专利名称：光掩模清洗机的液体分配盘的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光掩模清洗机的液体分配盘，属于光掩模清洗机 技术领域。
背景技术：
在光掩模清洗和甩干的过程中，为避免尘埃颗粒对在清洗的光掩模产 生污染，通常是将光掩模放在一个相对封闭的处理舱内，在电机驱动下， 光掩模在旋转的情况下进行清洗。故而光掩模正面被化学处理时，处理舱 的内壁上会溅有液滴，若不及时冲洗干净这些液滴，其产生的结晶颗粒会 对后续清洗的光掩模产生污染。因此，需定期冲洗处理舱内壁以防止结晶 的产生。此外，当光掩模正面被化学处理时，在其背面需用水不间断进行冲 洗，以保证光掩模背面不被正面流淌下来的化学药剂污染。目前公开用于 光掩模的清洗机，其进液机构均采用管道式结构，各管道穿过安装在电机 顶部的密封盖，并与设置在处理舱内的三通接头连接，对光掩模和处理舱 内壁进行清洗。这种液体分配机构是每个管道与一个喷嘴相配，由于需要 多个喷嘴对处理舱的内壁进行冲洗，造成进液管道及接头较多，密封结构 复杂，占有空间大，阻碍了处理舱的小型化设计。
发明内容
本实用新型的目的上提供一种结构紧凑、体积小的光掩模清洗机的液 体分配盘。
本实用新型为达到上述目的的技术方案是 一种光掩模清洗机的液体 分配盘，包括盘体、贯穿盘体的安装孔以及设置在盘体内两个独立的第一 液体流道和第二液体流道，所述的第一液体流道由第一环形道和与第一环 形道相通的进液流道及出液流道构成，六个以上的出液流道沿盘体径向分 布且，该出液流道的流道出口位于盘体的径向外周面；所述的第二液体流道由第二环形道和与第二环形道相通的进液流道及出液流道构成，三个以 上的出液流道沿盘体轴向分布，该出液流道的流道出口位于盘体的上端面。本实用新型的液体分配盘采用两个独立的液体流道结构，其中第一液 体流道有一个进液流道和六个以上的出液流道，且该出液流道是沿盘体径 向分布，其流道位于盘体径向的外周面；而第二液体流道也有一个进液流 道和三个以上的出液流道，该流道出口位于盘体的上端面，因此盘体通过 内部两个环形流道将两路清洗液进行合理分配，并通过安装在分配盘外周 面的流道出口处的喷嘴和上端面的流道出口处的喷嘴分别对光掩模背面及 处理舱的内壁进行冲洗。本实用新型通过盘体对液体进行分配，因无管道 之间连接，简化了密封结构，使液体分配机构简洁，能大幅度减小液体分 配机构在处理舱内的体积。本实用新型的分配盘由于占用处理舱内的空间 小，可实现处理舱的小型化设计。
以下结合附图对本实用新型的实施例作进一步的详细描述。
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是
图1的A-A剖视结构示意图。 图3是
图1的B-B剖视结构示意图。
图4是本实用新型的液体分配盘安装在处理舱内的结构示意图。
其中l一第一液体流道，ll一出液流道，12—第一环形流道，13— 进液流道，2—盘体，3—安装孔，4一第二液体流道，41一第二环形流道， 42—进液流道，43—出液流道，5—外罩，6—底座，7—内套。
具体实施方式
见
图1所示，本实用新型光掩模清洗机的液体分配盘，包括盘体2、贯 穿盘体2的安装孔3以及设置在盘体2内两个独立的第一液体流道1和第 二液体流道4。见
图1、 2所示，本实用新型的第一液体流道1由第一环形 流道12和与第一环形流道12相通的进液流道13及出液流道11构成，六 个以上的出液流道43沿盘体径向分布，第一液体流道1的出液流道11为 6 12个均布设置，而出液流道43的流道出口位于盘体2的径向外周面，第 一液体流道1的进液流道13的流道进口则位于盘体2的底面，进液管通过 管接头与该进液流道13连接，喷嘴则安装在盘体2外周面的各流道出口处。 见
图1、 3所示，本实用新型的第二液体流道4由第二环形流道41和与第
二环形流道41相通的进液流道42及出液流道43构成，第二液体流道4的 出液流道43是沿盘体轴向3个以上分布，该出液流道43的流道出口则位 于盘体2的上端面，而第二液体流道4的进液流道42的流道进口则位于盘 体2的底面，进液管通过管接头与该进液流道42连接，喷嘴则安装在盘体 2上端面的流道出口处。
见
图1、 3所示，本实用新型的第二环形流道41位于第一环形流道12 的内侧，能简化加工工艺，降低加工成本。见图4所示，本实用新型的光 掩模清洗机的液体分配盘通过螺栓安装在底座6上，并与内套7密封连接， 电机的输出轴则穿过盘体2上的安装孔3，使盘体2与内套7形成一个封闭 空间，对电机进行保护，而内套7与外罩5之间形成一个处理舱，当电机 带动光掩模旋转时，安装在盘体2上端面流道出口处的喷嘴对光掩模的背 面进行冲清，而安装在盘体2外周面的流道出口处的喷嘴则对处理舱的内 壁进行冲洗。
权利要求1、一种光掩模清洗机的液体分配盘，其特征在于包括盘体(2)、贯穿盘体(2)的安装孔(3)以及设置在盘体(2)内两个独立的第一液体流道(1)和第二液体流道(4)，所述的第一液体流道(1)由第一环形流道(12)和与第一环形流道(12)相通的进液流道(13)及出液流道(11)构成，六个以上的出液流道(43)沿盘体(2)径向分布，该出液流道(43)的流道出口位于盘体(2)径向的外周面；所述的第二液体流道(4)由第二环形流道(41)和与第二环形流道(41)相通的进液流道(42)及出液流道(43)构成，三个以上的出液流道(43)沿盘体(2)轴向分布，该出液流道(43)的流道出口位于盘体(2)的上端面。
2、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的液体分配盘，其特征在于 所述第一液体流道(1)的出液流道(11)为6 12个。
3、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的液体分配盘，其特征在于 所述的第二环形流道(41)位于第一环形流道(12)的内侧。
4、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的液体分配盘，其特征在于 所述第一液体流道(1)的进液流道(13)和第二液体流道(4)的进液流 道(42)的流道进口均位于盘体(2)的底面。
专利摘要本实用新型涉及一种光掩模清洗机的液体分配盘，属于光掩模清洗机技术领域。主要包括盘体、贯穿盘体的安装孔以及设置在盘体内两个独立的第一液体流道和第二液体流道，所述的第一液体流道由第一环形道和与第一环形道相通的进液流道及出液流道构成，六个以上的出液流道沿盘体径向分布，且该出液流道的流道出口位于盘体径向的外周面；所述的第二液体流道由第二环形道和与第二环形道相通的进液流道及出液流道构成，三个以上的出液流道沿盘体轴向分布，该出液流道的流道出口位于盘体的上端面。本实用新型具有结构紧凑、体积小的特点，有效减少光掩模清洗机处理舱的体积。
文档编号B08B3/02GK201175710SQ20082003406
公开日2009年1月7日 申请日期2008年4月14日 优先权日2008年4月14日
发明者飞 徐, 金海涛 申请人:飞 徐