一种显示模组及显示装置的制作方法

文档序号:14242299阅读:166来源:国知局
一种显示模组及显示装置的制作方法

本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示模组及显示装置。



背景技术:

随着显示技术的发展,客户对显示产品的要求也越来越高,其中,亮度作为最直观的呈现给用户的性能体现,常常是客户对产品需求的一项重要指标。

然而,由于工艺均匀性、显示面板本身电路线路上存在电流衰减等诸多原因的影响,通常会产生显示亮度不均的问题。



技术实现要素:

本实用新型的实施例提供一种显示模组及显示装置,可提高亮度均一性。

为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:

一方面,提供一种显示模组,包括显示面板和设置于所述显示面板出光侧的透过率调节结构;所述透过率调节结构的透过率,随所述显示面板的显示亮度区域性分布规律,呈区域性变化。

可选的,所述透过率调节结构包括透过率呈区域性变化的第一偏光片。

进一步可选的,所述第一偏光片的个数为一个,且所述第一偏光片包括一层偏光膜。

或者,可选的,所述第一偏光片的个数为一个,且所述第一偏光片包括两层层叠设置的偏光膜。

或者,可选的,所述第一偏光片的个数为两个,两个所述第一偏光片层叠设置,且每个所述第一偏光片均包括一层偏光膜。

可选的,所述透过率调节结构包括透过率一致的第二偏光片以及透过率呈区域性变化的膜层,所述透过率呈区域性变化的膜层与所述第二偏光片层叠设置。

基于上述,可选的,所述显示面板包括阵列基板和封装基板,所述阵列基板包括设置于每个像素单元中的OLED元件。

进一步可选的,所述OLED元件为顶发光型;所述透过率调节结构设置于所述封装基板面向所述阵列基板的一侧,或者设置于所述封装基板远离所述阵列基板的一侧。

可选的,所述OLED元件为底发光型;所述透过率调节结构设置于所述阵列基板远离所述封装基板的一侧。

可选的,所述显示面板包括阵列基板、对盒基板、位于二者之间的液晶层。

进一步的,在所述透过率调节结构包括偏光片的情况下,所述透过率调节结构设置于所述对盒基板远离所述阵列基板的一侧;所述显示模组还包括设置于所述阵列基板远离所述对盒基板一侧的下偏光片,所述下偏光片的透过率相同。

另一方面,提供一种显示装置,包括上述的显示模组。

本实用新型实施例提供一种显示模组及显示装置,当显示面板的亮度具有区域性分布规律时,通过在显示面板的出光侧设置透过率调节结构,并使透过率调节结构的透过率,随显示面板的显示亮度区域性分布规律,呈区域性变化,这样,通过合理设置透过率调节结构各区域的透过率,便可使从该显示模组出射的光更加均一,并且改善极低灰阶下的显示亮度不均的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的一种显示模组的示意图一;

图2为本实用新型提供的一种显示面板中阵列基板的示意图;

图3为本实用新型提供的一种在显示面板上选取9点进行亮度测试的示意图;

图4为本实用新型提供的在显示面板上贴附透过率一致的偏光片后,选取对应的9点进行亮度测试的示意图;

图5为本实用新型提供在显示面板上贴附透过率变化的偏光片后,选取对应的9点进行亮度测试的示意图;

图6为本实用新型提供的一种显示模组的示意图二;

图7为本实用新型提供的一种显示模组的示意图三;

图8为本实用新型提供的一种显示模组的示意图四;

图9为本实用新型提供的一种亮度与VSS端提供的电压的对应关系示意图;

图10为本实用新型提供的一种显示模组的示意图五。

附图标记:

10-显示面板;11-阵列基板;12-栅线;13-数据线;14-像素单元;15-OLED元件;16-驱动晶体管;17-封装基板;18-对盒基板;19-液晶层;20-透过率调节结构;30-第二偏光片;40-第一偏光片;50-下偏光片;151-阳极;152-有机材料功能层;153-阴极。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型实施例提供一种显示模组,如图1所示,包括显示面板10和设置于显示面板10出光侧的透过率调节结构20;透过率调节结构20的透过率,随显示面板10的亮度区域性分布规律,呈区域性变化。

具体的,显示面板包括阵列基板,如图2所示,阵列基板11包括栅线12、数据线13,栅线12和数据线13限定像素单元14。数据线13与源极驱动电路连接,栅线12与栅极驱动电路连接。而栅极驱动电路的本质是移位寄存器,主要作用是使栅线12逐行扫描;源极驱动电路本质是数模转换器,主要作用是用Gamma(伽马)电压将T-con(Timing Controller,时序控制器)产生的信号转换成对应灰阶电压的模拟信号输入到数据线13上,从而驱动显示面板10进行显示。

其中,栅极驱动电路可直接制作在阵列基板11上,也可集成于栅极驱动IC(Integrated Circuit,集成电路)中,而将栅极驱动IC绑定于阵列基板11上。同理,源极驱动电路可直接制作在阵列基板11上,也可集成于源极驱动IC中,而将源极驱动IC绑定于阵列基板11上。

在出厂之前,都会进行Gamma的烧录,其过程一般是假设显示面板在不同灰阶下亮度是均一的,通过亮度测试探头测试显示面板中心位置的亮度,同时调整Gamma至所需的亮度及色坐标。

然而,由于烧录过程中仅依据显示面板中心位置,无法兼顾整个显示面板的亮度分布,而且数据线13存在着电压衰减(IR Drop),在相同的输入电压下,沿数据线13的与源极驱动电路连接的一端到另一端,电压逐渐降低,电流也逐渐减小,尤其是数据线13的两端,电流存在明显差异,因而会导致显示面板10整体的亮度均一性较差,在视觉上看来,便产生源极驱动电路近端亮度偏高远端亮度偏低的显示效果。

当然,除了数据线13存在的电压衰减,其他诸多原因例如工艺均匀性等都会导致亮度均一性变差,但是只要显示面板10的亮度变化能呈现出区域性分布规律,均可通过设置透过率调节结构20对亮度均一性进行改善。

需要说明的是,第一,在制作透过率调节结构20前,根据各型号的显示面板10,在点灯测试时,可先根据其亮度的不均匀性,获得其亮度的区域性分布规律。

基于此,根据显示面板10的亮度区域性分布规律,便可对显示面板10进行区域划分,该区域的划分与显示面板10的亮度区域性分布相一致,即,在每个区域中的亮度均一性较好,不同区域中的亮度有明显差异。

在此基础上,根据显示面板10的区域划分,在制作透过率调节结构20时,可将透过率调节结构20也进行区域划分,而单独设置每个区域的透过率。透过率调节结构20的区域划分原则为:当透过率调节结构20设置于显示面板10上时,透过率调节结构20的区域与显示面板10上划分的区域一一对应且完全重叠。

其中,透过率调节结构20可直接制作于显示面板10的出光侧,也可单独制作好之后,贴附于显示面板10的出光侧。

第二,点灯测试时,显示面板10显示高灰阶画面,因而,通过设置透过率调节结构20可使高灰阶下从显示模组出射的光更加均一,但是也能改善极低灰阶(例如L0灰阶)下的亮度显示不均问题。

因而,即使某些产品在极低灰阶下的亮度显示不均更明显,也可通过设置透过率调节结构20进行改善。

第三,在制作透过率调节结构20时,根据划分的各区域可合理设置各区域的透过率,而每个区域的透过率相同。

其中,根据显示面板10的区域划分,当某个区域的亮度较低时,相应的与该区域对应的透过率调节结构20的区域的透过率可较高些,当显示面板10的某个区域的亮度较高时,相应的与该区域对应的透过率调节结构20的区域的透过率可较低些,从而经透过率调节结构20调节后,提高亮度均一性。

本实用新型实施例提供一种显示模组,当显示面板10的亮度具有区域性分布规律时,通过在显示面板10的出光侧设置透过率调节结构20,并使透过率调节结构20的透过率,随显示面板10的显示亮度区域性分布规律,呈区域性变化,这样,通过合理设置透过率调节结构20各区域的透过率,便可使从该显示模组出射的光更加均一,并且改善极低灰阶下的显示亮度不均的问题。

可选的,透过率调节结构20包括透过率呈区域性变化的第一偏光片。

由于偏光片厚度较薄,且工艺上可实现一张偏光片上不同区域具有不同的透过率,因此,优选采用偏光片作为透过率调节结构20。

可选的,所述第一偏光片的个数为一个,且该第一偏光片包括一层偏光膜。

或者,所述第一偏光片的个数为一个,且该第一偏光片包括两层层叠设置的偏光膜。

其中,偏光膜具有透过率区域性变化规律。在制备偏光膜时可根据区域性透过率的需要,控制不同区域的透过率。示例的,在通过拉伸工艺制作偏光膜时,可通过控制拉伸工艺,使不同区域具有不同的透过率。

当显示面板10中的亮度区域性划分较简单,偏光膜在工艺上能制作成对应的各区域具有相应的透过率时,可使第一偏光片仅包括一层偏光膜。当显示面板10中的亮度区域性划分较复杂,一层偏光膜在工艺上无法制作成对应的各区域具有相应的透过率时,可使第一偏光片包括两层偏光膜,通过合理对每层偏光膜进行区域划分并设置各区域的透过率,使该第一偏光片整体呈现透过率区域性变化,且各区域与显示面板10依据亮度变化划分的各区域一一对应。

需要说明的是,当第一偏光片包括两层层叠设置的偏光膜时,为避免第一偏光片整体透过率过低,可采用透过率较高的偏光膜。

可选的,所述第一偏光片的个数为两个,两个所述第一偏光片层叠设置,且每个第一偏光片均包括一层偏光膜。

即,通过分别制作两个第一偏光片,合理对每个第一偏光片进行区域划分并设置各区域的透过率,使该两个第一偏光片整体呈现透过率区域性变化,且各区域与显示面板10依据亮度变化划分的各区域一一对应。

需要说明的是,当第一偏光片的个数为两个,为避免两个第一偏光片整体透过率过低,可采用透过率较高的第一偏光片。

相对使偏光片包括两层层叠设置的偏光膜,制作包括一层偏光膜的偏光片的工艺更简单。

可选的,透过率调节结构20包括透过率一致的第二偏光片以及透过率呈区域性变化的膜层,所述透过率呈区域性变化的膜层与所述第二偏光片层叠设置。

即,该透过率调节结构20可在透过率一致的第二偏光片基础上制作,透过率一致的第二偏光片的制作工艺是一次压合一卷,基于此,可先根据需要裁剪成相应的尺寸,之后可在相应尺寸的透过率一致的第二偏光片上制作一层具有透过率呈区域性变化的膜层,从而使最终得到的偏光片在不同区域具有不同的透过率。其中,具有透过率呈区域性变化的膜层可通过油墨印刷实现。

下面以具体数据来说明本实用新型对亮度均一性的改善效果。

以一种FHD(Full High Definition,全高清)的显示面板10为例,如图3所示,通过对显示面板10上的①~⑨点进行亮度以及色坐标测试,得到如下的测试结果:

①点的亮度L=846.2nit,①点的色标为(0.3010,0.3118);

②点的亮度L=831.6nit,②点的色标为(0.2998,0.3109);

③点的亮度L=837.9nit,③点的色标为(0.2996,0.3104);

④点的亮度L=795.9nit,④点的色标为(0.3008,0.3142);

⑤点的亮度L=792.5nit,⑤点的色标为(0.2999,0.3147);

⑥点的亮度L=796.2nit,⑥点的色标为(0.2988,0.3122);

⑦点的亮度L=779.9nit,⑦点的色标为(0.3026,0.3171);

⑧点的亮度L=778.6nit,⑧点的色标为(0.3017,0.3174);

⑨点的亮度L=780.3nit,⑨点的色标为(0.2986,0.3146)。

由此可知,最大亮度Lmax=846.2nit,最小亮度Lmin=778.6nit。基于此,均一度=Lmin/Lmax=92%。

如图4所示,当在显示面板10的出光侧贴附透过率一致(透过率46.8%)的第二偏光片30时,通过对①~⑨点进行亮度以及色坐标测试,得到如下的测试结果:

①点的亮度L=396.0nit,①点的色标为(0.3010,0.3118);

②点的亮度L=389.2nit,②点的色标为(0.2998,0.3109);

③点的亮度L=391.7nit,③点的色标为(0.2996,0.3104);

④点的亮度L=372.5nit,④点的色标为(0.3008,0.3142);

⑤点的亮度L=370.9nit,⑤点的色标为(0.2999,0.3147);

⑥点的亮度L=372.6nit,⑥点的色标为(0.2988,0.3122);

⑦点的亮度L=365.0nit,⑦点的色标为(0.3026,0.3171);

⑧点的亮度L=364.4nit,⑧点的色标为(0.3017,0.3174);

⑨点的亮度L=365.2nit,⑨点的色标为(0.2986,0.3146)。

由此可知,最大亮度Lmax=396.0nit,最小亮度Lmin=364.4nit。基于此,均一度=Lmin/Lmax=92%。

以透过率调节结构20包括一个第一偏向片40,且该第一偏光片40包括一层偏光膜为例,由于根据显示面板10的上述亮度变化,可将该显示面板10划分为三个区域,即上部、中部、下部,相应的,也可将该第一偏光片40对应的划分为三个区域,上部、中部、下部的透过率分别为45%、45.9%、46.8%。基于此,如图5所示,当在显示面板10的出光侧贴附第一偏光片40时,通过对①~⑨点进行亮度以及色坐标测试,得到如下的测试结果:

①点的亮度L=380.8nit,①点的色标为(0.3010,0.3118);

②点的亮度L=374.2nit,②点的色标为(0.2998,0.3109);

③点的亮度L=376.6nit,③点的色标为(0.2996,0.3104);

④点的亮度L=365.3nit,④点的色标为(0.3008,0.3142);

⑤点的亮度L=363.8nit,⑤点的色标为(0.2999,0.3147);

⑥点的亮度L=365.4nit,⑥点的色标为(0.2988,0.3122);

⑦点的亮度L=365.0nit,⑦点的色标为(0.3026,0.3171);

⑧点的亮度L=364.4nit,⑧点的色标为(0.3017,0.3174);

⑨点的亮度L=365.2nit,⑨点的色标为(0.2986,0.3146)。

由此可知,最大亮度Lmax=380.8nit,最小亮度Lmin=363.8nit。基于此,均一度=Lmin/Lmax=96%。

当然,当透过率调节结构20包括一个第一偏光片40,且第一偏光片40包括两层层叠的偏光膜,或者透过率调节结构20包括两个第一偏光片40,且每个第一偏光片40均包括一层偏光膜也可达到均一度提高的效果。此外,当透过率调节结构20包括透过率一致的第二偏光片30以及透过率呈区域性变化的膜层时,同样可达到均一度提高的效果。

基于上述对三种情况的描述可知,在设置透过率调节结构20时,亮度均一性得到改善。

可选的,如图6-8所示,显示面板10包括阵列基板11和封装基板17,阵列基板11包括设置于每个像素单元14中的OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机电致发光二极管)元件15。

即,所述显示面板10为OLED显示面板。对于有源驱动型OLED显示面板,阵列基板11的像素单元14还包括驱动电路,驱动电路包括驱动晶体管16。

其中,OLED元件15包括阳极151、有机材料功能层152和阴极153。

根据阳极151和阴极153的材料的不同,显示面板10可以分为单面发光型和双面发光型。即:当阳极151和阴极153中其中一个电极不透光时,该显示面板10为单面发光型;当阳极151和阴极153均透光时,该显示面板10为双面发光型。

对于单面发光型显示面板10,根据阳极151和阴极153的材料的不同,又可以分为顶发光型和底发光型。具体的,当阳极151靠近阵列基板11的衬底设置,阴极153远离衬底设置,且阳极151透光,阴极153不透光时,可以称为底发光型;当阳极151不透光,阴极153透光时,可以称为顶发光型。当然,也可以将上述两种阳极151和阴极153的相对位置进行替换,在此再赘述。

对于顶发光型,如图6所示,透过率调节结构20可设置于封装基板17面向阵列基板11的一侧。或者,如图7所示,透过率调节结构20设置于封装基板17远离阵列基板11的一侧。

对于底发光型,如图8所示,透过率调节结构20设置于阵列基板11远离封装基板17的一侧。

当然,对于双面发光型,可结合上述顶发光型和底发光型情况下透过率调节结构20的设置位置进行设置,具体在此不再赘述。

通过将显示面板10设置为OLED显示面板,可使本实用新型的显示模组具有更加轻薄、对比度高,可视角度大、发光效率高、省电、可适用温度范围广、响应时间短、可制备在柔性衬底上等优点。

需要说明的是,对于OLED显示面板,由于存在阈值电压,部分产品会由于阈值电压均一性的原因,也会导致亮度存在差异。此外,发光层的发光效率存在差异以及驱动电路线路损耗等原因,也会导致亮度存在差异。

但是如上描述,不管是什么原因导致亮度变化,只要显示面板10的亮度变化能呈现出区域性分布规律,均可通过设置透过率调节结构20对亮度均一性进行改善。

此外,对于OLED显示面板,其像素单元14中包括驱动电路,而驱动电路会与VSS端(低电压端)连接,而VSS端的电压越负,OLED显示面板的亮度均一性越高(如图9所示),但是当朝负的方向调试VSS端的电压时,会导致功耗的增加。而本实用新型中由于通过设置透过率调节结构20对亮度均一性进行改善,因而,在调试VSS端的电压时,无需为了亮度均一性而将VSS调试的很小,使得信号调试留下更大的可操作余量。

可选的,如图10所示,显示面板10包括阵列基板11、对盒基板18、位于二者之间的液晶层19。

即,所述显示面板10为液晶显示面板。

进一步的,在透过率调节结构20包括第一偏光片40或第二偏光片30的情况下,如图10所示,所述透过率调节结构20设置于对盒基板18远离阵列基板11的一侧。基于此,所述显示模组还包括设置于阵列基板11远离对盒基板18一侧的下偏光片50,该下偏光片50的透过率相同。

需要说明的是,对于液晶显示装置,由于背光源均匀性也会导致显示面板的亮度存在差异,但是如上描述,不管是什么原因导致亮度变化,只要显示面板10的亮度变化能呈现出区域性分布规律,均可通过设置透过率调节结构20对亮度均一性进行改善。

本实用新型实施例还提供一种显示装置,包括上述的显示模组。

其中,所述显示装置可以为矩形形状,也可以为其他规则形状,例如圆形、椭圆形等。

具体的,所述显示装置可以为电视、显示器、笔记本电脑、平板电脑,智能手机、手表、手环、电子相册等。

本实用新型实施例还提供一种显示模组的制备方法,参考图1所示,包括:制备显示面板10;在显示面板10的出光侧形成透过率调节结构20;该透过率调节结构20的透过率,随显示面板10的显示亮度区域性分布规律,呈区域性变化。

其中,上述对显示面板10和透过率调节结构20的相关描述也适用该制备方法中涉及的显示面板10和透过率调节结构20,在此不再赘述。

本实用新型实施例提供一种显示模组的制备方法,当显示面板10的亮度具有区域性分布规律时,通过在显示面板10的出光侧形成透过率调节结构20,并使透过率调节结构20的透过率,随显示面板10的显示亮度区域性分布规律,呈区域性变化,这样,通过合理设置透过率调节结构20各区域的透过率,便可使从该显示模组出射的光更加均一,并且改善极低灰阶下的显示亮度不均的问题。

可选的,在显示面板10的出光侧形成透过率调节结构20,包括:制备透过率呈区域性变化的第一偏光片,将第一偏光片贴附于显示面板10的出光侧。

在此情况下,制备透过率呈区域性变化的第一偏光片,包括制备一个第一偏光片,且第一偏光片包括一层偏光膜;或者,制备一个第一偏光片,且第一偏光片包括两层层叠的偏光膜;或者,制备两个第一偏光片,两个第一偏光片层叠设置,且每个第一偏光片均包括一层偏光膜。

其中,在制备偏光膜时可根据区域性透过率的需要,控制不同区域的透过率。示例的,在通过拉伸工艺制作偏光膜时,可通过控制拉伸工艺,使不同区域具有不同的透过率。

当显示面板10中的亮度区域性划分较简单,偏光膜在工艺上能制作成对应的各区域具有相应的透过率时,可使第一偏光片仅包括一层偏光膜。当显示面板10中的亮度区域性划分较复杂,一层偏光膜在工艺上无法制作成对应的各区域具有相应的透过率时,可使第一偏光片包括两层偏光膜,或者制作两个第一偏光片,每个第一偏光片包括一层偏光膜,通过合理对每层偏光膜进行区域划分并设置各区域的透过率,使该第一偏光片整体呈现透过率区域性变化,且各区域与显示面板10依据亮度变化划分的各区域一一对应。

可选的,在显示面板10的出光侧形成透过率调节结构20,包括:制备透过率一致的第二偏光片以及与第二偏光片接触且位于其一侧的透过率呈区域性变化的膜层,将所述第二偏光片和所述透过率呈区域性变化的膜层贴附于显示面板10的出光层。

即,该透过率调节结构20可在透过率一致的第二偏光片基础上制作,透过率一致的第二偏光片的制作工艺是一次压合一卷,基于此,可先根据需要裁剪成相应的尺寸,之后可在相应尺寸的透过率一致的第二偏光片上制作一层具有透过率呈区域性变化的膜层,从而使最终得到的偏光片在不同区域具有不同的透过率。其中,具有透过率呈区域性变化的膜层可通过油墨印刷实现。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

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