利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法
【专利摘要】本发明公开了利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法。具体步骤为：1)基底表面处理；2)制备八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液；3)制备羧基化石墨烯水溶液；4)微接触印刷；5)化学镀。本发明的有益效果：1.通过利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案，为微接触印刷行业提供了新思路，2.石墨烯是目前发现的电阻率最小的材料，它比其它线路如铜、银线路具有更强的导电性，3.酞菁类分子和羧基化石墨烯的结合，包括酞菁和石墨烯的π-π相互作用力，以及羧基化石墨烯的羧基与酞菁之间的配位键结合，因此结合非常紧密，4.八羟基酞菁锌原料易得、成本低、稳定，在工业应用上具有很大的潜力。
【专利说明】利用八超基駄菁待进行微接触印刷石墨婦图案的方法
【技术领域】
[0001] 本发明属于现代电子【技术领域】，特别涉及一种駄菁锋配合物作为墨水在微接触印 刷中的应用。
【背景技术】
[0002] 表面微构建技术正逐渐体现出在重要应用价值，特别是微接触印刷技术，其能够 在小尺寸上微图案化，在多个领域特别是现代电子【技术领域】具有重要意义。目前可供选择 的微接触印刷墨水较少，也局限了表面可进行微接触印刷的材料，大量的材料无法用微接 触印刷的方法制备表面图案。因而开发新的、稳定的的墨水具有很大的意义。
[0003] 为进一步丰富微接触印刷墨水和基底的选择，并且提升微接触印刷质量，有必要 进一步开发駄菁化合物在微接触印刷中的应用。駄菁锋配合物性能稳定，成膜质量高，可W 作为一种稳定的墨水应用于多种材料表面的微接触印刷；石墨帰电阻率只约1(T 6Q ?cm,比 铜或银更低，是目前发现的电阻率最小的材料，因此石墨帰线路比其它线路如铜、银线路具 有更强的导电性。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的是提供了利用八轻基駄菁锋进行微接触印刷石墨帰图案的方法，所 采用的技术方案是：
[0005] 利用八轻基駄菁锋进行微接触印刷石墨帰图案的方法，本发明采用的八轻基駄菁 锋，具有W下结构式：
[0006]
【权利要求】
1. 利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征在于：本发明采用的 八羟基酞菁锌，具有以下结构式：
将八羟基酞菁锌的二氯甲烷溶液作为微接触印刷的印刷剂，将PDMS印章的图案转移 至聚四氟乙烯基底，再利用酞菁和石墨烯的JI-Ji相互作用力在基底上得到精美的石墨烯 图案，具体步骤如下： 步骤1 :基底为聚四氟乙烯，将基底材料用乙醇超声清洗1小时，取出80°C真空干燥， 用6tlCo伽玛射线对其照射24h ;将照射后的基底200份放入三颈瓶中，加入4-乙烯基吡啶 1份，500份蒸馏水，80°C条件下反应1小时，得到表面含有吡啶基的基底； 步骤2 :将八羟基酞菁锌用二氯甲烷完全溶解； 步骤3 :将羧基化石墨烯溶于水中，超声1分钟使其均匀溶解； 步骤4 :将PDMS印章浸泡于八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液中1-2分钟，取出后于N2气流 中干燥30-60s，将涂有八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液的PDMS印章盖于表面含有吡啶基的基 底上，轻压10-20s，将PDMS印章图案转移至基底，得到印有图案的基底； 步骤5 :将印有图案的基底浸泡于石墨烯溶液中10-30min，取出后即可在基底上得到 精美的石墨烯图案。
2. 如权利要求1所述的利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征 在于：所述基底和乙醇的重量比为1 : 5-20。
3. 如权利要求1所述的利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征 在于：所述6°Co伽玛射线剂量为80-100KGy。
4. 如权利要求1所述的利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征 在于：所述八羟基酞菁锌二氯甲烷溶液浓度为l-l〇g/L
5. 如权利要求1所述的利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征 在于：所述羧基化石墨烯水溶液浓度为〇. l_2g/L。
6. 如权利要求1所述的利用八羟基酞菁锌进行微接触印刷石墨烯图案的方法，其特征 在于：所述N2流速为600ml/min。
【文档编号】B41M5/04GK104356742SQ201410619490
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年11月5日 优先权日:2014年11月5日
【发明者】苏炜, 李培源, 庞锦英 申请人:广西师范学院