EFD型铁氧体磁芯的制作方法

文档序号:12565585阅读:402来源:国知局
EFD型铁氧体磁芯的制作方法与工艺

本实用新型涉及电子元件技术领域,特别涉及一种EFD型铁氧体磁芯。



背景技术:

铁氧体是由铁的氧化物及其他配料烧结而成。一般可分为永磁铁氧体、软磁铁氧体和旋磁铁氧体三种。

软磁磁芯主要应用于电子信息产业,电子变压器、电感器、稳压调压器、电脑电源、漏电保护开关、电焊机、磁放大器、扼流圈、LED绿色照明等领域。现有的EFD型铁氧体磁芯,绕制圈数多了以后散热不好,不耐磨,也不耐腐蚀。



技术实现要素:

本实用新型需要解决的技术问题是现有的EFD型铁氧体磁芯,绕制圈数多了以后散热不好,不耐磨,也不耐腐蚀。

为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种EFD型铁氧体磁芯,包括基板,在基板上设置有柱状磁芯部,在所述基板上位于柱状磁芯部两侧对称设置有挡板,所述柱状磁芯部为矩形,并且矩形的四个角均设置有45°的倒角,所述挡板为也为矩形,在柱状磁芯部两侧的基板上分别设置有底部为水平面的V型槽。本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,结构设置合理,矩形的柱状磁芯部四个角均设置倒角,方便磁芯的绕制,使得绕制均匀,在柱状磁芯部两侧的基板上分别设置有底部为水平面的V型槽,尺寸设置合理,在满足使用强度要求的同时散热效果好。

其中优选的,所述柱状磁芯部的矩形横向设置,并且距离基板的上侧边的距离大于距离基板下侧边的距离,其中设置在上侧边上的V型槽开口处最大宽度小于柱状磁芯部的同侧平面宽度,设置在下侧边上的V型槽底部宽度与柱状磁芯部的同侧平面宽度相同,并且设置在下侧边上的V型槽底部平面与同侧面柱状磁芯部的平面在同一平面,设置在下侧边上的V型槽开口处最大宽度小于柱状磁芯部的宽度。柱状磁芯部偏心设置,同时两侧的V型槽也相应的设置不同的尺寸,在符合使用要求的同时,结构稳定。

进一步的改进在于,在基板、两个挡板和柱状磁芯部上均设置有以颗粒涂层为基层的铁氧体复合涂层,并且颗粒涂层的颗粒为空心微珠颗粒;在颗粒涂层的间隙还填充有超细铁氧体粉末。设置铁氧体复合涂层,提高磁芯的耐磨性和耐腐蚀性,同时增加填充超细铁氧体粉末可以增加涂层的厚度,保证耐磨性和耐腐蚀性。

本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,结构合理,绕制方便,并且结构稳定,散热效果好,提高了磁芯的耐磨性和耐腐蚀性等整体性能。

附图说明

图1是本实用新型的主视图;

图2是本实用新型的俯视图;

图3是本实用新型的后视图;

其中,1-基板,2-柱状磁芯部,3-挡板,4-V型槽。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本实用新型的优选技术方案。

如图所示,本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,包括基板1,在基板1上设置有柱状磁芯部2,在所述基板1上位于柱状磁芯部2两侧对称设置有挡板3,所述柱状磁芯部2为矩形,并且矩形的四个角均设置有45°的倒角,所述挡板3为也为矩形,在柱状磁芯部2两侧的基板1上分别设置有底部为水平面的V型槽4。

其中,所述柱状磁芯部2的矩形横向设置,并且距离基板1的上侧边的距离大于距离基板1下侧边的距离,其中设置在上侧边上的V型槽4开口处最大宽度小于柱状磁芯部2的同侧平面宽度,设置在下侧边上的V型槽4底部宽度与柱状磁芯部2的同侧平面宽度相同,并且设置在下侧边上的V型槽4底部平面与同侧面柱状磁芯部2的平面在同一平面,设置在下侧边上的V型槽4开口处最大宽度小于柱状磁芯部2的宽度。

进一步的,在基板1、两个挡板3和柱状磁芯部2上均设置有以颗粒涂层为基层的铁氧体复合涂层,并且颗粒涂层的颗粒为空心微珠颗粒;在颗粒涂层的间隙还填充有超细铁氧体粉末。

本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,结构设置合理,矩形的柱状磁芯部四个角均设置倒角,方便磁芯的绕制,使得绕制均匀,在柱状磁芯部两侧的基板上分别设置有底部为水平面的V型槽,尺寸设置合理,在满足使用强度要求的同时散热效果好。

柱状磁芯部偏心设置,同时两侧的V型槽也相应的设置不同的尺寸,在符合使用要求的同时,结构稳定。

设置铁氧体复合涂层,提高磁芯的耐磨性和耐腐蚀性,同时增加填充超细铁氧体粉末可以增加涂层的厚度,保证耐磨性和耐腐蚀性。

本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,结构合理,绕制方便,并且结构稳定,散热效果好,提高了磁芯的耐磨性和耐腐蚀性等整体性能。

本实用新型的EFD型铁氧体磁芯,可以两个对接使用,挡板与柱状磁芯部的高度相同,对接后形成一个半封闭的圆环形的空腔。

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