具有与伺服目标凹坑串A相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号 S_Ad。另外，从参考图13或图15的描述中可以看出，控制器41通过使用选择信号SLCT指示选择器信号生成与选择单元40 (选择器信号生成电路4 选择选择器信号S_1、S_2和 S_Ad。当到达时间点tl时，将具有与凹坑串E相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_l，并且将具有与凹坑串A相对应的相位的选择器信号选作为选择器信号S_2,使得伺服目标凹坑串被切换到凹坑串F。另外，将具有与凹坑串F相对应的相位差的选择器信号选作为选择器信号S_Ad。下面，以相同的方式，对于切换定时的各个定时tn处，将用于与伺服目标凹坑串邻接的各个凹坑串的选择器信号选作选择器信号S_1和S_2，并且将用于伺服目标凹坑串的选择器信号选作为选择器信号S_Ad。具体而言，在本图中，在时间点t2处选择了 “S_l D、S_2 :F、S_Ad :E”，在时间点 t3 处选择了 "S_l :C、S_2 :E、S_Ad :D”，在时间点 t4 处选择了 "S_l :B、S_2 :D、S_Ad :C，，，并且在时间点 t5 处选择了 "S_l :A、S_2 :C、S_Ad :B，，。这里，基于来自如图13所示的记录与再现装置10中控制器41的指令，通过偏移量生成单元42和加法器43来执行具有如图16所示的锯齿波形的偏移量的进给。偏移量生成单元42基于来自控制器41的指令，生成并输出了具有被预先设定的斜率的锯齿波信号。加法器43将由偏移量生成单元42以此方式所生成并输出的锯齿波信号添加到从减法器37中所输入的跟踪误差信号TE-sv。对于上述构造，控制器41指示偏移量生成单元42输出并停止输出锯齿波信号， 并且指示选择器信号生成与选择单元40选择用于上述中点的各个预定定时的选择器信号 S_1和S_2，从而执行任意移动量的轨道跳变操作。这里，为了清楚起见，图17示出了有关示例的与各个凹坑串的跟踪误差信号 TE-sv相对应的位置控制方法。在图17中，跟踪误差信号TE_A至TE_F用于相应凹坑串A至F的跟踪误差信号 TE-Sv0另外，跟踪误差信号TE_A至TE_F的波形表示沿半径方向逐渐移动光斑位置时的波形。在此情况下，存在六种相位A至F如凹坑串的相位，并且因此各个跟踪误差信号 (TE)TE-sv的相位具有如本图所示的偏离60°的关系。有关示例中的上述位置控制方法可以表示为以跟踪误差信号TE_A、TE_F、TE_E、 TE_D、TE_B、TE_C和TE_A的次序依次跟踪0光斑附近的部分。2.实施例2-1.有关示例的问题根据上述有关示例，可以通过闭环控制来实现将光斑位置移动一定移动量的位置控制，其中移动量会使跟踪误差信号中出现混淆现象，如轨道跳变操作。但是，在有关示例的上述方法中，通过偏移量的斜率来估计到达凹坑串之间的中点的定时，基于该定时切换伺服目标凹坑串，并且因此必须考虑切换定时与实际光斑不一致的情况。如此，在实际中点与伺服目标凹坑串之间的切换定时不一致的情况下，必须考虑到其中在切换定时处颠倒了极性的偏移量数值不会成为与新伺服目标凹坑串的实际光斑位置的跟踪误差量相对应的数值，并且伺服控制由此可能会不稳定。
另外，首先，由于当跟踪误差量大于等于某值时，有关示例的方法使用了其中出现了混淆现象的跟踪误差信号TE-sv本身，所以以类似于有关技术的光盘系统中的方式，当移动光斑位置时，向跟踪伺服环路进给具有如图16所示的锯齿波的偏移量。由此，有关示例的方式不可能只通过进给与光斑移动量的目标数值相对应的偏移量，来实现将光斑位置移动到目标位置的控制。2-2.根据实施例的位置控制方法因此，在本实施例中，如图18所示，当沿半径方向移动光斑位置时，通过连接用于具有相位A至F的跟踪误差信号TE(TE_A至TE_F)的零交叉点周围的波形，生成了能够线性地表达出距伺服目标凹坑串的跟踪误差量的线性跟踪误差信号，并且基于该线性跟踪误差信号执行跟踪伺服。也就是说，通过基于线性跟踪误差信号来构造跟踪地府控制系统，为了将光斑位置移动到目标位置，可以只进给与距离伺服目标凹坑串的目标移动量相对应的数值，作为向伺服环路进给的偏移量的数值。图19是解释如图18所示的线性跟踪误差信号(以下，也被称作线性误差信号) 的具体生成方法的视图。另外，图19示出了当沿半径方向移动伺服激光的光斑位置时所获得的跟踪误差信号TE_A至TE_F的波形。首先，通过参考图19可以看出，根据光斑位置沿半径方向的移动，跟踪误差信号 TE_A至TE_F的振幅的幅值修正随时间的流逝而变化。 在本示例中，执行了实例划分，用以划分跟踪误差信号TE_A至TE_F的振幅关于线性误差信号的大小关系。具体而言，在本示例中，为了与六个凹坑串相位相对应，将实例划分为实例1至实例12。如果跟踪误差信号TE_A至TE_F的振幅用A至F表示，则实例1至实例12的定义如下。实例1:E <F<D<A<C<B实例2 :E <D<F<C<A<B实例3 :D <E<C<F<B<A实例4 :D <C<E<B<F<A实例5 :C <D<B<E<A<F实例6 :C <B<D<A<E<F实例7 :B <C<A<D<F<E实例8 :B <A<C<F<D<E实例9 :A < B < F < C < E < D实例10 :A <F<B<E<C<D实例11 :F <A<E<B<D<C实例12 :F <E<A<D<B<C在本示例中，依次监控相应跟踪误差信号TE_A至TE_F的振幅，并且判定如上所定义的相应实例的区别。另外，如下所述，计算以此方式所判定的各个实例，由此生成了线性
误差信号。
另外，下面所示出的计算示例是以其中首次开始伺服的凹坑串为如图19所示的凹坑串D的情况为前提。也就是说，前提是位于凹坑串D上的光斑为线性误差信号的0点的状态。这里，在下面的计算示例中，P(n)表示线性误差信号在各个时间点处的输出值，并且A至F分别表示跟踪误差信号TE_A至TE_F的幅值。另外，Pprev表示在先前实例的切换定时处，先前实例中所选择的跟踪误差信号 TE (TE_A至TE_F之一)的幅值。此外，HH(表示在上一实例的切换定时处，根据实例的切换所新选择的跟踪误差信号TE (TE_A至TE_F之一)的幅值。实例1…p(n) = Pprev+D
实例 2…P (n) = Pprev_HPK+C实例3…P(n) = Pprev+C实例4... P (η) = Pprev_HPK+B实例5…P(n) = Pprev+B实例6 …P (η) = Pprev-HPK+A实列7…P(n) = Pprev+A实例8 …P (η) = Pprev-HPK+F实例9…P(n) = Pprev+F实例10 …P(n) = Pprev_HPK+E实例11…p(n) = Pprev+E实例12…P(n) = Pprev_HPK+D通过参考计算示例可以看出，在本实施例中，当光斑位置沿半径方向移动时，通过依次连接用于具有相应相位的跟踪误差信号TE_A至TE_F的振幅大小关系发生变化的各个预定定时、用于沿光斑位置的移动方向邻接的凹坑串的跟踪误差信号TE，来生成线性误差信号。具体而言，在本示例中，将预定的定时放在实例1与实例2之间的切换定时、实例 3与实例4之间的切换定时、实例5与实例6之间的切换定时、实例7与实例8之间的切换定时、实例9与实例10之间的切换定时和实例11与实例12之间的切换定时中，并且在预定的定时处，依次选择用于在光斑位置的移动方向上邻接的凹坑串的跟踪误差信号TE。由此，通过将从在用于各个预定定时的时间点处被输出作为线性误差信号的数值Pprev中减去在预定定时处新选择的跟踪误差信号TE的数值HPK所获得的数值用作参考值(Ppmv-HPK)， 依次输出通过将新选择的跟踪误差信号添加到参考值所获得的数值，作为线性误差信号的数值。根据上述方法，在光斑位置沿半径方向(外周方向和内周方向)移动的状态下，可以通过连接具有如图18所示的相应相位的跟踪误差信号TE的交叉点周围的波形，来生成线性误差信号。换言之，即使距开始伺服的凹坑串的跟踪误差量是使跟踪误差信号TE出现混淆现象的误差量，也可以生成依次线性地表达跟踪误差量的跟踪误差信号。通过生成上述线性误差信号，针对通过将使跟踪误差信号TE中出现混淆现象的移动量或者更大的移动量作为目标移动量，执行例如轨道跳变操作等的光斑移动控制，为了实现它，可以只进给与目标移动量相对应的数值，作为向跟踪伺服环路进给的偏移量数值，以将光斑位置移动到目标位置。另外，从上述的计算示例可以看出，尽管在本示例中，也可以根据光斑位置的移动，将跟踪误差信号TE依次切换到用于要被选择的相邻凹坑串的跟踪误差信号TE，但是可以基于相应跟踪误差信号TE的振幅幅值校正的变化点的检测结果来执行跟踪误差信号TE 的选择和切换，作为对实例的判定。换言之，实际上，可以基于跟踪误差信号TE的振幅的检测结果来检测凹坑串之间的中点定时。如此，与基于通过偏移量的斜率所估计的时间长度来执行跟踪误差信号TE的选择和切换的有关示例相比，通过基于实际跟踪误差信号TE的振幅，检测凹坑串之间的中点定时如切换跟踪误差信号TE的定时，可以减小切换定时处跟踪误差信号TE的数值与实际跟踪误差值之间的差值，并且可以因此提高跟踪伺服控制的稳定性。另外，如上所述，从本示例的位置控制方法为其中以与有关示例类似的方式根据光斑位置的移动将跟踪误差信号TE依次切换到用于要被选择的相邻凹坑串的跟踪误差信号TE的方法的事实可以看出，通过本示例的位置控制方法，也可以在圆顶的移动过程中， 连续执行跟踪伺服控制。也就是说，由此可以看出，可以通过本示例的位置控制方法，通过闭环控制来实现在有关技术中使误差信号出现混淆现象的光斑位置的移动。2-3.实施例的光斑位置控制装置的构造图20是解释根据本实施例的光斑位置控制装置的内部构造的视图。根据本实施例的光斑位置控制装置是在有关示例的记录与再现装置10中改变了用于伺服激光的跟踪伺服控制系统的构造。由此，在图20中，抽取并示出了包括在根据本实施例的光斑位置控制装置中的用于伺服激光的跟踪伺服控制系统的构造，并且光学摄像管OP或者记录与再现激光侧中的记录与再现系统或伺服系统的构造与记录与再现装置10 的构造相同，在此并未示出。另外，在图20中，对已经在有关示例中被描述的部件施加相同的标号并且忽略了其描述。通过比较图20与图13 (及图15)，可以看出，在根据本实施例的光斑位置控制装置中，忽略了对和信号进行采样与保持的采样与保持电路SHl和SH2以及减法器37，并且设置了误差信号生成电路50。另外，新设置了实例判定电路51和线性信号生成电路52。此外，在此情况下的光斑位置控制装置包括选择器信号选择电路53和控制器M， 代替了有关示例中的记录与再现装置10中的选择器信号选择电路46和控制器41。如本图所示，将用于相应凹坑串A至F的、从选择器信号生成电路45中输出的选择器信号(以下，被称作选择器信号S_A至S_F)供应到误差信号生成电路50和选择器信号选择电路53。误差信号生成电路50基于选择器信号S_A至S_F及和信号，生成了用于相应凹坑串A至F的跟踪误差信号TE (TE_A至TE_F)。图21示出了误差信号生成电路50的内部构造。参考图21可以看出，在误差信号生成电路50中，由两个采样与保持电流所形成的六个误差信号生成单元的每一者被设置为与和信号并联，以生成六个误差信号TE，作为跟踪误差信号TE_A至TE_F。
具体而言，设置了通过采样与保持电路SH-Al和采样与保持电路SH-A2以及减法器50A生成跟踪误差信号TE_A的误差信号生成单元、通过采样与保持电路SH-Bl和采样与保持电路SH-B2以及减法器50B生成跟踪误差信号TE_B的误差信号生成单元、通过采样与保持电路SH-Cl和采样与保持电路SH-C2以及减法器50C生成跟踪误差信号TE_C的误差信号生成单元、通过采样与保持电路SH-Dl和采样与保持电路SH-D2以及减法器50D生成跟踪误差信号TE_D的误差信号生成单元、通过采样与保持电路SH-El和采样与保持电路 SH-E2以及减法器50E生成跟踪误差信号TE_E的误差信号生成单元以及通过采样与保持电路SH-Fl和采样与保持电路SH-F2以及减法器50F生成跟踪误差信号TE_F的误差信号生成单元。采样与保持电路SH-Al在选择器信号S_F所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-A2在选择器信号S_B所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50A从来自采样与保持电路SH-Al的输出中减去来自采样与保持电路SH-A2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_A。采样与保持电路SH-Bl在选择器信号S_A所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-B2在选择器信号S_C所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50B从来自采样与保持电路SH-Bl的输出中减去来自采样与保持电路SH-B2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_B。采样与保持电路SH-Cl在选择器信号S_B所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-C2在选择器信号S_D所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50C从来自采样与保持电路SH-Cl的输出中减去来自采样与保持电路SH-C2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_C。采样与保持电路SH-Dl在选择器信号S_C所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-C2在选择器信号S_E所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50D从来自采样与保持电路SH-Dl的输出中减去来自采样与保持电路SH-D2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_D。采样与保持电路SH-El在选择器信号S_D所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-E2在选择器信号S_F所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50E从来自采样与保持电路SH-El的输出中减去来自采样与保持电路SH-E2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_E。另外，采样与保持电路SH-Fl在选择器信号S_E所表示的定时处对和信号进行采样与保持，采样与保持电路SH-F2在选择器信号S_A所表示的定时处对和信号进行采样与保持，并且减法器50F从来自采样与保持电路SH-Fl的输出中减去来自采样与保持电路 SH-F2的输出，由此生成了跟踪误差信号TE_F。再次参考图20进行描述。将由误差信号生成电路50生成的跟踪误差信号TE_A至TE_F供给实例判定电路 51和线性误差信号生成电路52。实例判定电路51基于跟踪误差信号TE_A至TE_F判定上述实例1至实例12的区另IJ，并且将表示该判定结果的判定信号Dcs供给线性误差信号生成电路52和选择器信号选择电路53。
具体而言，在此情况下，检测各个实例的切换定时，并且生成并输出表示实例切换定时和实例区别的信号，作为判定信号Dcs。线性误差信号生成电路52基于跟踪误差信号TE_A至TE_F和判定信号Dcs生成了上述线性误差信号。具体而言，在用于通过上述计算示例所表示的相应实例的计算等式中，根据与实例相对应的、通过判定信号Dcs所表示的计算等式来执行计算，并且由此生成跟踪误差信号TE-sv，作为线性误差信号。另外，控制器53在伺服光伺服电路38开始跟踪伺服的定时处，将重置信号发送到线性误差信号生成电路52，并且线性误差信号生成电路52响应于该重置信号，将作为线性误差信号的跟踪误差信号TE-sv重新设置为0。如本图所示，将由线性误差信号生成电路52所生成的跟踪误差信号TE-sv供给加法器43。选择器信号选择电路53基于判定信号Dcs从选择器信号生成单元45所供给的选择器信号S_A至S_F中选择一个选择器信号，作为选择器信号S_Ad，并且将该选择器信号 S_Ad输出到地址检测电路36。具体而言，在用于判定信号Dcs所表示的实例1至实例12的相应切换定时中的预定定时处，选择器信号选择电路53将被输出作为选择器信号S_Ad的选择器信号S切换到与该定时之前已经被输出的选择器信号S相邻接的选择器信号S (即在光斑的移动方向上， 与凹坑串邻接的凹坑串相对应的选择器信号S，其中该选择器信号S在表示用于凹坑可成形位置的定时之前就已经被输出)。也就是说，在本示例的情况下，在实例1与实例2之间的切换定时、实例3与实例4之间的切换定时、实例5与实例6之间的切换定时、实例7与实例8之间的切换定时、实例9与实例10之间的切换定时以及实例11与实例12之间的切换定时处，将被输出作为选择器信号S_Ad的选择器信号S切换到与该定时之前已经被输出的选择器信号S相邻接的选择器信号S。将由选择器信号选择电路53选择的选择器信号S_Ad供给地址检测电路36，由此地址检测电路36可以适当地检测被记录在光斑位置周围的凹坑串上的地址信息。控制器M以与控制器41相同的同时，由微计算机构成，并且控制整个装置。控制器M与控制器41的不同之处在于没有通过选择信号SLCT执行用于选择器信号的指令，而是执行了下列处理。具体而言，在此情况下的控制器M执行了不同于有关示例的情况的控制，如基准面Ref上的搜索操作控制。首先，控制器M指示“通过上述滑行驱动单元移动整个光学摄像费OP来将光学摄像管OP移到目标地址附近”，和以与有关示例的情况相同的方式“开始用于伺服激光的聚焦伺服”，但是在本示例中，之后，控制器M指示线性误差信号生成电路52从跟踪误差信号 TE_A至TE_F中选择预定的任意跟踪误差信号TE。也就是说，对凹坑串A至F中的任意凹坑串执行跟踪伺服控制。当以此方式对任意的凹坑串执行跟踪伺服时，尽管控制器M指示伺服光伺服电路38开始伺服，但是控制器M执行开始伺服的指令，并且将上述重置信号发送到线性误差信号生成电路52，以将误差信号TE-sv的数值重新设置为0。如上所述，通过对任意的凹坑串执行跟踪伺服控制，选择器信号选择电路53基于
29来自实例判定电路51的判定信号Dcs，选择用于伺服目标凹坑串的选择器信号S (S_Ad)，并且地址检测电路36响应于此，检测被记录在伺服目标凹坑串上的地址信息。控制器M基于地址检测电路36以此方式所检测到的地址信息，计算到达目标地址所需要的光斑移动量(目标移动量)，并且执行用以实现跳变操作(将光斑位置移动该目标移动量)的控制。具体而言，控制器M在光斑位置从对某一凹坑串执行跟踪伺服的状态进入沿半径方向移动目标移动量的状态，诸如搜索操作等过程中所执行的轨道跳变操作的定时处， 向加法器43进给偏移量。也就是说，控制器M将其值随时间的流逝逐渐增加到与目标移动量相对应的数值的偏移量信号输出到加法器43。在此情况下的偏移量信号不再是有关示例的锯齿波信号，而是线性偏移量信号。根据线性偏移量信号的进给，光斑位置移到目标位置。此时，如上所示，实例判定电路51生成并计算判定信号Dcs，并且线性误差信号生成电路52响应于该判定信号Dcs， 计算误差信号(致使依次选择并切换跟踪误差信号TE_A至TE_F的计算)，由此依次线性地生成了表示跟踪误差量或者更大(导致跟踪误差信号TE出现混淆现象)的线性误差信号。 另外，基于该线性误差信号执行跟踪伺服控制，由此通过闭环控制来实现位置控制，用以将光斑移动足以因此误差信号TE出现混淆现象的移动量或者更多。3.修改例上面，尽管已经描述了本发明的实施例，但是本发明并不限于上述具体示例。例如，尽管在上面的描述中已经描述了通过使用和信号的采样与保持数值之间的差值来生成跟踪误差信号TE，作为物镜20的时滞或透镜平移的对策的情况，但是在可以忽略时滞或透镜移动所产生的影响，诸如设置因时滞或透镜平移而使光斑不重合的校正单元的情况下，可以将通过对推挽信号进行采样与保持所获得的信号作为跟踪误差信号TE。另外，尽管在上面的描述中，如图18所示，已经描述了在线性误差信号的生成过程中使用跟踪误差信号TE_A至TE_F的情况，但是生成线性误差信号的方法可以使用根据下列修改例的方法。图22至图25是解释根据修改例的线性误差信号的生成方法的视图。首先，图22示出了当沿半径方向移动光斑位置时所获得的跟踪误差信号TE_A至 TE_F的波形，作为光斑在波形视图中直接位于凹坑串A上的定时的时间点tA，以及作为光斑直接位于凹坑串D上的定时的时间点tD。另外，图23A及图2 示出了光斑在基准面Ref上追踪凹坑串A的形式(图23A) 和光斑在基准面Ref上追踪凹坑串D的形式(图23B)。这里，如图23A及图2 所示，将光斑在直线方向(凹坑串成形方向)上与凹坑串 A上的凹坑可成形位置一致的定时设定为tsl。以类似的方式，将光斑在直线方向上与凹坑串B、凹坑串C、凹坑串D、凹坑串E和凹坑串F上的凹坑可成形位置一致的定时分别设定为 ts2、ts3、ts4、ts5 禾口 ts60首先，参考图22，可以看出，用于凹坑串A的跟踪误差信号TE_A和用于凹坑串D的跟踪误差信号TE_D具有相位彼此颠倒的关系，即极性互相颠倒的关系。也就是说，随时都可以获得A =-D的关系。修改例是使用了跟踪误差信号TE_A至TE_F中极性彼此颠倒的跟踪误差信号TE的设置的方法。这里，如图23A所示的光斑追踪凹坑串A的状态与图22中的时间点tA处的光斑位置相对应。以类似的方式，如图2 所示的光斑追踪凹坑串D的状态与图22中的时间点 tD处的光斑位置相对应。也就是说，由此可以看出，根据光斑位置沿半径方向的移动，将如图23A所示的光斑位置状态转换到如图2 所示的光斑位置状态(或者逆转)。鉴于此，在图22所示的时间点tA处，在与图23A所示的状态相对应的状态下，基于直接经过目标凹坑A上的光斑的反射光，来跟踪误差信号TE_A。但是，当光斑位置沿半径方向移动并且到达时间点tD时，即在与图2 所示的状态相对应的状态下，在光斑位于距目标凹坑A最远的位置处的状态下，生成了跟踪误差信号TE_A。以类似的方式，在图22所示的时间点tD(与图2 所示的状态相对应的状态)处， 基于直接经过目标凹坑D上的光斑的反射光，来跟踪误差信号TE_D ；但是，在时间点tA(与图23A所示的状态相对应的状态)处，在光斑位于距目标凹坑D最远的位置处的状态下，生成了跟踪误差信号TE_D。如此，在光斑沿半径方向平移的情形下，如果光斑位置开始远离目标凹坑串，则基于开始远离目标凹坑串的光斑的反射生成跟踪误差信号TE。此外，此时需要考虑在远离目标凹坑串的部分中，其数值可能具有较低的可靠性。这里，在跟踪误差信号TE_A至TE_D之间的关系中，在光斑位置距离目标凹坑串最远的时间点tD处，跟踪误差信号TE_A将光斑位置直接放置在跟踪误差信号TE_D的目标凹坑串D上。鉴于上述事实和跟踪误差信号TE_A至TE_D彼此颠倒的相位关系(A = _D)，针对跟踪误差信号TE_A，如果在光斑位于目标凹坑串A周围的状态下使用了跟踪误差信号TE_ A，并且在光斑开始远离凹坑串A的状态下使用了跟踪误差信号TE_D，则结果，可以通过在光斑位于目标凹坑串周围的状态下所生成的信号，随时获得具有与跟踪误差信号TE_A相对应的波形的信号。同样适用于跟踪误差信号TE_C及TE_E。也就是说，针对和跟踪误差信号TE_F形成一对的跟踪误差信号TE_C (两者具有彼此颠倒的相位关系)，在光斑位于目标凹坑串C周围的状态下输出跟踪误差信号TE_C，并且在光斑位置一定程度上开始远离凹坑串C的状态下输出跟踪误差信号TE_C的相反值。另外，针对和跟踪误差信号TE_B形成一对的跟踪误差信号TE_E (两者具有彼此颠倒的相位关系)，在光斑位于目标凹坑串E周围的状态下输出跟踪误差信号TE_E，并且在光斑位置一定程度上开始远离凹坑串E的状态下输出跟踪误差信号TE_B的相反值。这里，将通过使用跟踪误差信号TE_A与TE_D的设置、跟踪误差信号TE_E与TE_B 的设置和跟踪误差信号TE_C与TE_F的设置所生成的跟踪误差信号TE分别设定为跟踪误差信号TE_p、TE_q和TE_r。图M示出了它们的波形。下面将描述跟踪误差信号TE_p、TE_q和TE_r的具体生成方法。在下面的计算等式中，si至s6表示和信号在如23A及图2 所示的定时tsl至 ts6处的幅值。另外，A表示跟踪误差信号TE_A的幅值，并且D表示跟踪误差信号TE_D的幅值。以类似的方式，E、B、C和F分别表示跟踪误差信号TE_E、TE_B、TE_C和TE_F的幅值。sl<s4 —TE_p = Asi ≥ s4 — TE_p =-Ds5 < s2 — TE_q = Es5≥ s2 — TE_q = -Bs3 < s6 — TE_r = Cs3 ≥ s6 — TE_r = -F另外，跟踪误差信号TE_p、TE_q和TE_r的生成方法并不限于上述方法，但是，也可以执行如下。s6+s2 < s3+s5 — TE_p = As6+s2 ≥ s3+s5 — TE_p = -D图25是解释通过使用根据修改例的跟踪误差信号TE_p、TE_q和TE_r来生成线性误差信号的具体方法的视图。首先，在此情况下，对各个误差信号TE的振幅幅值校正执行实例划分。具体而言， 所使用的误差信号TE的相位为三个，所以可以将实例划分为实例21至实例沈这六种实例。如果将跟踪误差信号TE_p、TE_q和TE_r的振幅分别设定为P、q和r，则实例21 至实例26的定义如下。实例 21 :p < q < r实例22:q<p<r实例23 :q < r < ρ实例 24 :r < q < ρ实例 25 :r < ρ < q实例 26 :p < r < q在修改例中，依次监控相应跟踪误差信号TE_p、TE_r的振幅，并且判定如上所定义的相应实例。另外，如下所述来计算以此方式所判定的各个实例，由此生成了线性
误差信号。另外，下面的计算示例以初次开始伺服的凹坑串为凹坑串E的情况和光斑位于凹坑串E上的状态被设定为线性误差信号的0点的状态为前提。在下面的计算示例中，P (n)、Ppra和HPK的定义与实施例中的相同。实例21 …P(n) = Pprev+q实例22... P (η) = Pprev-HPK_p
实例 23... P (η) = Pprev-HPK+r实例24…P (η) = Pprev-HPK_q实例25... P (η) = Pprev_HPK+p实例26... P (η) = Pprev-HPK_r以此方式，在根据修改例的直线误差信号生成方法中，当光斑位置沿半径方向移动时，通过依次连接用于具有相应相位的跟踪误差信号TE的振幅大小关系发生变化的各个预定定时的、用于沿光斑位置的移动方向邻接的凹坑串的跟踪误差信号TE，来生成线性误差信号。具体而言，在修改例中，当光斑位置沿半径方向移动时，依次选择用于具有相应相位的跟踪误差信号TE的振幅大小关系发生变化的各个定时的、用于沿光斑位置的移动方向邻接的凹坑串的跟踪误差信号TE (以凹坑串E为目标的TE_p、以凹坑串C为目标的TE_q 和以凹坑串A为目标的TE_r)。由此，通过将从在用于振幅的幅值生成变换的各个定时(预定定时)的时间点处被输出作为线性误差信号的数值Ppra中减去在预定定时处新选择的跟踪误差信号TE的数值HPK所获得的数值用作参考值(Ppmv-HPK)，依次输出新选择的跟踪误差信号TE被添加到参考值所获得的数值(P (n))，作为线性误差信号的数值。另外，针对根据修改例的线性误差信号的生成方法，通过比较图25与图18，可以看出，被选作为实例21的跟踪误差信号TE_q与跟踪误差信号TE_E相对应，并且被选作为实例M的跟踪误差信号TE_q与跟踪误差信号TE_B相对应。另外，可以看出，被选作为实例22的跟踪误差信号TE_p与跟踪误差信号TE_D相对应，并且被选作为实例25的跟踪误差信号TE_p与跟踪误差信号TE_A相对应，被选作为实例23的跟踪误差信号TE_r与跟踪误差信号TE_C相对应，并且被选作为实例沈的跟踪误差信号TE_r与跟踪误差信号TE_F 相对应。由此可以看出，根据修改例的线性误差信号生成方法也是连接分别与形成在基准面Ref上的、具有相应相位的凹坑串A至F相对应的跟踪误差信号TE_A至TE_F的零交叉点周围的波形的方法。根据上述修改例的线性误差信号生成方法，在将通过对推挽信号进行采样与保持所获得的信号作为跟踪误差信号TE的情况下，可以在光斑位于比较靠近目标凹坑串的位置处的状态下，将被采样与被保持的信号作为跟踪误差信号TE，并且即使在因地址调制而产生了没有凹坑的区间的情况下，也可以获得具有较高可靠性的跟踪误差信号TE。尽管，在上面的描述中，已经描述了轨道跳变操作，作为光斑位置沿半径方向移动的示例，但是本发明也适合于通过进给偏移量，使伺服激光的光斑位置以具有任意节距的螺旋形移动的位置控制。在执行上述螺旋控制的情况下，优选进给具有与所期望实现的节距相对应的斜率的偏移量，作为向伺服环路进给的偏移量。另外，尽管在上面的描述中，已经描述了作为记录目标的光记录介质是本发明的体型光记录介质的情况，但是本发明也适合用于，例如，如图沈所示，其中设有记录层代替体层5的光记录介质(多层记录介质60)，该记录层具有其中形成有多个记录膜的多层结构。在图沈中，多层记录介质60与图2所示的体型记录介质1的相同之处在于，从上层侧开始依次形成有覆盖层2、选择性反射膜3和中间层4 ；但是在此情况下，如本图所示， 具有其中重复层压了预定数目的半透过性记录薄膜61和中间层4的层结构的记录层，代替了体层5。如本图所示，形成在下层上的半透过性记录薄膜61层压在衬底62上。另外，可以将使用全反射记录薄膜，作为形成在最下层上的记录薄膜。这里，应该注意，在半透过性记录薄膜61中并未形成由凹坑串的成形支配的位置导向器。也就是说，即使在多层记录介质60中，也可以只将呈螺旋形或同心形的位置导向器形成在一个层位置上，作为基准面Ref。
充当反射膜的半透过性记录薄膜61被形成在多层记录介质60的记录层中，并且因此也可以在记录过程中，利用记录与再现激光的反射光来执行聚焦控制。也就是说，在此情况下进行记录时，对记录与再现激光执行聚焦伺服控制，使得基于记录与再现激光的反射光，通过可移动透镜15 (透镜驱动单元16)来使作为记录目标的半透过性记录薄膜61聚焦。另外，再现过程中的聚焦伺服与跟踪伺服的具体方法可以与以体型记录介质1为目标的情况类似。此外，尽管在上面的描述中，其上形成有凹坑串的基准面被设置在记录层的上层侧上，但是也可以将基准面设置在记录层的下层侧上。另外，尽管在上面的描述中，已经描述了同时使用了用于在记录层上进行记录的激光光源和用于执行信息再现的激光光源，或者使用了从被记录在记录层上的标记串反射的光的跟踪和聚焦伺服系统的构造，但是可以彼此独立地设置用于记录的光源和用于信息再现与伺服控制的光源。尽管到目前为止未示出，但是在本示例中，凹坑串是通过CAV法被记录在基准面 Ref上的，并且为了与此对应，以恒定的旋转速度可旋转地驱动体型记录介质1，并且因此记录层的外周侧上的记录密度较疏。作为其对策，可以添加使记录密度恒定，例如使记录时钟频率随半径位置连续变化(或者恒定记录的状态)的构造。此外，尽管在上面的描述中，已经描述了其中凹坑串在基准面Ref上形成为螺旋形的情况，但是凹坑串也可以形成为同心形。在凹坑串形成为同心形的情况下，其线性误差信号的生成方法或位置控制方法与上述相同。尽管在上面的描述中，已经描述了彼此独立地、成螺旋状地形成具有相应相位的凹坑串A至F的情况，但是如图6所示，作为其中凹坑串形成为螺旋形的情况，凹坑串可以形成为如图27所示的一个螺旋(单螺旋结构)。另外，为了便于解释图27，凹坑串的相位仅示出了三个A至C。如本图所示，将光盘上的特定旋转角位置设定为参考位置，并且以该参考位置所定义的一周为基准，依次改变凹坑串的相位。例如，如图5所示，在从外周侧向内周侧配置凹坑串A、B、C、...(即，凹坑串的相位朝向外周侧逐渐增大)的形式下，将凹坑串形成为使得，如本图所示，在第η周为凹坑串A的相位、第(η+1)周为凹坑串C的相位、第(η+2)周为凹坑串B的相位、...的状态下，凹坑串的相位逐渐领先一周。通过比较图6可以看出，以上述单螺旋结构沿半径方向配置的相应凹坑串之间的相位关系可以与图6所示情况相同。这里，当产生具有如图6所示的多螺旋结构的光盘时，可以使用在相同压膜上独立切割相应凹坑串A至F的方法；但是在此情况下，可以在沿半径方向稍微移动开始位置的同时，依次切割相应的凹坑串，并且因此必须考虑难以达到数据精度的问题。相反地，在如图27所示的单螺旋结构中，切割的数量仅为一个，并且如果精确地控制凹坑的成形定时，则可以显著减少术语精度的技术难度。另外，在如图27所示的单螺旋结构中，在一周或者多周的过程中，可以不连续地执行以某一凹坑串为目标的跟踪伺服。因此，在此情况下，通过向跟踪伺服环路进给具有预定斜率的偏移信号，可以具有预定节距的螺旋形而在记录层上执行记录。
此外，尽管在上面的描述中，将一共六个凹坑串A至F设定为具有不同凹坑串相位的多个凹坑串，并且沿半径方向通过这六个图案(凹坑串相位)来重复形成凹坑串，但是多个凹坑串的相位并不限于六个，而是多于六个或者少于六个。另外，尽管已经描述了其中凹坑串上各个凹坑串可成形位置的区间长度为3T，并且凹坑串可成形位置沿凹坑串成形方向的边缘之间的间隔被设定为相同的长度3T( BP, η 被设定至6Τ)的情况，但是这仅为一个示例。可以将各个凹坑可成形位置的区间长度和凹坑可成形位置沿凹坑串成形方向的边缘之间的间隔设定为满足上述条件1)和2)。尽管在上面的描述中，针对具有不同凹坑串相位的多个凹坑串，将凹坑串配置为使得凹坑串相位朝外周侧领先并且朝内周侧滞后，例如相反地，将凹坑串配置为使得凹坑相位朝内周侧领先并且朝外周侧滞后。如此，可以在不超越凹坑串成形方向上的光学界限的情况下，将多个凹坑串的配置图案设定为多种图案。此外，尽管在上面的描述中，已经描述了本发明适用于对光记录介质(记录层) 执行记录与再现的记录与再现装置的情况，但是本发明也适合用于只对光记录介质(记录层)执行记录的记录装置。本申请包含于2010年11月10日向日本特许厅递交的日本在先专利申请 JP2010-251574涉及的主题，在此通过引用将其全部内容包含在本说明书中。本领域的技术人员可以理解，在不脱离所附权利要求的范围及其等同范围的前提下，取决于设计要求及其他因素，可以进行各种改变、组合、子组合以及替换。
3权利要求
1.一种光斑位置控制装置，其包括光照射与光感应单元，所述光照射与光感应单元经由物镜向光记录介质照射第一光， 并且感应来自所述光记录介质的所述第一光的反射光，所述光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔且被形成为螺旋形或同心圆形并且沿半径方向配置的凹坑串，其中所述凹坑可成形位置在凹坑串成形方向上的间隔被设定为偏移预定的第二间隔，使得所述光记录介质具有多个凹坑串相位；跟踪机构单元，所述跟踪机构单元使所述物镜沿上述半径方向位移；时钟生成单元，所述时钟生成单元基于由所述光照射与光感应单元对所述第一光的反射光进行感应所获得的光感应器信号，生成与所述凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟；定时选择器信号生成单元，所述定时选择器信号生成单元基于由所述时钟生成单元生成的时钟，生成多个定时选择器信号，其中所述多个定时选择器信号分别表示针对形成在所述光记录介质上的各相位的凹坑串的、所述凹坑可成形位置的定时；跟踪误差信号生成单元，所述跟踪误差信号生成单元基于针对所述第一光的反射光的所述光感应信号和所述定时选择器信号生成单元生成的所述定时选择器信号，生成多个跟踪误差信号，其中所述多个跟踪误差信号分别表示形成在所述光记录介质上的、具有相应相位的凹坑串中的跟踪误差；线性跟踪误差信号生成单元，所述线性跟踪误差信号生成单元通过依次连接所述第一光的照射光斑沿半径方向移动时所获得的所述多个跟踪误差信号的零交叉点附近区间中的信号，生成线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号；跟踪伺服控制单元，所述跟踪伺服控制单元基于所述线性跟踪误差信号，通过驱动所述跟踪机构单元对所述物镜执行跟踪伺服控制；以及偏移量进给单元，所述偏移量进给单元向跟踪伺服环路进给使所述照射光斑沿半径方向移动的偏移量，其中所述跟踪伺服环路是所述跟踪伺服控制单元通过所述跟踪伺服控制而形成的。
2.根据权利要求1所述的光斑位置控制装置，其中所述线性跟踪误差信号生成单元通过按照所述多个跟踪误差信号的振幅大小关系发生变化的预定定时的每一个依次连接关于与所述照射光斑的移动方向侧邻接的凹坑串的跟踪误差信号，生成所述线性跟踪误差信号。
3.根据权利要求2所述的光斑位置控制装置，其中所述线性跟踪误差信号生成单元按照各个预定定时的每一个依次选择关于与所述照射光斑的移动方向侧邻接的凹坑串的跟踪误差信号，并且在所述预定定时处，通过将从在该时间点处被输出作为所述线性跟踪误差信号的数值中减去新选择的跟踪误差信号在所述预定定时处的数值所获得的数值作为参考值，依次输出将所述新选择的跟踪误差信号添加到所述参考值所获得的数值，作为所述线性跟踪误差信号的数值。
4.根据权利要求2所述的光斑位置控制装置，其中，依据是否在各凹坑串上的所述凹坑可成形位置处形成凹坑，而针对各凹坑串的每一串来记录所述光记录介质上的位置信息，并且其中所述光斑位置控制装置还包括定时选择器信号选择单元，所述定时选择器信号选择单元按照所述多个跟踪误差信号的振幅大小关系发生变化的预定定时的每一个，从所述多个定时选择器信号中选择与所述照射光斑的移动方向侧邻接的凹坑串所对应的定时选择器信号；以及位置信息检测单元，所述位置信息检测单元基于在由所述定时选择器信号选择单元选择的定时选择器信号所表示的定时处对所述光感应信号的数值进行采样并对表示是否在所述凹坑可成形位置处形成有凹坑的信道比特数值进行判定的结果，来检测所述位置信肩、ο
5.根据权利要求1所述的光斑位置控制装置，其中所述跟踪误差信号生成单元按照各相位的凹坑串的每一串，通过在与具有相等相位差关系的各个凹坑串相对应的定时选择器信号所表示的定时处，对所述光感应信号进行采样与保持，并且计算所述数值之差，由此生成针对上述各相位的凹坑串的每一串的跟踪误差信息。
6.根据权利要求1所述的光斑位置控制装置，其中所述光记录介质包括其上形成有所述凹坑串的基准面，和形成在不同于所述基准面的深度位置处的记录层，以及其中所述光照射与光感应单元利用被用以在所述记录层上执行记录的第二光和经由所述物镜的所述第一光来照射所述光记录介质。
7.根据权利要求6所述的光斑位置控制装置，其中所述光照射与光感应元件利用所述第一光和所述第二光来照射所述光记录介质，其中所述光记录介质具有以体状态存在的记录层，作为所述记录层。
8.根据权利要求6所述的光斑位置控制装置，其中所述光照射与光感应元件利用所述第一光和所述第二光来照射所述光记录介质，其中所述光记录介质具有其中在沿深度方向的多个位置处形成了记录膜的多层结构的记录层，作为所述记录层。
9.一种光斑位置控制装置中的光斑位置控制方法，所述光斑位置装置装置包括光照射与光感应单元和跟踪机构单元，所述光照射与光感应单元经由物镜向光记录介质照射第一光，并且感应来自所述光记录介质的所述第一光的反射光，所述光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔且被形成为螺旋形或同心圆形并且沿半径方向配置的凹坑串，其中所述凹坑可成形位置在凹坑串成形方向上的间隔被设定为偏移预定的第二间隔，使得所述光记录介质具有多个凹坑串相位，所述跟踪机构单元使所述物镜沿上述半径方向位移，所述光斑位置控制方法包括基于所述光照射与光感应单元对所述第一光的反射光进行感应所获得的光感应器信号，生成与所述凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟；基于所述时钟生成过程中所生成的所述时钟，生成多个定时选择器信号，其中所述多个定时选择器信号分别表示针对形成在所述光记录介质上的各相位的凹坑串的、所述凹坑可成形位置的定时；基于针对所述第一光的反射光的所述光感应信号和所述定时选择器信号生成过程中所生成的所述定时选择器信号，生成多个跟踪误差信号，其中所述多个跟踪误差信号分别表示形成在所述光记录介质上的各相位的凹坑串中的每一串的跟踪误差；通过依次连接所述第一光的照射光斑沿半径方向移动时所获得的所述多个跟踪误差信号的零交叉点附近区间中的信号，生成线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号；以及基于所述线性跟踪误差信号，通过驱动所述跟踪机构单元对所述物镜执行跟踪伺服控制，并且向通过执行伺服控制而形成的跟踪伺服环路进给使所述照射光斑沿半径方向移动的偏移量。
全文摘要
本发明涉及光斑位置控制装置和光斑位置控制方法，该光斑位置控制装置包括光照射与光感应单元，其利用经由物镜的第一光照射光记录介质，并且感应来自该光记录介质的第一光的反射光，该光记录介质具有将一个圆周上的凹坑可成形位置之间的间隔限定为第一间隔的凹坑串；跟踪机构单元，用以使该物镜平移；时钟生成单元，用以生成与该凹坑可成形位置之间的间隔相对应的时钟；定时选择器信号生成单元，用以生成多个定时选择器信号；跟踪误差信号生成单元，用以生成多个跟踪误差信号；线性跟踪误差信号生成单元，用以生成线性地表示跟踪误差量的线性跟踪误差信号；跟踪伺服控制单元，用以执行跟踪伺服控制；以及偏移量进给单元，用以向跟踪伺服环路进给偏移量。
文档编号G11B7/09GK102467925SQ201110348428
公开日2012年5月23日 申请日期2011年11月3日 优先权日2010年11月10日
发明者出冈良彦, 堀米顺一 申请人:索尼公司