一种功率器件的qfn封装结构的制作方法

文档序号:8458314阅读:389来源:国知局
一种功率器件的qfn封装结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种QFN封装结构,尤其涉及一种功率器件的QFN封装结构。
技术背景
[0002]随着电子电路设计趋于高度集成,对器件的封装体积要求也随之提高,传统的纽扣式封装、SMA/SMB/SMC等贴片式封装双面半导体器件逐渐无法满足高端电路设计PCB版的布图需要,更扁平、更小型的封装形式需求急迫,四周无引脚扁平式封装(QFN)为目前最为合适的芯片级封装形式,但该封装技术目前主要应用于集成电路封装,但固体放电管这样的功率器件无法适用,由于双面半导体器件在导电胶溢料时很容易与芯片形成短路。有些厂家针对这一问题做出了探讨,将半导体芯片做了边角损伤处理,通过溢流槽来处理溢出导电胶,但还存在着加工复杂,尤其是对半导体芯片形成了一定的伤害,而且成品率不高,导电胶可能逃逸出溢流槽外溢而引起的短路故障难以完全杜绝的不足之处。

【发明内容】

[0003]本发明克服了现有技术中的缺点,提供了一种功率器件的QFN封装结构。
[0004]为了解决上述技术问题,本发明是通过以下技术方案实现的:一种功率器件的QFN封装结构,包括双面半导体芯片、框架、第一引脚和第二引脚,所述第一引脚、第二引脚分别通过导线与双面半导体芯片电连接,所述双面半导体芯片和框架通过导电胶粘合,所述双面半导体芯片边缘对应的框架位置表面上向内按序设有绝缘胶槽和直角梯形溢胶槽,所述绝缘胶槽内涂满绝缘胶,所述直角梯形溢胶槽用于收集双面半导体芯片和框架压溢出的导电胶和绝缘胶。
[0005]作为优选,所述绝缘胶槽外围边距离双面半导体芯片边缘70?120 μ m,所述绝缘胶槽槽宽30?50 μ m,槽深20?30 μ m,所述绝缘胶槽内围边和直角梯形溢胶槽外围边之间的距离80?100 μ m,所述直角梯形溢胶槽的上边长170?220 μ m,下边长250?300 μ m,槽高为50?60 μ m。
[0006]作为优选,所述导电胶型号为京瓷2815A,所述绝缘胶型号为美国HumiSeal1A34。
[0007]与现有技术相比,本发明的优点是:对双面半导体芯片无任何损伤;提供了绝缘隔离,确保导电胶无法与芯片短路;提高了产品成品率;使得加工生产更为简单方便。
【附图说明】
[0008]图1是本发明实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图与【具体实施方式】对本发明作进一步详细描述。
[0010]如图1所示,一种功率器件的QFN封装结构,包括双面半导体芯片1、框架2、第一引脚5和第二引脚6,所述第一引脚5、第二引脚6分别通过导线与双面半导体芯片I电连接,所述双面半导体芯片I和框架2通过导电胶粘合,所述双面半导体芯片I边缘对应的框架2位置表面上向内按序设有绝缘胶槽4和直角梯形溢胶槽3,所述绝缘胶槽4内涂满绝缘胶,所述直角梯形溢胶槽3用于收集双面半导体芯片I和框架2压溢出的导电胶和绝缘胶。所述绝缘胶槽4外围边距离双面半导体芯片I边缘90 μπι,所述绝缘胶槽4槽宽40 μπι,槽深25 μ m,所述绝缘胶槽4内围边和直角梯形溢胶槽3外围边之间的距离90 μ m,所述直角梯形溢胶槽3的上边长180 μ m,下边长260 μ m,槽高为55 μ m。所述导电胶型号为京瓷2815A,所述绝缘胶型号为美国HumiSeal 1A34。
[0011]本发明使用时,由于绝缘胶槽4内涂满HumiSeal 1A34绝缘胶,在双面半导体芯片I下最外围形成了一道绝缘保护墙,而多余的HumiSeal 1A34绝缘胶和京瓷2815A导电胶可以汇集到直角梯形溢胶槽3内,保障多余的京瓷2815A导电胶不会逃逸出绝缘胶槽4的绝缘保护墙外,确保导电胶无法与双面半导体芯片I短路。采用这种方式,双面半导体芯片I无需进行额外加工处理,更有利于双面半导体芯片I的结构安全,而且加工生产更为简单方便,提高了产品成品率。
[0012]除了上述的实施例外,其他未述的实施方式也应在本发明的保护范围之内。本文所述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明,本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本发明的精神或超越所附权利要求书所定义的范围。本文虽然透过特定的术语进行说明,但不排除使用其他术语的可能性,使用这些术语仅仅是为了方便地描述和解释本发明的本质,把它们解释成任何一种附加的限制都是与本发明精神相违背的。
【主权项】
1.一种功率器件的QFN封装结构,包括双面半导体芯片、框架、第一引脚和第二引脚,所述第一引脚、第二引脚分别通过导线与双面半导体芯片电连接,所述双面半导体芯片和框架通过导电胶粘合,其特征在于,所述双面半导体芯片边缘对应的框架位置表面上向内按序设有绝缘胶槽和直角梯形溢胶槽,所述绝缘胶槽内涂满绝缘胶,所述直角梯形溢胶槽用于收集双面半导体芯片和框架压溢出的导电胶和绝缘胶。
2.根据权利要求1所述的一种功率器件的QFN封装结构,其特征在于,所述绝缘胶槽外围边距离双面半导体芯片边缘70?120 μ m,所述绝缘胶槽槽宽30?50 μ m,槽深20?30 μ m,所述绝缘胶槽内围边和直角梯形溢胶槽外围边之间的距离80?100 μ m,所述直角梯形溢胶槽的上边长170?220 μ m,下边长250?300 μ m,槽高为50?60 μ m。
3.根据权利要求2所述的一种功率器件的QFN封装结构,其特征在于,所述导电胶型号为京瓷2815A,所述绝缘胶型号为美国HumiSeal 1A34。
【专利摘要】本发明公开了一种功率器件的QFN封装结构,包括双面半导体芯片、框架、第一引脚和第二引脚,所述第一引脚、第二引脚分别通过导线与双面半导体芯片电连接,所述双面半导体芯片和框架通过导电胶粘合,所述双面半导体芯片边缘对应位置的框架内侧依次设有绝缘胶槽和直角梯形溢胶槽,所述绝缘胶槽内涂满绝缘胶,所述直角梯形溢胶槽用于收集双面半导体芯片和框架压溢出的导电胶和绝缘胶,本发明的技术方案对双面半导体芯片无任何损伤,提供了绝缘隔离,确保导电胶无法与芯片短路,提高了产品成品率,使得加工生产更为简单方便。
【IPC分类】H01L23-495, H01L23-31
【公开号】CN104779224
【申请号】CN201510177211
【发明人】卢涛, 张小平
【申请人】江苏晟芯微电子有限公司
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2015年4月15日
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