专利名称：光掩模清洗机的工艺处理舱的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱，属于光掩模清洗机 技术领域。
背景技术：
光掩模在清洗和甩干的过程中，为避免产生颗粒污染，通常是将光掩 模放在一个相对封闭的工艺处理舱内。在处理过程中，光掩模处于旋转状 态。为避免工艺处理舱外的尘埃颗粒对正在清洗及甩干的光掩模产生污染， 通常在工艺处理舱上方安装有空气过滤器以过滤空气中的尘埃，过滤后的 空气被送入工艺处理舱内，以维护工艺处理舱内的洁净氛围。现有工艺处 理舱均为直桶形结构， 一方面工艺处理舱内的体积较大，造成工艺处理舱 内抽入的洁净空气流较为紊乱，使舱内的微粒会对光掩模造成交叉污染。 另外，工艺处理舱采用直桶形的内壁，从光掩模上甩出的液滴会反溅回光 掩模上造成二次污染，而影响光掩模的清洗效果。
发明内容
本实用新型的目的上提供一种能减少对光掩模交叉污染，提高光掩模 清洗效率的工艺处理舱。
本实用新型为达到上述目的的技术方案是 一种光掩模清洗机的工艺 处理舱，包括外罩、内套和顶盖，其特征在于所述的外罩由从上到下依 次密封连接的上罩、中罩和底罩构成，上罩具有圆锥形的罩壁，中罩的罩 壁上设有一个抽气口，且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈，挡流圈延伸并 超过抽气口，具有排液口的底罩与内套的下部密封连接，顶盖密封安装在 内套的上部。
本实用新型工艺处理舱的抽风口设在中罩的罩壁，因此能保证工艺处 理舱底部的积液不会被抽到排风管中，加之中罩内设置一个倒锥形的挡流 圈， 一方面能减少工艺处理舱的有效体积，另一方面，在该挡流圈的作用 下，使抽入工艺处理舱内的洁净空气能形成垂直向下的气流，以维护工艺 处理舱内均匀垂直向下的空气流的气体氛围，避免了工艺处理舱内微粒交 叉而污染芯片。本实用新型采用圆锥形的上罩，也使得从光掩模上甩出的 液滴弹到工艺处理舱的下方，而非反溅回光掩模上造成二次污染，故能大 幅度减少光掩模被二次污染几率，而提高光掩模清洗效率。本实用新型工 艺处理舱的外罩采用上罩、中罩和底罩的组装式结构，不仅能减小了工艺 处理舱的制造成本和加工难度，同时，组装式结构的外罩为工艺处理舱内 的部件维修提供了方便。
以下结合附图对本实用新型的实施例作进一步的详细描述。
图1是本实用新型的结构示意图。
其中1—上罩，2—顶盖，21—第二流道，22—第一流道，3—底座， 4一内套，5—中罩，51—挡流圈，52—抽气口， 6—底罩，61—排液口。
具体实施方式
见
图1所示，本实用新型光掩模清洗机的工艺处理舱，包括外罩、内 套4和顶盖2，该外罩由从上到下依次密封连接的上罩1、中罩5和底罩6 构成，该上罩1具有圆锥形的罩壁，使从光掩模上甩出的液滴弹到工艺处 理舱的下方，该上罩1最好是中上部为圆锥形的罩壁，而中下部为直桶形 的罩壁，该圆锥形的锥角控制在30。 60°之间。本实用新型中罩5的罩 壁上设有一个抽气口 52，中罩5内具有一个倒锥形的挡流圈51，该挡流圈 51的罩壁与中罩5的罩壁之间的夹角A可控制在10。 30°之间，且挡流 圈51延伸并超过抽气口 52，通过该挡流圈51使抽入工艺处理舱内的空气 流能形成垂直向下的气流，再通过抽气口 52经出气管将工艺处理舱内空气 抽出，有效避免工艺处理舱内微粒的交叉污染。见
图1所示，本实用新型 的底罩6具有排液口61，底罩6与内套4的一端密封连接，该内套4具有 具有波纹状的可伸縮外壁，因此能保证工艺处理舱的密封性的同时，可实 现光掩模上下运动的功能，顶盖2密封安装在内套4的上部，或如
图1所 示，顶盖2的下部还密封连接一个底座3，并与内套4的上部密封连接。
见
图1所示，本实用新型的顶盖2具有贯穿顶盖2的安装孔以及设置 在顶盖2内二个独立的第一流道22和第二流道21，该第一流道22由与顶 盖2底面相通的进液流道、外环形道以及沿顶盖2径向分布并与顶盖2外 周相通的八个以上的出液流道构成，而第二流道21也由与顶盖2底面相通的进液流道、内环形道以及沿顶盖2轴向并与顶盖2上端面相通的三个以 上出液流道构成。当电机带动光掩模旋转时，安装在顶盖2顶面出液流道 出口处的喷嘴对光掩模的背面进行冲清，而顶盖2径向外周的八个出液出 流通口处的喷嘴则对工艺处理舱的内壁进行冲洗。
权利要求1、一种光掩模清洗机的工艺处理舱，包括外罩、内套(4)和顶盖(2)，其特征在于所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩(1)、中罩(5)和底罩(6)构成，上罩(1)具有圆锥形的罩壁，中罩(5)的罩壁上设有一个抽气口(52)，且中罩(5)内具有一个倒锥形的挡流圈(51)，挡流圈(51)延伸并超过抽气口(52)，具有排液口(61)的底罩(6)与内套(4)的下部密封连接，顶盖(2)密封安装在内套(4)的上部。
2、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于 所述中罩(5)内的挡流圈(51)与中罩(5)的罩壁之间的夹角A在10° 30°之间。
3、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于 所述上罩(1)的中上部呈锥形，中下部为直桶形，且锥形的锥角在30。
60°之间。
4、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于 所述的内套(4)具有波纹状的可伸缩外壁。
5、 根据权利要求1所述的光掩模清洗机的工艺处理舱，其特征在于所述顶盖(2)具有贯穿顶盖(2)的安装孔以及设置在顶盖(2)内二个独 立的第一流道(22)和第二流道(21)，该第一流道(22)由与顶盖底面相 通的进液流道、外环形道以及沿顶盖径向并与顶盖外周相通的八个以上的 出液流道构成，第二流道(21)也由与顶盖底面相通的进液流道、内环形 道以及沿顶盖轴向分布并与顶盖上端面相通的三个以上出液流道构成。
专利摘要本实用新型涉及一种光掩模清洗机的工艺处理舱，属于光掩模清洗机技术领域。主要包括外罩、内套和顶盖，所述的外罩由从上到下依次密封连接的上罩、中罩和底罩构成，上罩具有圆锥形的罩壁，中罩的罩壁上设有一个抽气口，且中罩内具有一个倒锥形的挡流圈，挡流圈延伸并超过抽气口，具有排液口的底罩与内套的下部密封连接，顶盖密封安装在内套的上部。本实用新型具有能减少对光掩模交叉污染，提高光掩模清洗效率的特点。
文档编号B08B11/00GK201177730SQ20082003406
公开日2009年1月7日 申请日期2008年4月14日 优先权日2008年4月14日
发明者飞 徐, 金海涛 申请人:飞 徐