半导体装置的制作方法

文档序号:11956164阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供一种半导体装置,其能够软化高速二极管的开关波形。该半导体装置具有电流在纵向上流动的PiN型的二极管结构,在施加反向偏压时所形成的耗尽层区域的外侧的漂移层的区域内,改变浓度地配置有多个载流子蓄积层(N+层)。从器件中央侧朝向端部侧配置积蓄层,积蓄层的浓度从器件中心侧至端部侧阶段性地升高。可利用多个载流子蓄积层来控制耗尽层的扩展方向,从而能够软化开关波形。

技术研发人员:森川直树
受保护的技术使用者:三垦电气株式会社
文档号码:201510323730
技术研发日:2015.06.12
技术公布日:2016.12.07

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