一种分散式扩散炉进气装置及含有此进气装置的扩散炉的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种分散式扩散炉进气装置及含有此进气装置的扩散炉。该分散式扩散炉进气装置包括进气管和石英直管，进气管的出气端与石英直管的一端相连接，石英直管的管壁开设有第一小孔，第一小孔为内窄外宽的圆锥形。本实用新型的分散式扩散炉进气装置通过石英直管的第一小孔使工艺化学气体均匀的喷淋在硅片上，并提高了气流的均匀性，保证了硅片方块电阻的均匀性，减小了废片的产生，提高了产品的合格率。
【专利说明】一种分散式扩散炉进气装置及含有此进气装置的扩散炉
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及扩散炉【技术领域】，尤其涉及一种分散式扩散炉进气装置及含有此 进气装置的扩散炉。
【背景技术】
[0002] 扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立 器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
[0003] 现有使用的扩散炉，扩散气体进入炉体后垂直于硅片表面流动，难以在硅片背面 及硅片间隙内均匀分布，严重影响硅片方块电阻均匀性。 实用新型内容
[0004] 针对现有技术的不足，本实用新型一方面提供了一种分散式扩散炉进气装置，该 分散式扩散炉进气装置通过石英直管使工艺化学气体均匀的喷淋在硅片上，并提高了气流 的均匀性，保证了硅片方块电阻的均匀性，减小了废片的产生，提高了产品的合格率。
[0005] -种分散式扩散炉进气装置，包括进气管和石英直管，进气管的出气端与石英直 管的一端相连接，石英直管的管壁开设有第一小孔，第一小孔为内窄外宽的圆锥形。
[0006] 优选的，第一小孔在石英直管的管壁上均布设置。
[0007] 本实用新型另一方面提供了含有上述分散式扩散炉进气装置的扩散炉，该扩散炉 提高了气流的均匀性，保证了硅片方块电阻的均匀性，减小了废片的产生，提高了产品的合 格率。
[0008] -种含有上述分散式扩散炉进气装置的扩散炉，包括炉体，炉体内设有石英舟，石 英舟上放置有硅片，石英直管位于硅片的上方。
[0009] 优选的，石英舟中部开设有盲孔，石英舟上部开设有第二小孔，第二小孔与盲孔相 通，盲孔的开口处连接有出气管。
[0010] 优选的，炉体内设有连接装置，连接装置与石英直管相连接。
[0011] 优选的，炉体内设有气压传感器，进气管上设有进气阀，进气阀上连接有根据气压 传感器的信号来调节进气阀开度的控制装置。
[0012] 优选的，该扩散炉还包括转动装置，石英直管的另一端穿过所述连接装置与转动 装置相连接，石英直管在转动装置带动下沿中心轴转动。
[0013] 与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型提供的一种分散式 扩散炉进气装置包括进气管和石英直管，进气管的出气端与石英直管的一端相连接，石英 直管的管壁开设有第一小孔，第一小孔为内窄外宽的圆锥形。本实用新型的分散式扩散炉 进气装置通过石英直管使工艺化学气体充分分散并均匀的喷淋在硅片上，并提高了气流的 均匀性，保证了硅片方块电阻的均匀性，减小了废片的产生，提高了产品的合格率。
【专利附图】
【附图说明】
[0014] 图1为现有扩散炉的结构示意图；
[0015] 图2为本实用新型的结构示意图。
[0016] 附图标示如下：1_进气管、2-石英直管、3-硅片、4-连接装置、5-转动装置、6-石 英舟、7-出气管。
【具体实施方式】
[0017] 以下结合附图对本实用新型进行详细的描述。
[0018] 参见图1，本实施例一方面提供的一种分散式扩散炉进气装置，包括进气管1和石 英直管2,进气管1的出气端与石英直管2的一端相连接，石英直管2的管壁开设有第一小 孔，第一小孔为内窄外宽的圆锥形，第一小孔在石英直管2的管壁上均布设置。
[0019] 化学工艺气体通过石英直管2的第一小孔充分分散进入炉体内并均匀喷淋在硅 片3上，有效提高炉体内气场的均匀性，第一小孔为内窄外宽的圆锥形，有利于化学工艺气 体充分到达硅片3的每个角落，实现对硅片3全面的喷淋，从而保证了硅片3方块电阻的均 匀性，从而减小了废片的产生，提高了产品的合格率，本实用新型只需将开设有第一小孔的 石英直管2与现有扩散炉的进气管1的出气端相连，充分利用了现有扩散炉，结构简单、节 约成本。
[0020] 本实施例另一方面提供的一种含有上述分散式扩散炉进气装置的扩散炉，包括炉 体，炉体内设有石英舟6,石英舟6上放置有硅片3,石英直管2位于硅片3的上方，石英舟6 中部开设有盲孔，石英舟6上部开设有第二小孔，第二小孔与盲孔相通，盲孔的开口处连接 有出气管7,炉体内设有连接装置4,连接装置4与石英直管2相连接。
[0021] 化学工艺气体通过石英管的第一小孔喷淋位于下面的硅片3上，再通过石英舟6 上的第二小孔，进入盲孔和出气管7,化学工艺气体从上至下充分、均匀的对硅片3进行喷 淋，从而更好的保证了硅片3方块电阻的均匀性，连接装置4与石英直管2相连接，可以增 强石英直管2的稳定性。
[0022] 优选的，炉体内设有气压传感器，进气管1上设有进气阀，进气阀上连接有根据气 压传感器的信号来调节进气阀开度的控制装置。本实施例可通过气压传感器实现对炉体 内的气压实时监控，并可以通过控制装置对炉体内气压进行及时调节，使其气压保持稳定， 是化学气体均匀稳定的喷淋在硅片3上，保证了硅片3方块电阻的均匀性，减小了废片的产 生，提商了广品的合格率。
[0023] 优选的，该扩散炉还包括转动装置5,石英直管2的另一端穿过所述连接装置4与 转动装置5相连接，石英直管2在转动装置5带动下沿中心轴转动。
[0024] 石英直管2在转动装置5带动下沿中心轴转动，使化学工艺气体通过第一小孔达 到充分分散，进一步实现气场的优化分布，使化学工艺气体更加均匀喷淋在硅片3上。
[0025] 申请人:声明，本实用新型通过上述实施例来说明本实用新型的详细结构和工艺， 但本实用新型并不局限于上述详细结构和工艺，即不意味着本实用新型必须依赖上述详细 结构和工艺才能实施。所属【技术领域】的技术人员应该明白，对本实用新型的任何改进，对本 实用新型产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本实用新 型的保护范围和公开范围之内。
【权利要求】
1. 一种分散式扩散炉进气装置，其特征在于，包括进气管（1)和石英直管（2)，所述进 气管（1)的出气端与所述石英直管（2)的一端相连接，所述石英直管（2)的管壁开设有第 一小孔，所述第一小孔为内窄外宽的圆锥形。
2. 根据权利要求1所述的分散式扩散炉进气装置，其特征在于，所述第一小孔在所述 石英直管（2)的管壁上均布设置。
3. -种含有权利要求1所述的分散式扩散炉进气装置的扩散炉，其特征在于，包括炉 体，所述炉体内设有石英舟（6)，所述石英舟（6)上放置有硅片（3)，所述石英直管（2)位于 所述硅片（3)的上方。
4. 根据权利要求3所述的扩散炉，其特征在于，所述石英舟（6)中部开设有盲孔，所述 石英舟（6)上部开设有第二小孔，所述第二小孔与所述盲孔相通，所述盲孔的开口处连接 有出气管（7)。
5. 根据权利要求3所述的扩散炉，其特征在于，所述炉体内设有连接装置（4)，所述连 接装置（4)与所述石英直管（2)相连接。
6. 根据权利要求3所述的扩散炉，其特征在于，所述炉体内设有气压传感器，所述进气 管（1)上设有进气阀，所述进气阀上连接有根据气压传感器的信号来调节进气阀开度的控 制装置。
7. 根据权利要求5所述的扩散炉，其特征在于，还包括转动装置（5)，所述石英直管（2) 的另一端穿过所述连接装置（4)与转动装置（5)相连接，所述石英直管（2)在所述转动装 置（5)带动下沿中心轴转动。
【文档编号】C30B31/16GK204023004SQ201420381048
【公开日】2014年12月17日 申请日期:2014年7月10日 优先权日:2014年7月10日
【发明者】沈少杰 申请人:苏州矽美仕绿色新能源有限公司