不致敏无规则透气胶带及其制备方法与流程

文档序号:12045477阅读:301来源:国知局

本发明涉及一种不致敏无规则透气胶带及其制备方法,属于医疗运动护理用品技术领域。



背景技术:

目前,国内生产的胶带,如橡皮膏等都采取天然橡胶为原料制作胶黏剂,从而制作

胶带,这类胶带不透气,人们在使用时感觉舒适性差;且因为天然橡胶中含有蛋白质成分,

有些人群在使用时会出现皮肤过敏。

同时,现有的医用胶带其边缘处是处于胶带和伤口的分界点,此处极易导致厌氧细菌和好氧细菌的双重滋生,从而引发伤口内部的感染,现有的医用胶带一直无法解决该问题。



技术实现要素:

1.发明要解决的技术问题

本发明的目的是提供一种不致敏无规则透气胶带及其制备方法,旨在解决不透气、使用舒适性差和皮肤过敏等问题。

2.技术方案

本发明的目的通过以下技术方案来实现:

不致敏无规则透气胶带,包含基材,在基材表面涂覆有胶黏剂层,胶黏剂层上设有形状

无规则的透气孔。

进一步地,上述的不致敏无规则透气胶带,所述基材为平纹针织布或者无纺布。

进一步地,所述基材外表面的边缘处涂覆有一层光触媒杀菌层,该光触媒杀菌层原料的重量比为:纳米二氧化钛5~9份、纳米二氧化硅7~10份、碳纤维颗粒5~11份、植物胶20~25份,将上述原料按比例混合均匀可制得光触媒杀菌层;所述植物胶为阿拉伯胶、松香、糊精中的一种或多种。

更进一步地,上述的不致敏无规则透气胶带,所述胶黏剂层为合成胶胶黏剂层,所述合成胶胶黏剂的成分质量百分比为:合成胶为10 ~ 20%,增粘树脂为8 ~ 20%,氧化锌为5 ~ 15%,软化剂为0.1 ~ 1.5%,防老剂为0.1 ~ 0.5%,溶剂油为50 ~ 65% 。

不致敏无规则透气胶带的制备方法,包括以下步骤:

①制备合成胶胶黏剂:先将合成胶溶于溶剂油,然后依次加入增粘树脂、氧化锌、软化剂、防老剂等,搅拌混匀后,过滤除去气泡;

②在基材表面涂覆上述合成胶胶黏剂;

③将涂覆有胶黏剂层的基材通过涂胶辊与复合辊之间,以不同转速,控制涂胶辊与复合辊的速度差,在基材的胶黏剂层上产生摩擦透气孔。

3.有益效果

本发明技术方案突出的实质性特点和显著的进步主要体现在:

本发明在保证胶带应有粘度的情况下,增加产品的透气性,提高产品的舒适性。使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤,透气性较好。

附图说明

下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:

图1 :本发明的截面结构示意图。

具体实施方式

本发明设计一种不致敏无规则透气胶带,胶带不仅有形状无规则的透气孔,且使用的胶黏剂采用合成胶为主要原料制作而成,不含蛋白质,在使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤。

如图1 所示,不致敏无规则透气胶带,包含基材1,在基材1 表面涂覆有胶黏剂层2,胶黏剂层2 上设有形状无规则的透气孔3。

其中,基材1 为平纹针织布或者无纺布。

所述基材外表面的边缘处涂覆有一层光触媒杀菌层,该光触媒杀菌层原料的重量比为:纳米二氧化钛5~9份、纳米二氧化硅7~10份、碳纤维颗粒5~11份、植物胶20~25份,将上述原料按比例混合均匀可制得光触媒杀菌层;所述植物胶为阿拉伯胶、松香、糊精中的一种或多种。其中,光触媒杀菌层中含有纳米二氧化钛和纳米二氧化硅,能够发挥光触媒杀菌的作用,具体光触媒是一种以纳米级二氧化钛(二氧化硅)为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称,它在紫外光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理。同时,光触媒杀菌层中碳纤维具有极高的比表面积(可达1000~3000m2/g),有利于纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的吸附,有效扩大光触媒的采光面积,最终提升杀灭多种细菌的功能,采用本发明的医用胶带,能够有效抑制医用胶带其边缘处厌氧细菌和好氧细菌的双重滋生,有效避免伤口内部的感染。

胶黏剂层2 为合成胶胶黏剂层,所述合成胶胶黏剂的成分质量百分比为:合成胶为10 ~ 20%,增粘树脂为8 ~ 20%,氧化锌为5 ~ 15%,软化剂为0.1 ~ 1.5%,防老剂为0.1 ~ 0.5%,溶剂油为50 ~ 65% 。

不致敏无规则透气胶带的制备工艺为:

①制备合成胶胶黏剂:先将合成胶溶于溶剂油,然后依次加入增粘树脂、氧化锌、软化剂、防老剂等,搅拌混匀后,过滤除去气泡;

②在基材表面涂覆上述合成胶胶黏剂;

③将涂覆有胶黏剂层的基材通过涂胶辊与复合辊之间,以不同转速,控制涂胶辊与复

合辊的速度差,在基材的胶黏剂层上产生摩擦透气孔。

综上所述,本发明在保证胶带应有粘度的情况下,增加产品的透气性,提高产品的舒适性。使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤,透气性较好。

需要理解到的是:以上所述仅是本发明的优选实施方式,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

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