1.一种基板处理装置，其中，
该基板处理装置包括：
基板保持部，其用于保持基板；
加热化学溶液供给机构，其用于供给加热后的化学溶液；
气体供给机构，其用于供给气体；
加热纯水供给机构，其用于供给加热后的纯水；
第1喷嘴，其用于将所述化学溶液的液滴朝向所述基板的表面喷出，所述化学溶液的液滴是通过将由所述气体供给机构供给来的所述气体和由所述加热化学溶液供给机构供给来的加热后的所述化学溶液混合而形成的；
第2喷嘴，其用于将由所述加热纯水供给机构供给来的加热后的所述纯水朝向所述基板的背面喷出，
所述第1喷嘴向被从第2喷嘴供给来的加热纯水从所述背面侧加热的所述基板的表面供给所述液滴。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述加热化学溶液供给机构具有化学溶液温度调节机构，
所述化学溶液温度调节机构具有：温度调节器，其用于供给温度控制后的温度调节液；水夹套，其包围用于向所述第1喷嘴供给所述加热化学溶液的化学溶液配管，并且，向该水夹套供给从所述温度调节器供给来的温度调节液。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述加热纯水供给机构具有纯水温度调节机构，所述纯水温度调节机构具有：温度调节器，其用于供给温度控制后的温度调节液；水夹套，其包围用于向所述第2喷嘴供给所述加热纯水的纯水配管，并且，向该水夹套供给从所述温度调节器供给来的温度调节液。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述加热化学溶液供给机构具有储存所述化学溶液的化学溶液罐，
所述加热纯水供给机构具有用于对向所述第2喷嘴供给的纯水进行加热的纯水温度调节器，
该基板处理装置设置有包围所述化学溶液罐的周围的加热纯水夹套，向所述加热纯水夹套供给由所述纯水温度调节器加热后的纯水而对储存于所述化学溶液罐内的所述化学溶液进行保温或加热，使从所述加热纯水夹套排出来的纯水返回所述纯水温度调节器。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中，
所述化学溶液是用纯水对化学溶液成分稀释而成的溶液，
所述加热纯水供给机构具有用于将由所述纯水温度调节器加热后的纯水向所述第2喷嘴供给的加热纯水管线，
该基板处理装置设置有从所述加热纯水管线分支而向所述化学溶液罐供给在所述加热纯水管线中流动的加热纯水作为用于调和所述化学溶液的稀释液的第1分支管线和从所述加热纯水管线分支并向所述加热纯水夹套供给在所述加热纯水管线中流动的加热纯水的第2分支管线，所述第2分支管线从加热纯水管线分支的位置比所述第1分支管线从加热纯水管线分支的位置靠上游侧。
6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
所述基板保持部具有：板部分，其位于所述基板的下方，与所述基板面对面；保持部分，其设置于所述板部分的周缘部，用于保持所述基板的周缘部，所述基板和所述板部分之间的空间被从所述第2喷嘴喷出来的所述加热纯水充满了的状态下，所述第1喷嘴向所述基板的表面供给所述液滴。
7.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还具有：
旋转驱动部，其用于使所述基板保持部旋转；
杯，其包围所述基板保持部的周围，用于接收并回收从由所述基板保持部保持而旋转的基板飞散的所述化学溶液，
所述杯包括：
上杯体，其具有圆筒形的下部分和以随着靠近上端而朝向半径方向内侧的方式倾斜的上部分；
槽，其能够使附着于比所述上杯体的上部分的上端靠外侧的位置并在所述上杯体的所述下部分的外侧向下方通过的液体向比所述下部分靠内侧的下方流下。
8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中，
所述杯还包括圆筒形的外杯体，该外杯体将所述上杯体支承于内侧，该外杯体能够相对于所述基板保持部进行升降，
在所述外杯体和所述上杯体的所述下部分之间形成有液体能够在所述外杯体和所述上杯体的下部分之间通过的间隙。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还包括分隔板，该分隔板划分出处理腔室的一部分，在所述外杯体上升了时与所述外杯体的上端接触，
附着于所述分隔板的液体在所述外杯体和所述上杯体的下部分之间的间隙通过。
10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还包括：
分隔板，其划分出处理腔室的底面；
旋转驱动部，其使所述基板保持部旋转；
杯，其包围所述基板保持部的周围，用于接收并回收从由所述基板保持部保持而旋转的基板飞散的所述化学溶液；
喷嘴臂，其用于保持所述第1喷嘴；
臂驱动机构，其用于使所述喷嘴臂移动，
所述分隔板的在所述喷嘴臂所待机的区域中的高度比所述分隔板的在所述杯的周边的区域中的高度低。
11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，
该基板处理装置还包括：
喷嘴臂，其用于保持所述第1喷嘴；
臂驱动机构，其用于使所述喷嘴臂移动；
分隔板，其将处理腔室分隔成所述基板保持部的上方的第1分区和位于所述第1分区的侧方并用于收容所述臂驱动机构的第2分区，
在所述分隔板上形成有容许所述喷嘴的移动的狭缝。
12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中，
用于对所述第2分区进行抽吸的排气口设置于所述第2分区的上部。
13.一种基板处理方法，其是基板处理装置的基板处理方法，该基板处理装置包括：
基板保持部，其用于保持基板；
加热化学溶液供给机构，其用于供给加热后的化学溶液；
气体供给机构，其用于供给气体；
加热纯水供给机构，其用于供给加热后的纯水；
第1喷嘴，其用于将所述化学溶液的液滴朝向所述基板的表面喷出，所述化学溶液的液滴是通过将由所述气体供给机构供给来的所述气体和由所述加热化学溶液供给机构供给来的加热后的所述化学溶液混合而形成的；
第2喷嘴，其用于将由所述加热纯水供给机构供给来的加热后的所述纯水朝向所述基板的背面喷出，其中，
该基板处理方法包括如下工序：
从所述第2喷嘴将所述加热后的纯水开始朝向所述基板的背面喷出的工 序；
在从所述第2喷嘴开始将所述加热后的纯水朝向所述基板的背面喷出之后、开始从所述第1喷嘴将所述液滴朝向所述基板的表面喷出的工序。
14.根据权利要求13所述的基板处理方法，其中，
所述基板保持部具有：
板部分，其位于所述基板的下方，与所述基板面对面；保持部分，其设置于所述板部分的周缘部，用于保持所述基板的周缘部，
利用从所述第2喷嘴将所述加热后的纯水朝向所述基板的背面喷出的工序，所述基板和所述板部分之间的空间被所述加热后的纯水充满，在该状态下，执行从所述第1喷嘴喷出所述液滴的工序。
15.根据权利要求13所述的基板处理方法，其中，
一边使所述基板旋转、并且使所述液滴接触于所述基板的表面的着液点在所述基板的中心部和周缘部之间移动，一边进行从所述第1喷嘴喷出所述液滴的工序，
所述基板处理方法还在执行喷出所述液滴的工序的期间具有朝向所述基板的表面的中心喷出干燥防止液的工序。
16.根据权利要求13所述的基板处理方法，其中，
一边使所述基板旋转、并且使所述液滴接触于所述基板的表面的着液点在所述基板的中心部和周缘部之间移动，一边进行从所述第1喷嘴开始喷出所述液滴的工序，
根据从所述第2喷嘴喷出的、所述加热后的纯水的温度来决定所述液滴的着液点的移动速度。
17.根据权利要求13所述的基板处理方法，其中，
在从所述第1喷嘴朝向所述基板的表面开始喷出所述液滴之后，
从所述第2喷嘴朝向所述基板的背面喷出所述加热后的纯水。
18.根据权利要求13或17所述的基板处理方法，其中，
一边使所述基板旋转、并且使所述液滴接触于所述基板的表面的着液点在所述基板的中心部和周缘部之间移动，一边进行从所述第1喷嘴开始喷出所述液滴的工序，
所述液滴的着液点的移动速度被设定为所述化学溶液的液膜不会在所述基板的表面消失的速度。