专利名称：一种硅片擦拭固定装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及机械结构制造领域，尤其是涉及一种硅片擦拭固定装置。
背景技术：
在太阳能电池的制作过程中，主要有清洗制绒、扩散、等离子刻蚀、离子体增强化学气相沉积法 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)及丝网印刷几道工序等。丝网印刷是采用压印的方式将预定的图形印刷在基板上，其工作原理为利用丝网图形部分网孔透过浆料，用刮刀在丝网的浆料部位施加一定压力，同时朝丝网另一端移动。油墨在移动中被刮刀从图形部分的网孔中挤压到基片上，从而使得基片上固着有印迹。 换言之，丝网印刷实际上是利用油墨渗透到基板上的印刷过程。在丝网印刷的过程中，会由于印刷设备和工装夹具或者人为的因素导致不良硅片 (电池片)的产生，如由于浆料过干导致网孔堵塞而造成的虚印和漏印；在铝背场印刷时由于背场面积大，湿度重而造成的印刷粘片等，这些现象的出现不但会影响硅片的外观，还会影响电池效率。目前生产线上的处理方法是，取出这些不良硅片，操作人员直接手持这些不良硅片，用酒精进行擦拭，但是如果操作人员的力度控制不好，就会很容易把硅片弄碎， 造成浪费。
实用新型内容本实用新型实施例提供了一种硅片擦拭固定装置，用于对丝网印刷后的不良硅片进行固定擦拭。本实用新型实施例提供的一种硅片擦拭固定装置，包括本体101，在本体101的表面中部设置凹槽102 ；凹槽102长度小于本体101长度，凹槽102宽度小于本体101宽度，凹槽102深度小于本体101高度；凹槽102的凹陷部分面积的大小与需要擦拭的硅片的面积大小相匹配以放置和固定娃片。本体101长度为200毫米-250毫米，本体101宽度为200毫米-250毫米，本体 101高度为15毫米-20毫米。凹槽102长度为125毫米-160毫米，凹槽102宽度为125毫米-160毫米，凹槽 102深度为130微米-150微米。本体101为非金属材料。本体101为聚氯乙烯PVC材料。从以上技术方案可以看出，本实用新型实施例提供的一种硅片擦拭固定装置，用于对丝网印刷后的不良硅片进行固定擦拭，防止因为操作人员的力度控制不好而把硅片弄碎的问题，降低了成本。
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例， 对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为本实用新型实施例提供的一种硅片擦拭固定装置的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型实施例提供了一种硅片擦拭固定装置，用于对丝网印刷后的不良硅片进行擦拭。下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。以下进行详细说明。一种硅片擦拭固定装置，请看考图1，为本实用新型实施例提供的一种硅片擦拭固定装置的结构示意图，该装置包括本体101，在本体101的表面中部设置凹槽102 ；凹槽102长度小于本体101长度，凹槽102宽度小于本体101宽度，凹槽102深度小于本体101高度；凹槽102的凹陷部分面积的大小与需要擦拭的硅片的面积大小相匹配以放置和固定所述硅片。可以理解的是，通常地，根据单晶硅太阳能电池片的规格，可以分为125电池片和 156电池片；其中，125电池片是指长宽为125毫米的硅片，156电池片是指长宽为156毫米的硅片，加上目前硅片的厚度一般在180微米以上；因此，一般来说，该装置的长宽设置大于硅片的长宽，该装置的高度大于硅片的厚度即可。在某些实施方式中，根据在实际生产中的需要，优选地，该装置的本体101长宽可以设置为长度为200毫米-250毫米，宽度为200毫米-250毫米，本体101高度为15毫米-20毫米。进一步地，由于凹槽102是用于放置并固定需要擦拭的硅片；因此，一般来说，该凹槽的长宽设置跟硅片的长宽相近，根据在实际生产中的需要，优选地，凹槽102长宽可以设置为长度为125毫米-160毫米，宽度为125毫米-160毫米。在某些实施方式中，为了防止擦拭时浆料漏到硅片背面，导致电性能下降，凹槽 102深度可以设置为小于硅片的厚度，凹槽102深度可以设置为130微米-150微米。更进一步地，该装置的本体101为非金属材料，在某些实施方式中，本体101可以为聚氯乙烯PVC材料。本实用新型实施例提供的一种硅片擦拭固定装置，用于对丝网印刷后的不良硅片进行固定擦拭，防止因为操作人员的力度控制不好而把硅片弄碎的问题，降低了成本。[0030]以上对本实用新型实施例所提供的一种硅片擦拭固定装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式
及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。
权利要求1.一种硅片擦拭固定装置，其特征在于，包括本体(101)，在所述本体(101)的表面中部设置凹槽(102)；所述凹槽(102)长度小于所述本体(101)长度，所述凹槽(102)宽度小于所述本体 (101)宽度，所述凹槽(102)深度小于所述本体(101)高度；所述凹槽(102)的凹陷部分面积的大小与需要擦拭的硅片的面积大小相匹配以放置和固定所述硅片。
2.根据权利要求I所述的装置，其特征在于所述本体(101)长度为200毫米-250毫米，所述本体(101)宽度为200毫米-250毫米，所述本体(101)高度为15毫米-20毫米。
3.根据权利要求I所述的装置，其特征在于所述凹槽(102)长度为125毫米-160毫米，所述凹槽(102)宽度为125毫米-160毫米，所述凹槽(102)深度为130微米-150微米。
4.根据权利要求I至3中任一项所述的装置，其特征在于所述本体(101)为非金属材料。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于所述本体(101)为聚氯乙烯PVC材料。
专利摘要本实用新型实施例公开了一种硅片擦拭固定装置，用于对丝网印刷后的不良硅片进行固定擦拭。本实用新型实施例包括本体101，在本体101的表面中部设置凹槽102；凹槽102长度小于本体101长度，凹槽102宽度小于本体101宽度，凹槽102深度小于本体101高度；凹槽102的凹陷部分面积的大小与需要擦拭的硅片的面积大小相匹配以放置和固定硅片。
文档编号H01L31/18GK202343483SQ201120505959
公开日2012年7月25日 申请日期2011年12月7日 优先权日2011年12月7日
发明者黄镇 申请人:浚鑫科技股份有限公司