一种全反射阵列基板及其制作方法和显示装置与流程

文档序号:12370189阅读:来源:国知局
技术总结
一种全反射阵列基板及其制作方法和显示装置,该制作方法包括:形成第一金属层和第一绝缘层的图形,第一绝缘层的图形包括位于外围区域的转接过孔的图形,第一金属层的图形包括位于转接过孔底部的金属图形;形成透明金属氧化物导电层和第二绝缘层的图形,透明金属氧化物导电层的图形包括位于转接过孔区域的透明转接走线图形,第二绝缘层的图形包括位于透明转接走线图形上方的绝缘保护图形;形成第二金属层的图形,第二金属层的图形包括位于显示区域的金属反射图形,在形成第二金属层的图形时包括对转接过孔区域的第二金属层进行湿刻,由于绝缘保护图形对位于过孔底部的金属图形具有保护作用,因而可避免湿刻时采用的刻蚀液对金属图形造成腐蚀。

技术研发人员:张正东;杨小飞;莫再隆;代科
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
文档号码:201610806423
技术研发日:2016.09.06
技术公布日:2017.01.04

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