技术特征：
技术总结
本发明公开了一种硅片单面刻蚀装置，包括刻蚀室，循环泵和药液管道；所述刻蚀室内设置一个用于承托硅片的旋转工作台，在旋转工作台上方设有喷淋装置；喷淋装置与药液管道连通，刻蚀室底部设有出水口，出水口与循环泵通过药液管道连通；所述旋转工作台包括旋转驱动装置、抽真空装置和托板，所述托板与旋转驱动装置的转轴连接以使托板随转轴旋转而旋转，所述托板包括托板本体，空腔和真空吸附孔，空腔位于托板本体的内部，真空吸附孔与空腔相连且真空吸附孔贯穿至托板本体上表面，空腔与抽真空装置相连通。采用本发明，实现硅片单面刻蚀，可控制硅片刻蚀速度和刻蚀深度，设备结构简单，成本低，易于实现量产。
技术研发人员：何达能;方结彬;秦崇德;陈刚
受保护的技术使用者：浙江爱旭太阳能科技有限公司;广东爱康太阳能科技有限公司
技术研发日：2017.09.11
技术公布日：2017.12.08