专利名称：有机发光二极管显示面板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及显示领域，特别是指一种有机发光二极管显示面板及其制造方法。
背景技术：
有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)显示背板通常由玻璃基板、ITO (indium tin oxide,铟锡氧化物)阳极(Anode)、有机发光层(Emitting MaterialLayer)与阴极(Cathode)等所组成，其中，薄而透明的ITO阳极与金属阴极如同三明治般地将有机发光层包夹其中，当阳极的空穴(Hole)与阴极来的电子(Electron)在有机发光层结合时，将激发有机发光层中的有机材料而发光。有源矩阵有机发光二极管(AM0LED，Active Matrix/Organic Light Emitting Diode)显不面板是 OLED 显不面板的一种，相比传统的液晶显示面板，AMOLED具有反应速度较快、对比度更高、视角较广等特点，具有广阔的应用前景。OLED显示面板的制造工艺大体可以包括以下两个步骤一、在基板上形成有源矩阵。二、制作和封装有机发光器件的阵列，有机发光器件包括ITO阳极、阳极上的像素界定层、有机电致发光层和阴极。该有机电致发光层被夹在阳极和阴极之间，构成三明治结构。像素界定层用于界定像素以及阳极的尺寸，并且保证阳极和阴极之间绝缘。图I示出了现有技术中有源区像素在像素界定层制备前的结构示意图。其中IOla IOlb为扫描线，102a 102b为数据线，105a为驱动电源线；109为开关管；110为驱动管；103a为有源区，有源区为半导体材料，如单晶硅、多晶硅、铟镓锌氧化物(IGZO)等；104a为连接开关管109和驱动管110的连线，106a为透明电极。作为对比，在图I的基础上，图2进一步示出了现有技术的像素界定层的结构示意图。图2中区域107a为一个像素内的像素界定层。像素界定层的材料一般为光刻胶。现有技术通常采用光刻工艺形成像素界定层的图形，图形化所使用的掩模板通常是为像素界定层专门设计的掩膜板。同时，在光刻过程中需要一次对位工艺来对掩膜板进行精确对位。可以看出，现有技术在制作像素界定层时，需要专门的掩膜板并需要一次对位工艺，因此其制作流程较为复杂且制作成本较高；并且，由于需要一次对位工艺，因此显示面板的良品率会受到对位精度的影响。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例的目的是提供一种有机发光二极管显示面板及其制造方法，可以简化显示面板的制作流程、降低显示面板的制作成本，并能提高有机发光二极管显不面板的良品率。为解决上述技术问题，本发明实施例提供方案如下一种有机发光二极管显示面板的像素界定层的制造方法，包括
在形成有有源阵列的透明基板上涂布光刻胶层，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明；从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域；对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层。优选地，上述方法中，所述像素界定层包括由所述光刻胶保留区域的光刻胶形成的第一像素界定层，还 包括第二像素界定层；在涂布所述光刻胶层之前，采用透明且具有亲水性材料，在所述透明基板上形成一层亲水性材料层；所述光刻胶层采用疏水性的材料，且涂布在所述亲水性材料层上；在所述显影处理后，进一步去除暴露在所述光刻胶保留区域之外的亲水性材料层，得到由剩余的亲水性材料层构成的所述第二像素界定层。优选地，上述方法中，所述第二像素界定层的材料为氮化硅，所述第一像素界定层的材料为聚酰亚胺。本发明提供了一种有机发光二极管显示面板的制造方法，包括在透明基板上形成有源阵列，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明；在所述透明基板上涂布光刻胶层；从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域；对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层；在所述像素界定层界定出的像素区形成有机发光层；在所述有机发光层之上形成第二电极。优选地，上述方法中，所述像素界定层包括由所述光刻胶保留区域的光刻胶形成的第一像素界定层，还包括第二像素界定层；在涂布所述光刻胶层之前，采用透明且具有亲水性材料，在所述透明基板上形成一层亲水性材料层；所述光刻胶层采用疏水性的材料，且涂布在所述亲水性材料层上；在所述显影处理后，进一步去除暴露在所述光刻胶保留区域之外的亲水性材料层，得到由剩余的亲水性材料层构成的所述第二像素界定层。
优选地，上述方法中，所述第二像素界定层的材料为氮化硅，所述第一像素界定层的材料为聚酰亚胺。优选地，上述方法中，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极。本发明提供了一种有机发光二极管显示面板，所述有机发光二极管显示面板采用上述方法制造得到。从以上所述可以看出，本发明实施例提供的有机发光二极管显示面板及其制造方法，在形成像素界定层的光刻工艺中，利用不透明的扫描线和数据线(驱动电源线)作为掩膜，从而不再需要专门的掩膜板，同时还节省了现有技术的掩膜板对位工艺，因此可以大大简化制作流程、降低制作成本并提高产品良品率。
图I为现有技术中有源区像素在像素界定层制备前的结构示意图；图2为现有技术的像素界定层的结构示意图；图3为本发明实施例提供的像素界定层的制造流程示意图；图4为本发明实施例所形成的像素界定层的结构示意图；图5为本发明实施例提供的有机发光二极管显示面板的制造流程示意图。
具体实施例方式本发明实施例提供的有机发光二极管显示面板的像素界定层的制造方法，不需要专门的掩膜板，在光刻工艺过程中也不需要对位工艺，从而可以减少制作成本，简化制作流程并提高产品良品率。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本发明进行详细描述。本发明实施例的OLED显示面板的像素界定层是在有源阵列以及像素的阳极制备完成之后，在有机发光层形成之前进行制备的。传统的像素界定层通常采用专门设计的掩膜板进行像素界定层图形化的。本发明实施例则不需要专用的像素界定层掩膜板。具体而言，像素界定层制备之前，有源阵列已经制备完成，在基板上已经形成了扫描线和数据线及驱动电源线等线路。其中，扫描线与数据线交叉设置，进一步，本实施例中可以将扫描线与数据线设置为相互垂直，数据线与驱动电源线通常相互平行，相互垂直的扫描线与数据线(或驱动电源线)客观上把每一个子像素都分隔开。本发明实施例正是利用这些金属线作为像素界定层的掩膜，对像素界定层进行图形化，从而不再需要专门的掩膜板以及对位工艺。请参照图3，本发明实施例所述有机发光二极管显示面板的像素界定层的制造方法，可以包括步骤31，在形成有有源阵列的透明基板上涂布光刻胶层，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元 包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明。这里，基板是透明的，如采用玻璃基板。扫描线是不透明的；驱动电源线和数据线可以是都不透明，或者仅其中一种透明，例如驱动电源线不透明而数据线透明，或者数据线不透明而驱动电源线透明。具体的，上述不透明的扫描线/驱动电源线/数据线可以采用不透光的导电材料，如Mo、Al或Ti等形成。这样，由于存在不透明的扫描线、以及与扫描线交叉且不透明的驱动电源线和/或数据线，从而可以交叉界定出多个子像素单元。例如，相互垂直且都不透明的扫描线与数据线交叉界定出多个子像素单元。每个子像素单元具体可以包括透明的第一电极(如ITO阳极)，还可以包括开关管和驱动管等晶体管器件，具体的开关管、驱动管、扫描线、数据线和驱动电源线之间的连接关系可以与现有技术相同，这里不再赘述。步骤32，从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域。这里，在光刻工艺中从透明基板未涂布光刻胶的一侧进行曝光，从而利用扫描线和驱动电源线(和/或数据线)的不透明特性，遮挡对应的光刻胶以避免被曝光，使得未被曝光的光刻胶形成光刻胶保留区域，该保留区域在显影后将被保留下来。 步骤33，对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层。这里，通过显影处理，在曝光过程中未被遮挡的光刻胶部分将被去除，而光刻胶保留区域的光刻胶层将被保留，从而保留下来的光刻胶形成了具体的像素界定层结构。可以看出，本实施例在形成像素界定层的光刻工艺中，利用不透明的扫描线和数据线(或驱动电源线)作为掩膜，从而不再需要专门的掩膜板，同时还节省了现有技术的掩膜板对位工艺，因此可以大大简化制作流程、降低制作成本并提高产品良品率。本发明实施例中，像素界定层可以是一层或两层结构，还可以是多层的复合层结构。例如，在采用两层结构时，可以采用具有不同亲水性材料，且靠近透明第一电极的材料为透明的。此时，本发明实施例所述有机发光二极管显示面板的像素界定层的制造方法，可以包括步骤41，采用透明且具有亲水性材料，在形成有有源阵列的透明基板上形成一层亲水性材料层。这里，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明。所述亲水性材料层具体可以采用氮化硅，然后可以通过化学沉积的方式在透明基板覆盖上一层氮化硅，得到亲水性材料层。步骤42，在亲水性材料层上涂布光刻胶层。步骤43，从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域。步骤44，对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成第一像素界定层。步骤45，去除暴露在所述光刻胶保留区域之外的亲水性材料层，得到由剩余的亲水性材料层构成的第二像素界定层。通过以上处理获得的像素界定层为二层结构，包括由所述光刻胶保留区域的光刻胶形成的第一像素界定层，还包括由剩余的亲水性材料层构成的第二像素界定层，其中第一像素界定层位于第二像素界定层的上方。具体的下层的第二像素界定层的材料可以采用氮化硅，上层的第一像素界定层的材料可以采用为聚酰亚胺。其中氮化硅为亲水性，聚酰亚胺具有疏水性。此种结构可以帮助后续工程中的有机发光器件的空穴传输层或空穴注入层或发光层的形成所需的厚度分布。在像素界定层的双层材料涂布完成之后，按照上述步骤44 45的方式进行曝光及显影处理，然后针对各材料进行刻蚀、剥离等工艺，完成了双层像素界定层的图形化。采用本实施例的上述方法，利用图I中不透光的金属线(如扫描线、数据线、驱动电源线)作为掩膜，对像素界定层进行图形化。假设图I中不透光的金属线及器件有扫描线IOla 101b，数据线102a 102b、驱动电源线105a、连线104a及开关管109和驱动管110(即都是不透明的导电材料制成)。这些不透明金属线及器件构成的图形如图4的108所示。本例以图4所示的图形108作为掩膜，在像素界定层材料涂布后，从基板的背面进行曝光。图4中108部分之上的光刻胶没有被曝光，显影之后将留在基板上，而108之外的部分被曝 光，显影之后光刻胶会被除去。这样，在基板上形成了 108形状的像素界定层。108形状中有一个较大的封闭空间111，透明的第一电极位于该封闭空间中，有机发光层可以形成在该封闭空间中的第一电极之上。以下进一步介绍本发明在制备有机发光二极管显示面板中的应用。请参照图5，本发明实施例提供了一种有机发光二极管显示面板的制造方法，包括步骤51，在透明基板上形成有源阵列，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明。这里，所述子像素单元还可以包括驱动管、开关管、以及驱动管和开关管之间的连线。具体的开关管、驱动管、扫描线、数据线和驱动电源线之间的连接关系可以与现有技术相同，此处不再赘述。步骤52，在所述透明基板上涂布光刻胶层。步骤53，从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域。步骤54，对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层。步骤55，在所述像素界定层界定出的像素区形成有机发光层。步骤56，在所述有机发光层之上形成第二电极。这里，所述第一电极可以是阳极，所述第二电极可以是阴极。第一电极采用透明的导电材料制成，第二电极可以采用透明或不透明的导电材料制成。上述步骤55中，有机发光层可以利用掩模板在基板上蒸镀形成；或者通过喷墨打印的方式形成。当然，这里还可以采用上述步骤4广45中的处理方式，形成包括2层结构的像素界定层。此处不再赘述。本发明实施例中，在形成有机发光层时，即使在像素区的第一电极之外的其他区域沉积了有机发光层，但由于只有像素区第一电极(如阳极)才会与蒸镀的有机材料接触，其他区域即使存在有机材料但由于没有与第一电极接触因此不会发光，所以，为了简化工艺，本实施例中在上述步骤55中可以不采用掩膜板而是直接在基板上蒸镀形成有机发光层。最后，本发明实施例还提供了一种有机发光显示面板及其像素界定层，其中，该有机发光显示面板采用图5所示的方法制造得到，该像素界定层采用图3所示的方法制造得至IJ，此处不再赘述。以上所述仅是本发明的实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来 说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种有机发光二极管显示面板的像素界定层的制造方法，其特征在于，包括 在形成有有源阵列的透明基板上涂布光刻胶层，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明；从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域； 对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层。
2.如权利要求I所述的方法，其特征在于， 所述像素界定层包括由所述光刻胶保留区域的光刻胶形成的第一像素界定层，还包括第二像素界定层； 在涂布所述光刻胶层之前，采用透明且具有亲水性材料，在所述透明基板上形成一层亲水性材料层； 所述光刻胶层采用疏水性的材料，且涂布在所述亲水性材料层上； 在所述显影处理后，进一步去除暴露在所述光刻胶保留区域之外的亲水性材料层，得到由剩余的亲水性材料层构成的所述第二像素界定层。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于， 所述第二像素界定层的材料为氮化硅，所述第一像素界定层的材料为聚酰亚胺。
4.一种有机发光二极管显示面板的制造方法，其特征在于，包括 在透明基板上形成有源阵列，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线、多个由扫描线和数据线交叉界定的子像素单元，所述子像素单元包括透明的第一电极，其中所述数据线和所述驱动电源线中的至少一种线路以及所述扫描线均不透明； 在所述透明基板上涂布光刻胶层； 从所述透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对所述光刻胶层进行曝光，利用所述扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域； 对所述光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层； 在所述像素界定层界定出的像素区形成有机发光层； 在所述有机发光层之上形成第二电极。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于， 所述像素界定层包括由所述光刻胶保留区域的光刻胶形成的第一像素界定层，还包括第二像素界定层； 在涂布所述光刻胶层之前，采用透明且具有亲水性材料，在所述透明基板上形成一层亲水性材料层； 所述光刻胶层采用疏水性的材料，且涂布在所述亲水性材料层上； 在所述显影处理后，进一步去除暴露在所述光刻胶保留区域之外的亲水性材料层，得到由剩余的亲水性材料层构成的所述第二像素界定层。
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于， 所述第二像素界定层的材料为氮化硅，所述第一像素界定层的材料为聚酰亚胺。
7.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极。
8.一种有机发光二极管显示面板，其特征在于所述有机发光二极管显示面板采用如权利要求4至7任一项所述的方法制造得到。
全文摘要
本发明提供了一种有机发光二极管显示面板及其制造方法，涉及显示技术领域。所述制造方法包括在形成有有源阵列的透明基板上涂布光刻胶层，所述有源阵列包括驱动电源线、数据线、扫描线，其中数据线和驱动电源线中的至少一种线路以及扫描线均不透明；从透明基板背向所述光刻胶层的一侧，对光刻胶层进行曝光，利用扫描线和所述至少一种线路作为掩膜阻断对应的光刻胶被曝光，以使得光刻胶层形成光刻胶保留区域；对光刻胶层进行显影处理，以去除光刻胶保留区域之外的光刻胶，而保留光刻胶保留区域的光刻胶，以形成像素界定层结构。本发明可以简化显示面板的制作流程、降低显示面板的制作成本，并能提高显示面板的良品率。
文档编号H01L21/77GK102709243SQ20121015739
公开日2012年10月3日 申请日期2012年5月18日 优先权日2012年5月18日
发明者陈海晶 申请人:京东方科技集团股份有限公司