技术总结
本发明公开了一种薄膜晶体管阵列基板及其制备方法和显示器件，方法包括：采用第一道光罩制程对形成在基板上的多晶硅膜层进行图案化处理；采用第二道光罩制程对依次形成在图案化多晶硅膜层和未被多晶硅膜层覆盖的基板上的第一金属层、第二绝缘层和第二金属层进行图案化处理；采用第三道光罩制程对形成在第二绝缘层、第二金属层上和未被覆盖的第一绝缘层上的第三绝缘层进行图案化处理；采用第四道光罩制程对形成在接触孔中和第三绝缘层上的第三金属层进行图案化处理；采用第五道光罩制程在第三金属层和未被覆盖的第三绝缘层上制备像素限定层和间隔层。其只需5道光罩制程即可完成阵列基板的制备，有效提高了阵列基板的制备效率，降低了制备成本。
技术研发人员：蔡伟民
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
文档号码：201610802170
技术研发日：2016.09.05
技术公布日：2016.12.07