技术特征：
技术总结
本发明图案化金属网栅薄膜的制作方法属于光学透明导电薄膜技术领域；该方法首先在衬底上涂覆网栅掩模液，然后自然干燥网栅掩模液，形成网栅掩模结构，再采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构上熔融图案区域，形成图案化网栅掩模结构，接着在图案化网栅掩模结构上沉积金属层，最后采用丙酮或氯仿溶解去除图案化网栅掩模结构，得到图案化金属网栅薄膜；本发明只需要在形成网栅掩模结构与沉积金属层两个步骤之间，增加采用激光烧蚀方法，在网栅掩模结构上熔融图案区域，形成图案化网栅掩模结构的步骤，即可得到图案化的金属网栅薄膜，因此该方法不仅无需附加材料，降低制作成本，而且不会污染环境，同时降低了工艺复杂性，节省了大量的人力物力。
技术研发人员：金光国
受保护的技术使用者：苏州麦田光电技术有限公司
技术研发日：2017.03.24
技术公布日：2017.07.14