1.一种晶圆湿处理设备，其结构包括防护罩结构(1)、控制主机(2)、底脚(3)、控制面板(4)、固定结构(5)、电机(6)，所述防护罩结构(1)固定于控制主机(2)上方，所述控制主机(2)上设有控制面板(4)，所述控制主机(2)下方设有底脚(3)，所述控制主机(2)内部设有电机(6)，所述固定结构(5)与电机(6)机械连接，其特征在于：
所述固定结构(5)包括夹紧爪结构(51)、放置基座结构(52)、旋转轴杆(53)，所述夹紧爪结构(51)安装于放置基座结构(52)上且机械连接，所述放置基座结构(52)下方固定设有旋转轴杆(53)。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述夹紧爪结构(51)包括夹紧器(c1)、上顶板(c2)、防护板(c3)、嵌入支板(c4)，所述夹紧器(c1)贯穿安装于上顶板(c2)上，所述上顶板(c2)与防护板(c3)为一体化结构。
3.根据权利要求2所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述嵌入支板(c4)前后两侧设有摩擦板。
4.根据权利要求2所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述夹紧器(c1)包括上拉板(c11)、拉杆(c12)、缓冲弹簧(c13)、压板(c14)，所述上拉板(c11)与拉杆(c12)为一体浇筑成型，所述拉杆(c12)贯穿于缓冲弹簧(c13)中，所述拉杆(c12)下端焊接于压板(c14)上。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述放置基座结构(52)包括嵌入孔(t1)、缓冲球(t2)、放置板架(t3)、连接孔(t4)、中基板(t5)，所述嵌入孔(t1)与放置板架(t3)为一体化结构，所述缓冲球(t2)粘合于放置板架(t3)上，所述放置板架(t3)与连接孔(t4)为一体化结构，所述放置板架(t3)共设有四根，且均匀分布于中基板(t5)四周。
6.根据权利要求1所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述防护罩结构(1)包括机壳(11)、通孔(12)、导液结构(13)、小支块(14)、导流架(15)、上封盖(16)，所述上封盖(16)放置于机壳(11)上，所述通孔(12)与导流架(15)为一体化结构，所述机壳(11)下端与导液结构(13)上端相焊接。
7.根据权利要求6所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述导流架(15)由导流坡与内导流座组成，且内导流座设于导流坡内侧。
8.根据权利要求6所述的一种晶圆湿处理设备，其特征在于：所述导液结构(13)包括出水孔(s1)、导水槽(s2)、连接管(s3)，所述出水孔(s1)焊接于导水槽(s2)左侧且相互连通，所述连接管(s3)共设有四根，且均匀焊接于导水槽(s2)上方。