带透明导电膜的基板的制作方法

本发明涉及一种带透明导电膜的基板。

背景技术：

已知在等离子显示器或电致发光元件等中，在玻璃基板等基板上形成用作电极的透明导电膜，利用激光对透明导电膜进行图案化(专利文献1和专利文献2)。

在通过图案化除去了透明导电膜的部分，为了钝化等，通常设置有绝缘膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007－207554号公报

专利文献2：日本特开2006－267834号公报

技术实现要素：

发明所要解决的课题

上述的绝缘膜要求不会容易地从基板剥离。

本发明的目的在于提供一种设置于除去了透明导电膜的部分的绝缘膜难以剥离的带透明导电膜的基板。

用于解决课题的方法

本发明提供一种带透明导电膜的基板，其特征在于，具备基板和设置于基板上且进行了图案化的透明导电膜，在基板上形成有通过图案化除去了透明导电膜的除去区域、未除去透明导电膜的非除去区域和设置于除去区域与非除去区域之间的边界区域，在边界区域形成有透明导电膜被形成为岛状的岛状部分。

优选俯视时的岛状部分的面积在边界区域的面积的25％～75％的范围内。

优选基板为透明基板。

优选基板为玻璃基板。

作为图案化，可以列举利用激光进行的图案化。该情况下，优选激光为飞秒激光。

发明的效果

根据本发明，能够抑制设置于除去了透明导电膜的部分的绝缘膜的剥离。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式的带透明导电膜的基板的示意性剖面图。

图2是表示在图1所示的实施方式的带透明导电膜的基板上设有绝缘膜的状态的示意性剖面图。

图3是表示本发明的一个实施方式的带透明导电膜的基板的边界区域的扫描型电子显微镜照片。

图4是示意性表示图3所示的边界区域的俯视图。

图5是在图4所示的边界区域的岛状部分附加了剖面线的示意性的俯视图。

具体实施方式

以下，对于优选的实施方式进行说明。但是，以下的实施方式仅是例示，本发明不限定于以下的实施方式。另外，在各附图中，对于实质上具有同一功能的部件有时利用同一符号进行参照。

图1是表示本发明一个实施方式的带透明导电膜的基板的示意性剖面图。如图1所示，本实施方式的带透明导电膜的基板10具备基板1和设置于基板1的主面1a上的透明导电膜2。透明导电膜2进行了图案化。通过使透明导电膜2图案化，在基板1的主面1a上形成有通过图案化除去了透明导电膜2的除去区域a1、未除去透明导电膜2的非除去区域a2。

另外，在基板1的主面1a上形成有设置于除去区域a1与非除去区域a2之间的边界区域a3。如图1所示，在边界区域a3，透明导电膜2的厚度随着接近于除去区域a1而逐渐变薄。

作为透明导电膜2，例如，能够使用具有氧化铟锡(ito)、氧化铝锌(azo)、氧化锡铟(izo)、掺杂有氟的锡氧化物(fto)等导电性的复合氧化物薄膜。特别优选使用氧化铟锡。在本实施方式中，由氧化铟锡形成透明导电膜2。透明导电膜2的厚度优选为20nm～200nm的范围，进一步优选为50nm～150nm的范围。

基板1优选为玻璃基板等透明基板。作为玻璃基板，能够使用钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、无碱玻璃等。在本实施方式中，使用由钠钙玻璃构成的玻璃基板。

透明导电膜2的图案化优选利用激光进行的图案化。通过用激光对透明导电膜2进行图案化，除去透明导电膜2的一部分，形成除去区域a1。作为激光，使用透明导电膜2对其波长的吸收率大的激光。例如，为ito膜时，在1000nm以上的波长中吸收率增大。因此，通过使用1000nm以上的波长的激光进行图案化，能够用激光照射来除去ito膜，形成除去区域a1。通过该图案化，形成除去区域a1，并且在其周边形成边界区域a3。

激光的波长没有特别限定，只要透明导电膜2在该波长具有大的吸收率即可。激光的波长例如优选为1000nm以上，更优选为1300nm以上，进一步优选为1500nm以上。激光的波长的上限值没有特别限定，激光的波长一般为2000nm以下。

优选激光为10皮秒以下的脉冲激光，更优选为1皮秒以下的超短脉冲激光，特别优选为飞秒激光。通过使用这种脉冲宽度小的激光，产生多光子吸收现象，能够不使热向周边部分扩散而进行图案化。

优选激光的点径在除去区域a1的y方向的宽度的0.2倍～5倍的范围内，进一步优选在0.5倍～2倍的范围内。除去区域a1的y方向的宽度尺寸一般优选为3μm～50μm的范围，进一步优选为5μm～20μm的范围。除去区域a1较宽时，也可以反复多次操作激光，或使用多个激光，使激光的点稍微重复，进行图案化。另外，边界区域a3的y方向的宽度尺寸一般优选为0.3μm～10μm的范围，进一步优选为0.5μm～5μm的范围。

此外，激光一般在透明导电膜2的厚度方向(z方向)从透明导电膜2侧照射。

图1所示的实施方式的带透明导电膜的基板10，例如能够用作有机电致发光元件的电极基板。该情况下，在带透明导电膜的基板10上设置有机电致发光层。另外，该情况下，为了提高来自有机电致发光层的光的输出效率，也可以在基板1和透明导电膜2之间设置折射率比基板1高的基底玻璃层。

图2是表示在图1所示的实施方式的带透明导电膜的基板上设有绝缘膜的状态的示意性剖面图。如图2所示，以覆盖在带透明导电膜的基板10的除去区域a1的基板1的主面1a及边界区域a3上的方式设置有绝缘膜3。绝缘膜3主要以钝化等为目的而设置。

绝缘膜3能够由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化铝等无机材料或环氧树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂等有机材料形成。

图3是表示本发明的一个实施方式的带透明导电膜的基板的边界区域的扫描型电子显微镜照片。图4和图5是示意性表示图3的边界区域的俯视图。此外，图5是在图4所示的边界区域的岛状部分附加了剖面线的示意性俯视图。图3、图4和图5表示俯视时、即从z方向观察时的边界区域a3及其附近的除去区域a1和非除去区域a2。另外，图3、图4和图5表示设置绝缘膜3之前的图1所示的状态。

如图3、图4和图5所示，在本发明中，在边界区域a3形成有由以从非除去区域a2连续地向y方向延伸的方式形成的透明导电膜2构成的半岛状部分2a和由实质上从非除去区域a2分离形成的透明导电膜2构成的岛状部分2b。此外，由透明导电膜2构成的岛状部分2b能够通过使用具有与透明导电膜2的材质等对应的波长或脉冲宽度的激光在规定的条件下进行图案化，在边界区域a3形成。这样，在边界区域a3，通过形成由透明导电膜2构成的岛状部分2b，能够抑制在其上设置的绝缘膜3的剥离。可以认为能够抑制绝缘膜3的剥离的理由如下。

即，若在岛状部分2b上设有绝缘膜3，则会以与岛状部分2b的周围的侧壁部相接的方式形成绝缘膜3。因此，以侵入相邻的岛状部分2b之间的方式形成有绝缘膜3。另外，相对于绝缘膜3，岛状部分2b以侵入的状态存在。因此，可以认为能够发挥牢固的锚定效应，能够抑制绝缘膜3的剥离。此外，为了有效地抑制绝缘膜3的剥离，俯视时的岛状部分2b的面积(带剖面线的部分的面积)优选在边界区域a3的面积的25％～75％的范围内。岛状部分2b的面积小于上述范围时，侵入绝缘膜3的岛状部分2b减少，有时得不到抑制绝缘膜3的剥离的效果。另外，即使岛状部分2b的面积即使大于上述范围，侵入岛状部分2b的绝缘膜3的部分也减少，有时得不到抑制绝缘膜3的剥离的效果。岛状部分2b的面积更优选在边界区域a3的面积的40％～60％的范围内。另外，以当量圆直径计，一个岛状部分2b的大小优选为0.1μm～0.6μm的范围，进一步优选为0.1μm～0.3μm的范围。

另外，非除去区域a2和边界区域a3的边界的位置如图4及图5所示，为透明导电膜2被除去且主面1a开始露出的位置，边界区域a3和除去区域a1的边界的位置为岛状部分2b变得实质上不存在的位置。

此外，岛状部分2b的面积比率优选在边界区域a3的面积为0.7μm²～25μm²的范围内的视野中求出。

另外，作为用于使岛状部分2b的面积为本发明的范围内的图案化条件，优选使用飞秒激光。

符号说明

1…基板

1a…主面

2…透明导电膜

2a…半岛状部分

2b…岛状部分

3…绝缘膜

10…带透明导电膜的基板

a1…除去区域

a2…非除去区域

a3…边界区域