专利名称：一种pcb板的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及PCB制造领域，具体涉及PCB板上Mark点的制作。
背景技术：
在密封盖板掩膜曝光过程中，对盖板尺寸进行定位的同时实现对Mark点定位，定位方法是在密封盖板的上下两表面各附着一张定位胶片基板，各定位胶片基板上均标注有密封盖板的图形尺寸和Mark点的相对位置，由此实现对Mark点的定位。该类线路板的Mark点在制作中，由于Mark点周围均为基材区域，如碱性蚀刻时蚀刻液的流动过快经常导致Mark点过蚀，从而在密封盖板掩膜曝光过程中，产生标识不清晰、不完整，对盖板尺寸无法进行定位的问题，这将直接导致PCB板成品报废，增加企业成本。
发明内容本实用新型需解决的问题是提供一种能够有效保护板面Mark点的PCB板。本实用新型采取的技术方案为提供一种PCB板，包括蚀刻于PCB板上的电子线路及MARK点，所述MARK点外围设有用于保护MARK点的蚀刻而成的保护圈。优选的，所述保护圈宽度为8-10mil。优选的，所述保护圈设置于距Mark点外围0. 8-lmm处。本实用新型通过在PCB板的Mark点周围设置保护圈，可有效防止PCB板制作的碱性蚀刻工艺中由于水池效应、碱性蚀刻液流动而对Mark点造成的损坏，进而保证密封盖板掩膜曝光过程中，Mark点对位标识清晰、完整，使盖板尺寸定位更精确，减少了 PCB板不必要报废，降低企业生产成本。
图1为本实用新型所述PCB板结构示意图。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解，下面将结合附图对本实用新型作进一步的详细描叙。如图1，本实用新型主旨是在PCB 1上的Mark点10周围增设保护圈20，以防止 PCB板制作的碱性蚀刻工艺中由于水池效应、碱性蚀刻液流动而对Mark点造成的损坏。该保护圈20为设置在距Mark直径外围约0. 8-lmm之外，与MARK点形状相同，围绕在MARK点周围的蚀刻而成的封闭体。图1所示实施例中，MARK点为圆形，因此保护圈对应为环形。其制作流程为在丝印资料设计时直接设计出该保护圈图形，通过曝光显影使图形转移至PCB板，对PCB板进行蚀刻得到相应的线路、MARK点及其保护圈，腿锡等其它工艺。该保护圈的宽度K 一般控制在8-10mil，且该保护圈与MARK点之间还具有0. 8-lmm的间隔，该间隔区域为基材区域，8_10mil的保护圈宽度足够应对碱性蚀刻工艺中的水池效应，也不至于增加较多成本。这样即使碱性蚀刻过程中水池效应、碱性蚀刻液流动只能对保护圈产生损坏，再加上有基材区域阻隔，可完全避免MARK点受损。本实用新型设计简单，保护圈制作流程简洁，可操作性大，最终成品板良率高、品质稳定，适合大批量性的生产。需要说明的是，在没有脱离本实用新型构思的前提下，任何显而易见的替换均应落入本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种PCB板，包括蚀刻于PCB板上的电子线路及MARK点，其特征在于所述MARK点外围设有用于保护MARK点的蚀刻而成的保护圈。
2.根据权利要求1所述的PCB板，其特征在于，所述保护圈宽度为8-10mil。
3.根据权利要求2所述的PCB板，其特征在于，所述保护圈设置于距Mark点外围 0. 8-lmm 处。
专利摘要本实用新型涉及PCB制造领域，具体是涉及一种PCB板。所述PCB板包括蚀刻于PCB板上的电子线路及MARK点，该MARK点外围设有用于保护MARK点的蚀刻而成的保护圈；所述保护圈宽度为8-10mil；所述保护圈设置于距Mark点直径外围0.8-1mm处。本实用新型通过在PCB板的Mark点周围设置保护圈，可有效防止PCB板制作的碱性蚀刻工艺中由于水池效应、碱性蚀刻液流动而对Mark点造成的损坏，进而保证密封盖板掩膜曝光过程中，Mark点对位标识清晰、完整，使盖板尺寸定位更精确，减少了PCB板不必要报废，降低企业生产成本。
文档编号H05K1/02GK202210905SQ201120367739
公开日2012年5月2日 申请日期2011年9月29日 优先权日2011年9月29日
发明者刘冬, 叶汉雄, 周刚, 王予州 申请人:惠州中京电子科技股份有限公司