专利名称：晶片下片排片机的制作方法
技术领域：
本发明为ー种工具机，尤指ー种整合有取下晶片功能、筛选排列晶片功能、洗净晶片及研磨盘功能的晶片下片排片机。
背景技术：
现有技术的LED晶片制程中，其中有一道手续为研磨晶片，其为将复数晶片上蜡并黏置于ー陶瓷或铁制的研磨盘上，再以该研磨盘设置于相对应的研磨机中进行晶片研磨的减薄作业，各晶片于研磨完毕后即可将研磨盘由机器中取出，标准的制程为以有机溶剂将蜡溶解再将晶片由研磨盘上取下，此道手续须以人工运用晶片镊子或安全刮刀将晶片由研磨盘上取下，再以人工筛选破损的晶片以及使用溶剂清洗晶片，然而现有技术的下晶片手续具有下述的缺点；首先，在制程中使用的溶剂通常具有致癌成分，明显对操作人员的健康有害，再者，以人工方式将晶片取下，不但生产速度慢，而且常因为人员操作的疏失造成晶片破损， 提升了生产的不良率，故现有技术的晶片制程实有待进ー步改良。
发明内容
有鉴于现有技术晶片的减薄制程具有人工操作使得产生破片的机率増加并且会因接触溶剂有影响身体健康的风险，因此本发明的发明目的在于提供ー种工具机，其可整合制程并提高生产良率。本发明为一种晶片下片排片机，其包括有ー下片机、一排片筛片机与一洗净机；该下片机的机架上设有ー进料输送装置、复数个溶剂槽、至少ー纯水槽、一升降装置、一横移装置以及ー出料输送装置；该进料输送装置设置于机架的一端处；该溶剂槽内设有溶剤，各溶剂槽依序设置于机架上并以其一端相邻于该进料输送
装置；该纯水槽内设有纯水，该纯水槽设置于溶剂槽的另一端的机架上；该升降装置包括有复数升降臂，各升降臂分别设置于各槽体的上方处，该升降臂可降下位于槽体内或升起位于槽体上方；该横移装置设置于各槽体的一侧，该横移装置具有复数个推杆，在各槽体的ー侧分别设有一推杆，该推杆可朝向于机架的一端推动或收回；该出料输送装置设置于机体的另一端处；该排片筛片机包括有一机械手臂与ー视觉检测装置；该机械手臂相邻于该下片机的出料输送装置；该视觉检测装置的位置相对于该机械手臂；该洗净机的机架上设有ー进料输送装置、至少ー溶剂槽、复数个纯水槽、至少ー氮气烘干装置、一升降装置、一横移装置以及ー出料输送装置；该进料输送装置设置于机架的一端并相邻于该机械手臂；
该溶剂槽内设有溶剤，该溶剂槽设置在机架上并相邻于进料输送装置处；该纯水槽内设有纯水，各纯水槽依序设置于机架上并以一端相邻于该溶剂槽；该氮气烘干装置设置于机架上并相邻于该纯水槽的另一端；该升降装置包括有复数升降臂，各升降臂分别设置于各槽体的上方处，该升降臂可降下位于槽体内或升起位于槽体上方；该横移装置设置于各槽体的一侧，该横移装置具有复数个推杆，在各槽体的ー侧分别设有一推杆，该推杆可朝向于机架的一端推动或收回；该出料输送装置设置于机架的另一端，并相邻于该氮气烘干装置。所述的晶片下片排片机，其中该下片机的各溶剂槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对溶剂进行加热；该下片机的纯水槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对纯水进行加热。所述的晶片下片排片机，其中该洗净机的各溶剂槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对溶剂进行加热；该洗净机的纯水槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对纯水进行加热。所述的晶片下片排片机，其进ー步在下片机的机架上设置ー吸取装置，该吸取装置包括有一升降机构、一横移机构与ー吸盘部，该吸盘部位于该下片机的出料输送装置的上方，该吸盘部可受升降机构与横移机构带动进行升降与横移。所述的晶片下片排片机，其进ー步在下片机的机架上设置ー盘体输送装置，其具有ー滑轨、一升降台与一输送带；该输送带设置于机架上并突伸于机架的进料输送装置下方，该滑轨连接设置于该出料输送装置的下方处与该输送带，该升降台与该滑轨为可滑动的结合，该升降台可沿该滑轨升起位于出料输送装置的表面，也可沿该升降滑轨下降位于该输送带表面。所述的晶片下片排片机，其中该下片机的横移装置包括有一横移推臂，该横移推臂位于各液体槽的ー侧面，各推杆与该横移推臂垂直连接并位于液体槽的ー侧。所述的晶片下片排片机，其中该洗净机的横移装置包括有一横移推臂，该横移推臂位于各液体槽的ー侧面，各推杆与该横移推臂垂直连接并位于液体槽的ー侧。所述的晶片下片排片机，其中该机械手臂是ー种六轴式的机械手臂。藉上述的技术手段，以下片机对研磨盘进行取下晶片的作业，并可将研磨盘清洗并回收，以排片筛片机排除破损的晶片，并将良好的晶片置入一晶片载座中，该洗净机可对晶片载座内的晶片进行清洗，再将清洗完的晶片以氮气烘干，本发明将取下晶片、清洗研磨盘、筛选破片、排列晶片以及清洗晶片五项生产制程整合，并可藉由连接控制系统达到标准化、自动化的生产，可有效增加产能，并排除因人为疏失造成晶片破损的不良率，有效降低人事成本，也可进ー步避免操作人员接触溶剂产生影响身体健康的风险，以符合各国的设厂规范。
图1为本发明的上视图。图2为本发明的下片机的上视图。图3为本发明的下片机的侧视图。
图4为本发明的排片筛片机的上视图。
图5为本发明的排片筛片机的侧视图。
图6为本发明的洗浄机的上视图。
图7为本发明的洗浄机的侧视图。
图8为本发明的研磨盘与承载台的立体外观图
图9为本发明的研磨盘与承载台的剖面示意图
附图标记说明
10下片机
111外端
113轨道
12进料输送装置
122升降气缸
13液体槽
131、132、133、134、135 溶剂槽 136、137纯水槽
139超音波设备 14升降装置 142升降滑轨 144升降臂 15横移装置 151横移推臂 16出料输送装置 1611入料端 162吸取装置 1622横移机构 17盘体输送装置 171滑轨 173输送带 20排片筛片机 22机械手臂 30洗净机 311内端 313轨道 32进料输送装置 322升降气缸 33液体槽
332、333、3；34 纯水槽 335电热器 34氮气烘干装置
11机架 112内端
121横移气缸 1221伸縮杆
138电热器
141升降气缸 143升降座 145叉架
152推杆 161出料平台 1612出料端 1621升降机构 1623吸盘部
172升降台 18溶剂循环槽 21机架
23视觉检测装置 31机架 312外端
321输送带
331溶剂槽
336超音波设备 35升降装置
351升降气缸353升降座355 叉架
352升降滑轨 3M升降臂36横移装置361横移推臂
362推杆 371输送带 37出料输送装置372升降气缸40研磨盘
41承载台 50晶片 42晶片载座
具体实施例方式本发明的晶片下片排片机，如图1所示，其包括有一下片机10、ー排片筛片机20与一洗净机30 ；该下片机10，请參阅图2及图3所示，其包括有一机架11、一进料输送装置12、复数个液体槽13、一升降装置14、一横移装置15、一出料输送装置16、一盘体输送装置17与 ー溶剂循环槽18 ；该机架11为ー架体，其具有一外端111与一内端112，并于机架11上设有复数个轨道113，各轨道113间以ー间隔设置；该进料输送装置12设置于机架11的外端111处，其包括有相互连接的一横移气缸121与一升降气缸122，该横移汽121可朝向机架11的外端111方向将该升降汽缸122 推出或收回，该升降汽缸122具有一可顶升或下降的伸縮杆1221，该升缩杆1221于顶端设有一可承载物件的平台，该进料输送装置12可将平台上的物件以横移汽缸121朝向机架11 的外端111推移再以升降气缸122顶升而位于机架11内；该液体槽13为一中空槽体，各液体槽内设有液体、电热器138与超音波设备139， 各液体槽13包括有五个内设有溶剂的溶剂槽131、132、133、134、135与两个内设有纯水的纯水槽136、137，该电热器138可对液体槽13内的液体进行加热，该超音波设备139为现有技木，其可于液体内产生真空气泡，溶剂槽131、132、133、134、135与纯水槽136、137沿外端 111至内端112的方向依序设置于该机架11上，并且各溶剂槽13顶端的两侧与该轨道113 相连接；该升降装置14设置于机架11上，其包括有一升降汽缸141、复数个升降滑轨142、 复数个升降座143以及复数个升降臂144，该升降滑轨142直立设置于机架11上，该升降座143与该升降滑轨142为可滑动的互相结合，该升降气缸141可驱动该升降座143于升降滑轨142上进行上升或下降的位移，该升降臂144的顶端与该升降座143连接，该升降臂 144的底端设有一可于顶面承载物件的叉架145，该升降臂144于升降座143上升时可位于各液体槽13的上方处，该升降臂144的叉架145于升降座143下降时可位于各液体槽13 内部；该横移装置15设置于机架11上，其包括有一横移气缸(图中未示)、一横移推臂 151与复数个推杆152，该横移推臂151设置于各液体槽13的ー侧处，该横移推臂151的臂体上突伸有复数个推杆152，在两相邻的液体槽13间设置一推杆152，且于该进料输送装置12的上方设有一推杆152，该横移气缸可推移该横移推臂151朝向机架11内端112的方向推出或收回，该横移推臂151可带动各推杆152朝向机架11内端112的方向推出或收回；该出料输送装置16，其包括有一出料平台161与一吸取装置162 ；该出料平台161 的顶面可承载物件，且该出料平台具有一入料端1611与一出料端1612，该出料平台161以入料端1611连接该纯水槽137旁的轨道113 ；该吸取装置162包括有一升降气缸1621、一横移气缸1622与一吸盘部1623，该吸盘部1623相对于该出料平台161的上方处，该吸盘部1623可以底部将位于出料平台161上的物件吸起或放下，并可受该升降气缸1621与横移气缸1622带动进行升降及横向的位移；该盘体输送装置17包括有ー滑轨171、一升降台172以及ー输送带173，该输送带 173设置于机架11下部并可由ー马达(图中未示)驱动位移，该输送带173可将物件由机架11的内端112输送至外端111，该滑轨171垂直设置于该出料平台161的入料端1611与该输送带173间，该升降台172设置于该滑轨171上并具有一升降气缸1721，该升降台172 可以升降气缸1721驱动以沿该滑轨181进行上升或下降的位移，该升降台172的顶面于上升后位于出料输送装置16的入料端1611表面，在下降后位于输送带173的表面；该溶剂循环槽18位于机架11上，其内部设有溶剂并与各溶剂槽131、132、133、 134、135相互连通，该溶剂循环槽18可对各溶剂槽131、132、133、134、135内的溶剂进行循环更新；该排片筛片机20，请配合參阅图4及图5所示，其包括有一机架21、一机械手臂22 与ー视觉检测装置ぬ；该机架21为ー架体，该架体设置于该下片部10的内端112的ー侧；该机械手臂22设置于该机架21上，其为一六轴式的机械手臂22，可进行多方向的转动，该机械手臂22可以前端夹取物件或放下；该视觉检测装置ぬ为ー现有技木，其设置于该下片机10的机架11上并朝向于该机械手臂22，该视觉检测装置ぬ可与机械手臂22配合运作；该洗净机30，请參阅图6及图7所示，其包括有一机架31、一进料输送装置32、复数个液体槽33、至少ー氮气烘干装置34、一升降装置35、一横移装置36与一出料输送装置 37 ；该机架31为ー架体，其具有一内端311与外端312，该机架31的内端311位于机械手臂22的一侧，并于机架31上设有复数个轨道313，各轨道313间以ー间隔设置；该进料输送装置32设置于机架31的内端311处，其包括有一可受马达(图中未示)驱动旋转的输送带321与一升降气缸322，该输送带321可输送物件至升降气缸322 处，该升降气缸322可将物件顶升进入机架31的内端311处；该液体槽33为ー内设有液体的中空槽体，其包括有一个内设有溶剂的溶剂槽331 以及三个内设有纯水的纯水槽332、333、334，该溶剂槽331、纯水槽332、纯水槽333与纯水槽334沿内端311至外端312的方向依序设置于该机架31上，各液体槽33的顶端两侧分别与该轨道313连接，各槽体内设有电热器335，该电热器335可对液体槽33内的液体进行加热，并分别于溶剂槽331与纯水槽332、333内设有超音波设备336，该超音波设备336为现有技木，其可于上述溶剂槽331与纯水槽332、333内产生真空的气泡；该氮气烘干装置34设置于机架31的相邻于纯水槽334处，该氮气烘干装置34顶端两侧分別与该轨道313相连接，且其ー侧的轨道313与该纯水槽334相连接，该氮气烘干装置34可对内部的物件进行烘干；该升降装置35设置于机架31上，其包括有一升降汽缸351、复数个升降滑轨352、 复数个升降座353以及复数个升降臂354，该升降滑轨352直立设置于机架31上，该升降座 353与该升降滑轨352为可滑动的互相结合，该升降气缸351可驱动该升降座353于升降滑轨352上进行上升或下降的位移，该升降臂354的顶端与该升降座353连接，该升降臂3M 的底端设有一可于顶面承载物件的叉架355，该升降臂3M于升降座353上升时可位于各液体槽33的上方处，各升降臂354的叉架355于升降座353下降时可位于各液体槽33及氮气烘干装置34内部；该横移装置36设置于机架31上，其包括有一横移气缸(图中未示)、一横移推臂 361与复数个推杆362，该横移推臂361设置于各液体槽33的一侧处，该横移推臂361的臂体上突伸有复数个推杆362，在两相邻的液体槽33间设置一推杆362，且于该进料输送装置 32的上方设有一推杆362，该横移气缸可推移该横移推臂361朝向机架31外端312的方向推出或收回，该横移推臂361可带动各推杆362朝向机架31外端312的方向推出或收回；该出料输送装置37设置于机架31的外端312处，其包括有一可受马达(图中未示)驱动旋转的输送带371与一升降气缸372，该升降气缸372可将机架31的外端312处的物件降下，并连接该输送带371以将该物件远离该机架31方向输送；本发明在使用时配合一研磨盘40、一承载台41与一晶片载座42使用，请參阅图8 及图9所示，该研磨盘40为ー圆形盘体，其一端面以蜡黏有复数晶片50，该承载台41为ー 块体，块体侧面相对于研磨盘40具有晶片50的侧面形成一结合面411，并于该结合面411 内对应于各晶片50的位置凹设有复数个容置槽412，并于各容置槽412表面穿设有一流道413，以提供研磨盘40与承载台41结合吋，液体可透过该流道413流入或流出该容置槽 412 ；该晶片载座42为ー块体，其可承载复数片晶片50 ；本发明在实际使用吋，将该研磨盘40与承载台41互相结合，以将黏置于研磨盘40 上的各晶片50位于承载台40的各容置槽412内，将该结合后的研磨盘40与承载台41以下片机10处的进料输送装置12运送进入机架11的外端111处，以该横移装置15的推杆 152相对于该研磨盘40与承载台41的侧面并沿该轨道113推移，使该研磨盘40与承载台 41位于该溶剂槽131的上方的升降臂144的叉架145上，以该升降装置14的升降臂144 将该研磨盘40与承载台41下降至溶剂槽131处进行清洗，溶剂可沿承载台41底面的流道 413流入容置槽412内部对晶片50与研磨盘40间的蜡质进行溶解，再将该升降臂144升起带动该研磨盘40与承载台41位于溶剂槽131的上方处，该容置槽412内的溶剂可沿流道413流出，该横移装置15可由推杆152推动该研磨盘40与承载台41至下一升降臂144 处，并依此步骤依序以溶剂槽132、133、134、135以及纯水槽136、137对研磨盘40与晶片间的蜡质进行溶解与清洗，再以推杆152推动该研磨盘40与承载台41进入出料平台161的入料端1611，以吸取装置162的吸盘部1623将研磨盘40与承载台41共同吸附升起并朝向出料平台161的出料端1612移动，该吸盘部1623将吸起的承载台41降下并位于该出料端 1612处，该吸盘部1623再将该研磨盘40移至出料平台161的入料端1611并降下，使该研磨盘40位于升降台172的上方，该升降台172可将研磨盘40降下至输送带173处并向机架11的外端111输送；该出料平台161上的承载台41内的晶片50此时可被机械手臂22夹取并以视觉检测装置23检查是否有破损情形，如无破损情形该机械手臂22将夹取该晶片50至洗浄部30的进料输送装置32上的晶片载座42内，该晶片载座42可由进料输送装置32带动进入洗浄机30的机架31内端311下方并由该升降气缸322顶升，以该横移装置 36的推杆362相对于该晶片载座42的侧面并沿该轨道313推移，使该晶片载座42位于该溶剂槽331的上方的升降臂354的叉架355上，以该升降装置35的升降臂3M将该晶片载座42下降至溶剂槽331处进行清洗再上升，并依此步骤依序将该晶片载座42下降位于各液体槽33进行清洗再上升，以该横移装置36带动前进至下ー个液体槽33处，该晶片载座 42于纯水槽334清洗完毕后将由升降臂3M带动而进入氮气烘干装置34将晶片50上的水分烘干，再经由机架31外端312的出料输送装置37输出。 由上述可知本发明藉此将晶片取下、清洗研磨盘、筛选破片、排列晶片以及清洗晶片五项生产制程整合，并可藉由将下片机、排片筛片机与洗浄机连接控制系统达到标准化、 自动化的生产，可有效增加产能，并排除因人为疏失造成晶片破损的不良率，有效降低人事成本，更避免操作人员接触溶剂产生致癌风险，以进一歩符合各国的设厂规范。
权利要求
1.一种晶片下片排片机，其特征在干，包括有ー下片机、一排片筛片机与一洗净机； 该下片机的机架上设有ー进料输送装置、复数个溶剂槽、至少ー纯水槽、一升降装置、一横移装置以及ー出料输送装置；该进料输送装置设置于机架的一端处；该溶剂槽内设有溶剤，各溶剂槽依序设置于机架上并以其一端相邻于该进料输送装置；该纯水槽内设有纯水，该纯水槽设置于溶剂槽的另一端的机架上； 该升降装置包括有复数升降臂，各升降臂分别设置于各槽体的上方处，该升降臂可降下位于槽体内或升起位于槽体上方；该横移装置设置于各槽体的一侧，该横移装置具有复数个推杆，在各槽体的一侧分别设有一推杆，该推杆可朝向于机架的一端推动或收回； 该出料输送装置设置于机体的另一端处；该排片筛片机包括有一机械手臂与ー视觉检测装置；该机械手臂相邻于该下片机的出料输送装置；该视觉检测装置的位置相对于该机械手臂；该洗净机的机架上设有ー进料输送装置、至少ー溶剂槽、复数个纯水槽、至少ー氮气烘干装置、一升降装置、一横移装置以及ー出料输送装置；该进料输送装置设置于机架的一端并相邻于该机械手臂； 该溶剂槽内设有溶剤，该溶剂槽设置在机架上并相邻于进料输送装置处； 该纯水槽内设有纯水，各纯水槽依序设置于机架上并以一端相邻于该溶剂槽； 该氮气烘干装置设置于机架上并相邻于该纯水槽的另一端；该升降装置包括有复数升降臂，各升降臂分别设置于各槽体的上方处，该升降臂可降下位于槽体内或升起位于槽体上方；该横移装置设置于各槽体的一侧，该横移装置具有复数个推杆，在各槽体的一侧分别设有一推杆，该推杆可朝向于机架的一端推动或收回；该出料输送装置设置于机架的另一端，并相邻于该氮气烘干装置。
2.如权利要求1所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述下片机的各溶剂槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对溶剂进行加热；该下片机的纯水槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对纯水进行加热。
3.如权利要求2所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述洗净机的各溶剂槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对溶剂进行加热；该洗净机的纯水槽内设有电热器以及超音波装置，该电热器可对纯水进行加热。
4.如权利要求1至3中任一所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述晶片下片排片机进ー步在下片机的机架上设置ー吸取装置，该吸取装置包括有一升降机构、一横移机构与 ー吸盘部，该吸盘部位于该下片机的出料输送装置的上方，该吸盘部可受升降机构与横移机构带动进行升降与横移。
5.如权利要求4所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述晶片下片排片机进ー步在下片机的机架上设置ー盘体输送装置，其具有ー滑轨、一升降台与一输送带；该输送带设置于机架上并突伸于机架的进料输送装置下方，该滑轨连接设置于该出料输送装置的下方处与该输送带，该升降台与该滑轨为可滑动的结合，该升降台可沿该滑轨升起位于出料输送装置的表面，也可沿该升降滑轨下降位于该输送带表面。
6.如权利要求5所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述下片机的横移装置包括有一横移推臂，该横移推臂位于各液体槽的ー側面，各推杆与该横移推臂垂直连接并位于液体槽的ー侧。
7.如权利要求6所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述洗净机的横移装置包括有一横移推臂，该横移推臂位于各液体槽的ー側面，各推杆与该横移推臂垂直连接并位于液体槽的ー侧。
8.如权利要求7所述的晶片下片排片机，其特征在干，所述机械手臂是ー种六轴式的机械手臂。
全文摘要
本发明为一种晶片下片排片机，其包括有一下片机、一排片筛片机与一洗净机；该下片机可将研磨盘输送至各液体槽内进行清洗，藉此将该研磨盘与晶片间的蜡质溶解，该排片筛片机具有一机械手臂以及一视觉检测装置，该机械手臂可由下片机处夹取晶片并配合视觉检测装置检查有无破损的情形，如晶片完整再移动至另一侧的晶片载座内，该晶片载座可被运送进入洗净机中，以数道溶剂槽及纯水槽将晶片残留的蜡质洗净，最后再以氮气烘干并出料，本发明改良了现有技术的晶片制程需以人工进行并具有容易产生破片的缺点，将各制程整合并建立自动化的制程与提高生产良率。
文档编号H01L21/00GK102592961SQ201110005338
公开日2012年7月18日 申请日期2011年1月12日 优先权日2011年1月12日
发明者蔡国春 申请人:柏连企业股份有限公司