一种半导体零件清洗装置的制作方法

本发明涉及清洗装置，具体的说是一种半导体零件清洗装置。

背景技术：

半导体零部件经常需要清洗，结构多种多样，由于半导体价格昂贵，其清洗的费用也非常高，由于半导体的有圆形的部件，体积大，一般的清洗工具很难清洗干净，并且在清洗的过程容易出现交叉污染，费时费力，并且容易损坏，大大增加了成本，满足不了现有清洗的要求。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题是，针对以上现有技术的缺点，提出一种半导体零件清洗装置，不仅结构简单，成本低，安全可靠，使用寿命长，功能多，体积小，清洗效率高，损坏率大大降低。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是通过以下方式实现的：一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池，在清洗池上端设有清洗装置，清洗装置包括设置在清洗池上端的支撑架，沿支撑架宽度方向并排设有多个支撑座，沿支撑座长度方向并排设有滑轨、橡胶板，滑轨上设有多个滑座，在滑座一侧均设有圆弧状的半导体放置架，在半导体放置架内部设有多个从动滚轮，其中位于半导体放置架最低端处设有过孔和部分穿过过孔与橡胶板配合的主动轮，半导体放置架远离滑轨的一端设有拨杆；

在支撑座下方设有传送带，传送带上等间距设有与拨杆相配合的挡板，通过挡板与拨杆的配合，从而驱动半导体放置架沿滑轨长度方向移动；

沿支撑架长度方向且位于半导体放置架的两侧依次设有多个水管，水管竖直设置，且沿水管长度方向设有多个喷嘴。

这样，通过本发明的技术方案，将圆形的半导体放置于半导体放置架上，并且内部设有多个从动轮和一个主动轮，通过主动轮与橡胶板摩擦，驱动半导体缓慢转动，在转动的过程利用喷嘴清洗，清洗的更加干净和彻底，同时能够利用过孔将清洗液排出，通过挡板与拨杆的配合，从而驱动半导体放置架沿滑轨长度方向移动，结构简单、巧妙，调节简单，通过两侧的喷嘴彻底将半导体清洗干净，并且在清洗的过程中可以设置喷嘴的压力，清洗范围更加大，大大降低了成本，该装置安全可靠，能够不间断的循环使用，工作效率高，使用寿命长，并且清洗池能够收集清洗液，能够重复使用，进一步降低成本。

本发明进一步限定的技术方案是：

前述的半导体零件清洗装置，清洗池内部至少设有三个独立的集水槽，集水槽中分别设有出水管，设置多个集水槽，能够将清洗后的清洗液分离，分为不同清洗后阶段的水清洗液，然后在循环使用，这样能够节约用水，同时不影响清洗效果，降低成本。

前述的半导体零件清洗装置，在支撑架上设有多个将相邻两个半导体放置架隔离的隔板，设置隔板能够避免同时清洗半导体相互影响清洗质量，提高装置的稳定性和安全性。

本发明的有益效果是：将圆形的半导体放置于半导体放置架上，并且内部设有多个从动轮和一个主动轮，通过主动轮与橡胶板摩擦，驱动半导体缓慢转动，在转动的过程利用喷嘴清洗，清洗的更加干净和彻底，同时能够利用过孔将清洗液排出，通过挡板与拨杆的配合，从而驱动半导体放置架沿滑轨长度方向移动，结构简单、巧妙，调节简单，通过两侧的喷嘴彻底将半导体清洗干净，并且在清洗的过程中可以设置喷嘴的压力，清洗范围更加大，大大降低了成本，该装置安全可靠，使用寿命长，并且清洗池能够收集清洗液，能够重复使用，进一步降低成本；设置多个集水槽，能够将清洗后的清洗液分离，分为不同清洗后阶段的水清洗液，然后在循环使用，这样能够节约用水，同时不影响清洗效果，降低成本。

附图说明

图1为本发明的主视图；

图2为本发明的俯视图；

图3为本发明的左视图；

图4为本发明的结构示意图；

图5为图3中a的局部放大示意图；

图6为图2中b的局部放大示意图；

其中：1-清洗池，2-支撑架，3-支撑座，4-滑轨,5-滑座，6-半导体放置架，7-从动滚轮，8-过孔，9-橡胶板，10-主动轮，11-拨杆，12-传送带，13-挡板，14-水管，15-喷嘴，16-集水槽，17-出水管，18-隔板。

具体实施方式

下面对本发明做进一步的详细说明：

实施例1

本实施例提供的一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池1，在清洗池1上端设有清洗装置，清洗装置包括设置在清洗池1上端的支撑架2，沿支撑架2宽度方向并排设有两个支撑座3，沿支撑座3长度方向并排设有滑轨4、橡胶板9，滑轨4上设有十个滑座5，在滑座5一侧均设有圆弧状的半导体放置架6，在半导体放置架6内部设有三个从动滚轮7，其中位于半导体放置架6最低端处设有过孔8和部分穿过过孔8与橡胶板9配合的主动轮10，半导体放置架6远离滑轨4的一端设有拨杆11；

在支撑座3下方设有传送带12，传送带12上等间距设有与拨杆11相配合的挡板13，通过挡板13与拨杆11的配合，从而驱动半导体放置架6沿滑轨4长度方向移动；

沿支撑架2长度方向且位于半导体放置架6的两侧依次设有八个水管14，水管14竖直设置，且沿水管14长度方向设有七个喷嘴15；

清洗池1内部设有三个独立的集水槽16，集水槽16中分别设有出水管17，设置三个集水槽，能够将清洗后的清洗液分离，分为不同清洗后阶段的水清洗液，然后在循环使用，这样能够节约用水，同时不影响清洗效果，降低成本；

在支撑架2上设有一个将相邻两个半导体放置架6隔离的隔板18，设置隔板能够避免同时清洗半导体相互影响清洗质量，提高装置的稳定性和安全性。

这样本实施例的技术方案不仅结构简单，成本低，安全可靠，使用寿命长，功能多，体积小，清洗效率高，损坏率大大降低。

以上实施例仅为说明本发明的技术思想，不能以此限定本发明的保护范围，凡是按照本发明提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本发明保护范围之内。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池，在清洗池上端设有清洗装置，清洗装置包括设置在清洗池上端的支撑架，沿支撑架宽度方向并排设有多个支撑座，沿支撑座长度方向并排设有滑轨、橡胶板，滑轨上设有多个滑座，在滑座一侧均设有圆弧状的半导体放置架，在半导体放置架内部设有多个从动滚轮，其中位于半导体放置架最低端处设有过孔和部分穿过过孔与橡胶板配合的主动轮，半导体放置架远离滑轨的一端设有拨杆；在支撑座下方设有传送带，传送带上等间距设有与拨杆相配合的挡板，通过挡板与拨杆的配合，从而驱动半导体放置架沿滑轨长度方向移动；沿支撑架长度方向且位于半导体放置架的两侧依次设有多个水管。

技术研发人员：张跃宏
受保护的技术使用者：镇江佳鑫精工设备有限公司
技术研发日：2017.10.27
技术公布日：2018.01.26