[l，2-a]R比啶（Azaindolizine)衍生物、《?恶二挫衍生物、 茈衍生物、吡啶衍生物、嘧啶衍生物、喹喔啉衍生物、二苯基醌衍生物、硝基取代芴衍生物 等，可以使用其中的1种或者组合2种以上使用。
[0169]
[0170] 电子输送层7的平均厚度没有特别限定，优选为0. 5~100nm左右，更优选为1~ 50nm左右。
[0171] 应予说明，该电子输送层7根据电子注入层8和绿色发光层64所含的构成材料的 组合等而可以省略。
[0172](电子注入层）
[0173] 电子注入层8具有提高从阴极9的电子注入效率的功能。
[0174] 作为该电子注入层8的构成材料（电子注入材料），例如可举出各种无机绝缘材 料、各种无机半导体材料。
[0175] 作为这样的无机绝缘材料，例如可举出碱金属硫属化合物（氧化物、硫化物、硒化 物、碲化物）、碱土金属硫属化合物、碱金属的卤化物和碱土金属的卤化物等，可以使用其中 的1种或者组合2种以上使用。通过将它们作为主材料而构成电子注入层，能够进一步提 高电子注入性。尤其是碱金属化合物（碱金属硫属化合物、碱金属的卤化物等）的功函数 非常小，通过使用它构成电子注入层8,从而发光元件1可得到高亮度。
[0176] 作为碱金属硫属化合物，例如可举出1^20、1^0、似25、他25 6、似0等。
[0177] 作为碱土金属硫属化合物，例如可举出Ca0、Ba0、Sr0、Be0、BaS、Mg0、CaSe等。
[0178] 作为碱金属的卤化物，例如可举出CsF、LiF、NaF、KF、LiCl、KCl、NaCl等。
[0179] 作为碱土金属的卤化物，例如可举出CaF2、BaF2、SrF2、MgF2、BeF2等。
[0180] 另外、作为无机半导体材料，例如可举出含有Li、Na、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Cd、 Mg、Si、Ta、Sb和Zn中的至少一个元素的氧化物、氮化物或者氮氧化物等，可以使用其中的 1种或者组合2种以上使用。
[0181] 电子注入层8的平均厚度没有特别限定，优选为0. 1~lOOOnm左右，更优选为 0. 2~lOOnm左右，进一步优选为0. 2~50nm左右。
[0182] 应予说明，该电子注入层8可以根据阴极9和电子输送层7所含的构成材料的组 合等而省略。
[0183](密封部件）
[0184] 密封部件10以覆盖阳极3、层叠体15和阴极9的方式设置，气密地密封它们，具有 阻挡氧、水分的功能。通过设置密封部件10,可得到提高发光元件1的可靠性、防止变质?劣 化（提尚耐久性）等效果。
[0185] 作为密封部件10的构成材料，例如可举出Al、Au、Cr、Nb、Ta、Ti或者含有它们的 合金，氧化硅、各种树脂材料等。应予说明，使用具有导电性的材料作为密封部件10的构成 材料时，为了防止短路，优选在密封部件10与阳极3、层叠体15和阴极9之间，根据需要而 设置绝缘膜。
[0186] 另外，密封部件10可以以平板状与基板2对置，用例如热固性树脂等密封材对它 们之间进行密封。
[0187] 如上所述的发光元件1例如可以如下制造。
[0188] [1]首先，准备基板2,在该基板2上形成阳极3。
[0189] 阳极3可以使用例如等离子体CVD、热CVD这样的化学蒸镀法（CVD)、真空蒸镀等 干式镀覆法、电镀等湿式镀覆法、熔射法、溶胶?凝胶法、MOD法、金属箔的接合等来形成。
[0190] [2]接下来，在阳极3上形成空穴注入层4。
[0191] 空穴注入层4可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相工 艺来形成。
[0192] 另外，空穴注入层4通过例如在阳极3上供给将空穴注入材料溶解于溶剂或者分 散于分散介质而成的空穴注入层形成用材料后，进行干燥（脱溶剂或者脱分散介质）也能 够形成。
[0193] 作为空穴注入层形成用材料的供给方法，例如，还可以使用旋涂法、辊涂法、喷墨 印刷法等各种涂布法。通过使用该涂布法，能够较容易地形成空穴注入层4。
[0194] 作为空穴注入层形成用材料的制备中使用的溶剂或者分散介质，例如可举出各种 无机溶剂、各种有机溶剂或者含有它们的混合溶剂等。
[0195] 应予说明，干燥可以通过例如在大气压或减压气氛中的放置、加热处理、非活性气 体的喷吹等来进行。
[0196] 另外，在实施本工序之前，可以对阳极3的上表面实施氧等离子体处理。由此，能 够对阳极3的上表面赋予亲液性、除去（清洗）附着于阳极3的上表面的有机物、调节阳极 3的上表面附近的功函数等。
[0197] 在此，作为氧等离子体处理的条件，例如，优选设为等离子体功率100~800W左 右、氧气流量50~100mL/min左右、被处理部件（阳极3)的搬运速度0. 5~lOmm/sec左 右、基板2的温度70~90°C左右。
[0198] [3]接下来，在空穴注入层4上形成空穴输送层5。
[0199] 空穴输送层5可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相工 艺来形成。
[0200] 另外，通过在空穴注入层4上供给将空穴输送材料溶解于溶剂或者分散于分散介 质而成的空穴输送层形成用材料后，进行干燥（脱溶剂或者脱分散介质）也能够形成。
[0201] [4]接下来，在空穴输送层5上形成红色发光层61。
[0202] 红色发光层61可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相 工艺来形成。
[0203] [5]接下来，在红色发光层61上形成中间层62。
[0204] 中间层62可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相工艺 来形成。
[0205] [6]接下来，在中间层62上形成蓝色发光层63。
[0206] 蓝色发光层63可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相 工艺来形成。
[0207] [7]接下来，在蓝色发光层63上形成绿色发光层64。
[0208] 绿色发光层64可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相 工艺来形成。
[0209] [8]接下来，在绿色发光层64上形成电子输送层7。
[0210] 电子输送层7可以利用例如采用CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相工 艺来形成。
[0211] 另外，电子输送层7通过例如在绿色发光层64上供给将电子输送材料溶解于溶 剂或者分散于分散介质而成的电子输送层形成用材料后，进行干燥（脱溶剂或者脱分散介 质）也能够形成。
[0212] [9]接下来，在电子输送层7上形成电子注入层8。
[0213] 使用无机材料作为电子注入层8的构成材料时，电子注入层8可以利用例如采用 CVD法、真空蒸镀、溅射等干式镀覆法等的气相工艺，并使用无机微粒油墨的涂布和煅烧等 来形成。
[0214] [10]接下来，在电子注入层8上形成阴极9。
[0215]阴极9可以使用例如真空蒸镀法、溅射法、金属箔的接合、金属微粒油墨的涂布和 煅烧等来形成。
[0216] 经过如上的工序，得到发光元件1。
[0217] 最后，以覆盖所得到的发光元件1的方式盖上密封部件10,与基板2接合。
[0218] 如上所述的发光元件1例如可以在发光装置（本发明的发光装置）中使用。
[0219] 这样的发光装置由于具备如上所述的发光元件1，所以能够在较低电压下驱动。
[0220] 另外，这样的发光装置例如能够作为照明等中使用的光源等来使用。
[0221] 另外，通过将发光装置中的多个发光元件1配置成矩阵状，能够构成显示器装置 中使用的发光装置。
[0222] 接下来，对使用了本发明的显示装置的显示器装置的一个例子进行说明。
[0223] 图2是表示使用了本发明的显示装置的显示器装置的实施方式的纵截面图。
[0224] 图2所示的显示器装置100具有发光装置101和滤色器19R、19G、19B，该发光装置 101具备与子像素100R、100G、100B对应设置的多个发光元件1R、1G、1B。在此，显示器装置 100是顶部发射结构的显示器面板。应予说明，作为显示器装置的驱动方式，没有特别限定， 可以是有源矩阵方式、无源矩阵方式中的任一种。
[0225] 发光装置101具有基板21、发光元件1R、1G、1B以及驱动用晶体管24。
[0226] 在基板21上设置多个驱动用晶体管24,以覆盖这些驱动用晶体管24的方式形成 由绝缘材料构成的平坦化层22。
[0227] 各驱动用晶体管24具有由硅构成的半导体层241、形成于半导体层241上的栅绝 缘层242、形成于栅绝缘层242上的栅电极243、源电极244和漏电极245。
[0228]在平坦化层22上与各驱动用晶体管24对应而设置了发光元件1R、1G、1B。
[0229] 发光元件1R是在平坦化层22上依次层叠反射膜32、防腐蚀膜33、阳极3、层叠体 15、阴极9、阴极盖34。在本实施方式中，各发光元件1R、1G、1B的阳极3构成像素电极，利 用导电部（配线）27与各驱动用晶体管24的漏电极245电连接。另外，各发光元件1R、1G、 1B的阴极9被作为共用电极。
[0230] 应予说明，发光元件1G、1B的构成与发光元件1R的构成相同。另外，在图2中，对 于与图1相同的构成，标记相同的符号。另外，反射膜32的构成（特性）根据光的波长，在 发光元件1R、1G、1B间可以不同。
[0231] 在邻接的发光元件1R、1G、1B彼此之间设置隔壁31。
[0232] 另外，在这样构成的发光装置101上以覆盖它的方式形成由环氧树脂构成的环氧 树脂层35。
[0233] 滤色器19R、19G、19B与发光元件1R、1G、1B对应地设置在前面叙述的环氧树脂层 35上。
[0234] 滤色器19R将来自发光元件1R的白色光W转换成红色。另外，滤色器19G将来自 发光元件1G的白色光W转换成绿色。另外，滤色器19B将来自发光元件1B的白色光W转 换成蓝色。通过将这样的滤色器19R、19G、19B与发光元件1R、1G、1B组合使用，能够显示全 彩色图像。
[0235] 另外，在邻接的滤色器19R、19G、19B彼此之间形成了遮光层36。由此，能够防止不 希望的子像素100R、100G、100B发光。
[0236] 然后，在滤色器19R、19G、19B和遮光层36上以覆盖它们的方式设置密封基板20。
[0237] 如上说明的显示器装置100可以是单色显示，也可以通过选择各发光元件1R、1G、 1B中使用的发光材料而进行彩色显示。
[0238] 这样的显示器装置100(本发明的显示装置）由于使用如上所述的发光装置，所以 能够在较低电压下能够驱动。因此，能够以少的耗电而显示高品质的图像。
[0239] 图3是表示使用了本发明的电子设备的移动型（或者笔记本型）的电脑的构成的 立体图。
[0240] 该图中，电脑1100由具备键盘1102的主体部1104和具备显示部的显示单元1106 构成，显不单兀1106介由较接结构部可转动地被支撑于主体部1104。
[0241] 该电脑1100中，显示单元1106具备的显示部由前面叙述的显示器装置100构成。
[0242] 图4是表示使用了本发明的电子设备的移动电话（也包括PHS)的构成的立体图。
[0243] 该图中，手机1200具备多个操作按钮1202、听筒1204和话筒1206,并且具备显示 部。
[0244] 手机1200中，该显示部由前面叙述的显示器装置100构成。
[0245] 图5是表示使用了本发明的电子设备的数码相机的构成的立体图。应予说明，该 图中，还简单地示出了与外部设备的连接。
[0246] 在此，通常的照相机是利用被摄体的光学图像对银盐照相胶片感光，与此相对，数 码相机1300是利用CCD(ChargeCoupledDevice)等摄像元件对被摄体的光学图像进行光 电变换而生成摄像信号（图像信号）。
[0247] 在数码相机1300中的机壳（机身）1302的背面设有显示部，是根据利用C⑶生成 的摄像信号进行显示的构成，作为使被摄