专利名称：高透过率激光染料调q薄膜片的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光学元件设计应用领域，特别是一种高透过率激光染料调Q薄膜片。
背景技术：
目前，市场上的调Q薄膜片基本上是采用薄膜片先固化后，再镀增透膜的结构，然而在薄膜片成型过程中是表面先固化，而基片内部的有机溶剂仍然在挥发，所以基片内壁很容易形成一些微观气泡，影响激光的透过率；同时，薄膜片的表面也会产生微观凹入不平的现象，直接镀增透膜效果不好，增强了激光的反射与散射，使得激光透过率降低，损耗增大，对激光器调Q的效果产生不利影响。
发明内容本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种高透过率激光染料调Q薄膜片。实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种高透过率激光染料调Q薄膜片，包括薄膜基片，薄膜基片上涂布有无机性过渡膜，在无机性过渡膜上镀有激光增透膜。所述薄膜基片是由混合好的液体原料置入成型均布器内固化后形成的片状结构。所述无机性过渡膜是在薄膜基片开始固化成型时在薄膜基片的表面涂敷含有硅的试剂形成的。利用本实用新型的技术方案制作的高透过率激光染料调Q薄膜片，可以让增透膜通过无机性过渡膜与基片成为一体机构，薄膜片的激光透过率增长3% -4%，透过率达到97% -98%。
图1是本实用新型所述高透过率激光染料调Q薄膜片的结构示意图；图中，1、薄膜基片；2、无机性过渡膜；3、激光增透膜。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型进行具体描述，如图1是本实用新型所述高透过率激光染料调Q薄膜片的结构示意图，如图所示，一种高透过率激光染料调Q薄膜片，包括薄膜基片1，薄膜基片上涂布有无机性过渡膜2，在无机性过渡膜上镀有激光增透膜3。其中，所述薄膜基片是由混合好的液体原料置入成型均布器内固化后形成的片状结构；所述无机性过渡膜是在薄膜基片开始固化成型时在薄膜基片的表面涂敷含有硅的试剂形成的。本技术方案的特点是薄膜基片通过无机性过渡膜与增透膜结合在一起，形成一体结构，避免了因基片在成型过程中表面存在微观的凹凸，从而镀上增透膜后，增强了激光的反射与散射，使得激光透过率降低，损耗增大的情况，保证了激光器调Q的效果。[0012]上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种高透过率激光染料调Q薄膜片，包括薄膜基片(I)，其特征在于，薄膜基片上涂布有无机性过渡膜(2)，在无机性过渡膜上镀有激光增透膜(3)。
2.根据权利要求1所述的高透过率激光染料调Q薄膜片，其特征在于，所述薄膜基片是在成型均布器内固化后形成的片状结构。
3.根据权利要求1所述的高透过率激光染料调Q薄膜片，其特征在于，所述无机性过渡膜是在薄膜基片开始固化成型时在薄膜基片的表面涂敷硅试剂形成的。
专利摘要本实用新型公开了一种高透过率激光染料调Q薄膜片，包括薄膜基片，薄膜基片上涂布有无机性过渡膜，在无机性过渡膜上镀有激光增透膜。本实用新型的有益效果是，结构一体化，增加薄膜片的激光透过率。
文档编号H01S3/11GK202977965SQ201220624508
公开日2013年6月5日 申请日期2012年11月23日 优先权日2012年11月23日
发明者张桂华, 邢子红, 张瑞, 张舒明, 陈斅恔 申请人:天津市激光技术研究所